「underlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The magnetic substance device has a substrate 22 of a nonmagnetic substance, a nickel-phosphorus layer 24 formed on the substrate 22, a chromium underlayer 26 formed on the nickel-phosphorus layer 24, a magnetic layer 28 formed on the chromium underlayer 26 and a chromium added carbon-base protective film 30 formed on the magnetic layer 28.例文帳に追加

非磁性体の基板２２と、基板２２上に形成されたニッケル−リン層２４と、ニッケル−リン層２４上に形成されたクロム下地層２６と、クロム下地層２６上に形成された磁性層２８と、磁性層２８上に形成されたクロム添加炭素系保護膜３０とを有する。 - 特許庁

In the roof structure with an air layer formed between a roofing material 4 and a roof underlayer material 1, the outdoor side of the roof underlayer material 1 is formed with a reflecting layer 2 with an average reflection factor of 10% or more in a light wavelength range of 3-25 μm.例文帳に追加

屋根葺材４と屋根下張材１との間に空気層が設けられている屋根構造において、該屋根下張材１の屋外側に光波長３μｍ〜２５μｍの範囲において平均１０％以上の反射率をもつ反射層２を設けることを特徴とする。 - 特許庁

A method includes: providing a semiconductor including a front side, a back side, and a PN junction, the front side including a pattern of conductive tracks including an underlayer and the back side including metal contacts; contacting the semiconductor with a monovalent copper plating composition; and plating a copper layer on the underlayer of the conductive tracks.例文帳に追加

前面、裏面およびＰＮ接合を含む半導体を提供し、下層を含む導電トラックのパターンを前記前面が含み、かつ前記裏面が金属接点を含んでおり；前記半導体を一価銅めっき組成物と接触させ；並びに導電トラックの下層上に銅をめっきする。 - 特許庁

To provide a technique for manufacturing a magnetic recording head having a reverse tapered shape, with which the retreat of a mask layer scarcely occurs in processing, and little engraving of an insulating underlayer occurs, by making a selection ratio of a wider range with respect to the mask layer and the insulating underlayer than that in the conventional technique available.例文帳に追加

従来技術に比べてマスク層及び下地絶縁層に対し広範囲の選択比をとることができ、これにより、加工時のマスク層の後退が殆どなく、下地絶縁層の堀り込みも小さい逆テーパ形状の磁気記録ヘッドの製造技術を提供する。 - 特許庁

The glass substrate forms an underlayer film 2 based on tin oxide and an insulation film 3 in a given order on the surface of alkali- containing glass substrate 1, and the sum of contents of chlorine and fluorine in the underlayer film 2 based on tin oxide is 50 ppm or less.例文帳に追加

アルカリ含有ガラス基板１の表面に、酸化スズを主成分とする下地膜２と絶縁膜３とをこの順に形成したガラス基板であって、酸化スズを主成分とする下地膜２の塩素及びフッ素の含有量が合計で５０ｐｐｍ以下であるディスプレイ用ガラス基板。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices further includes a step of manufacturing the thickened resist patterns by forming the resist patterns on an underlayer and then applying the thickening material on the surfaces of the resist patterns thereby thickening the resist patterns, and a step of patterning the underlayer by etching using the thickened resist patterns.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The heat-sensitive adhesive material includes a substrate having at least an underlayer and heat-sensitive adhesive layer in this order on its one face, in which the underlayer contains a thermoplastic resin whose glass transition temperature (Tg) is from not less than -70 °C to not more than 0 °C and hollow fillers.例文帳に追加

支持体と、該支持体の一方の面上に少なくともアンダー層及び感熱性粘着層をこの順に有し、該アンダー層が、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−７０℃以上０℃未満である熱可塑性樹脂及び中空フィラーを含有する感熱性粘着材料である。 - 特許庁

The method for removing polyurethane includes acting a liquid containing a solvent having a boiling point of ≥150°C and a carbonate salt or phosphate salt of an alkaline metal on the polyurethane layer formed on the underlayer not being constituted of polyurethane to thereby remove the polyurethane layer from the underlayer.例文帳に追加

ポリウレタンで構成されていない下地上に形成されたポリウレタン層に、沸点が１５０℃以上の溶媒とアルカリ金属の炭酸塩又はリン酸塩とを含む液を作用させて、前記ポリウレタン層を前記下地から除去することを特徴とするポリウレタンの除去方法。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlayer film excellent in storage stability and capable of forming a resist underlayer film excellent in adhesion to a resist film, improving the reproducibility of a resist pattern and having resistance to an alkali solution used for development and to oxygen ashing in resist removal.例文帳に追加

レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁

The organic thin film transistor element includes an upper layer of an underlayer including a compound selected from an inorganic oxide and inorganic nitride on the underlayer including a polymer formed as the lower layer, an electrode in contact with the upper layer of the lower extending layer, and also an electrode via a gate insulation layer.例文帳に追加

ポリマーを含む下引き層を下層として、その上に無機酸化物及び無機窒化物から選ばれる化合物を含有する下引き層上層を有し、該下引き層上層に接して電極を有し、更にゲート絶縁層を介して電極を有する有機薄膜トランジスタ素子。 - 特許庁

A first underlayer 12a, a Cr-Mn layer 15, a second underlayer 12b, a magnetic recording layer 13 of a Co alloy and a carbon protective layer 14 are successively deposited by DC magnetron sputtering on a nonmagnetic substrate 11 of an aluminum alloy having an Ni-P plating layer in a circumferential direction.例文帳に追加

円周方向にＮｉ−Ｐメッキ層を有するアルミ合金の非磁性基体１１上に、第１下地層１２ａと、Ｃｒ−Ｍｎ層１５と、第２下地層１２ｂと、Ｃｏ合金の磁性記録層１３と、カーボン保護層１４とが順次ＤＣマグネトロンスパッタ成膜されている。 - 特許庁

To make it possible to suppress formation of a magnetic wall without using special equipment by controlling roughness of a surface on which a soft magnetic underlayer is to be formed in a proper range in a disk substrate for a perpendicular magnetic recording medium wherein the soft magnetic underlayer is formed on a non-magnetic substrate.例文帳に追加

非磁性基体上に軟磁性下地層を形成してなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板において、軟磁性下地層を形成すべき表面の粗さを適正範囲内に制御することにより、特殊な設備を用いることなく磁壁の形成の抑制を可能とする。 - 特許庁

The high luminance coated can is characterized by forming the underlayer 3 printed with an underlying ink on the surface to be coated 2 of the can 1 and an overlayed layer 4 coated with an outer face paint containing a light reflective pigment 10 so that the underlayer 3 is covered.例文帳に追加

缶体１の被塗装面２に、下地インキが印刷されてなる下地層３と、この下地層３を被覆するようにして、光反射型顔料１０を含有する外面塗料が塗装されてなる上地層４とが形成されていることを特徴とする高輝度塗装缶。 - 特許庁

Accordingly, a silicon dioxide forming an underlayer protection film 3 is suppressed in its amount of the inclusion of absorbed water, and a water content is diffused, particularly, into a semiconductor film 14 under the operating temperature of a thin film transistor 1 as an impurity from the underlayer protection film 3 in order to prevent the application of an adverse effect on the operating characteristics.例文帳に追加

これによって、下地保護膜３を構成する二酸化シリコンは、吸蔵水の含有量が抑えられ、薄膜トランジスタ１の動作温度において、下地保護膜３から水分が不純物として特に半導体膜１４へ拡散して、動作特性に悪影響を与えることが防止される。 - 特許庁

A machining object work includes an underlayer member having a surface layer portion consisting of a first material, an absorbing layer formed of a second material with close contact on the surface of the underlayer member, and a covering layer formed of a third material with close contact on the surface of the absorbing layer.例文帳に追加

第１の材料からなる表層部を有する下地部材と、下地部材の表面に密着し第２の材料で形成された吸収層と、吸収層表面に密着し第３の材料で形成された被覆層とを有する加工対象物を準備する。 - 特許庁

The underlayer film composition to be used for an underlayer film of a photoresist layer comprises a copolymer having a structural unit derived from an acryl monomer having adamantyl group which may have a substituent in a side chain and a structural unit derived from a hydroxystyrene derivative.例文帳に追加

フォトレジスト層の下層膜に用いられる下層膜用組成物であって、置換基を有してもよいアダマンチル基を側鎖に有するアクリルモノマーから誘導される構成単位と、ヒドロキシスチレン誘導体から誘導される構成単位とを含む共重合体を含む下層膜用組成物である。 - 特許庁

The underlayer is formed by spraying a polyurethane-curable composition and then the top coating layer is formed on the surface of the underlayer, and as a curing agent of the polyurethane-curable composition, diethyltoluenediamine and a low activity amine compound having lower reactivity with isocynate group than that of the diethyltoluenediamine are used in combination.例文帳に追加

ポリウレタン硬化性組成物を吹付け塗装して下地層を形成し、下地層の表面にトップコート層を形成する施工方法であって、ポリウレタン硬化性組成物の硬化剤として、ジエチルトルエンジアミンと、ジエチルトルエンジアミンよりイソシアネート基との反応性が低い低活性アミン化合物とを併用する。 - 特許庁

To provide an interior composite sheet which has both of a thermal insulation function and a moisture absorbing and releasing function, enables easy execution, enables execution of an existing underlayer as it is, and is suitably used especially as an underlayer sheet for an interior finishing material.例文帳に追加

本発明は、断熱と吸放湿の機能を併せ持ち、かつ容易に施工することができ、さらに既存の下地がある場合はそれをそのまま活用して施工することができ、特に内装仕上げ材の下地シートとして好適に用いられる内装用複合シートを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an underlayer sheet for waterproofing a urethane coating laminated between a concrete substrate and a urethane coated waterproofing layer, for use on a roof floor of a building, wherein the underlayer sheet is improved in adhesive strength to the urethane coated waterproofing layer, and also improved in adhesive strength between a surface material and a sheet portion.例文帳に追加

建築物の屋上等において用いられる、コンクリート下地とウレタン塗膜防水層との間に積層されるウレタン塗膜防水用下張りシートにおいて、ウレタン塗膜防水層との接着強度を向上させるとともに、表面材とシート部の接着強度を向上させる。 - 特許庁

This method for forming the laminated coating film has at least a step for forming an underlayer having brightness corresponding to a desired color of the laminated coating film on a surface of an object to be coated; and a step for forming a colored coating film layer containing a particulated coloring material having an average particle diameter of 30-300 nm on a surface of the underlayer.例文帳に追加

被塗物の表面に、目的とする積層塗膜の色相に応じた明度の下地層を形成する工程と、下地層の表面に、平均粒子径３０ｎｍ〜３００ｎｍの微粒化着色材を含有する着色塗膜層を形成する工程と、を少なくとも有する。 - 特許庁

The fixing implement 1 is used to fix the member to be fitted 9, having the fixing hole 10 penetrating in the direction of the thickness, to the underlayer material 11.例文帳に追加

固定具１は、厚み方向に貫通する固定用孔１０を有する被着材９を下地材１１に固定するために用いられる。 - 特許庁

As for a method for forming the underlayer 2, the initial layer part is deposited at a low gas pressure, and the surface layer is deposited at a higher gas pressure than the initial layer part.例文帳に追加

下地層２の形成方法としては、初期層部分は低ガス圧で成膜し、表面層は初期層部分よりも高ガス圧で成膜する。 - 特許庁

To simply and safely peel a gold-plated part at which gold is plated on a resin through a medium of a metallic underlayer, from the resin, collect the gold film, and recycle gold.例文帳に追加

樹脂に下地金属層を介して金メッキされた金メッキ部分を、簡単かつ安全に樹脂から剥離し、金を回収、リサイクルする。 - 特許庁

After a predetermined resist pattern is formed through a plurality of resist-pattern forming processes, the underlayer film is etched with the resist pattern as a mask.例文帳に追加

複数回のレジストパターン形成処理により所定のレジストパターンが形成された後、当該レジストパターンをマスクとして下地膜がエッチングされる。 - 特許庁

Therefore, the direction of easy axis of a magnetization of the soft magnetic underlayer of the perpendicular magnetic recording medium can be controlled relatively easily and reliably.例文帳に追加

従って垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層の磁化容易軸方向の制御が比較的容易に、かつ確実に行えるようになる。 - 特許庁

A wiring pattern 11 is formed on an underlayer insulating film 5 corresponding to the prescribed forming areas in both end portions of the metal thin film resistance material 23.例文帳に追加

下地絶縁膜５上に、金属薄膜抵抗体２３の両端部の形成予定領域に対応して配線パターン１１を形成する。 - 特許庁

To provide an underlayer cushioning material for film waterproofing works, by which there is no bulging phenomenon and which has excellent workability, and a waterproofing construction method using the underlay cushioning material.例文帳に追加

フクレ現象が起こらず、施工性に優れた塗膜防水工事用下張り緩衝材及びそれを用いる防水工法を提供する。 - 特許庁

The TaO_X film to be an underlayer is formed on a lower substrate and next, a first metal film consisting of Ta is formed on the TaO_X film.例文帳に追加

下側基板上に下地層となるＴａＯ_ｘ膜を形成し、次にＴａＯ_ｘ膜上にＴａからなる第１金属膜を形成する。 - 特許庁

Next, a first ink 16 is printed on an underlayer ink layer 15 by the screen printing process with the screen printing plate 12 and the squeegee 13.例文帳に追加

下地用インク層１５上に、スクリーン印刷用の版１２及びスキージ１３を用いて、第１インク１６をスクリーン印刷により印刷する。 - 特許庁

To provide a patterned medium having high density by preventing deterioration in a magnetic recording layer and formation of a protrusion due to elution of an element from an underlayer.例文帳に追加

磁性記録層の劣化、および下地層からの元素の溶出による突起の形成を防止し、高密度のパターンド媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a laminated pattern of higher reliability is formed with a simpler process without affecting an underlayer.例文帳に追加

下地に影響を与えることなく、より簡単な工程で信頼性の高い積層パターンを形成可能なパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The underlayer board members 160 and the top layer board members 170 are supported by corner studs 120C and intermediary studs 120M.例文帳に追加

これらの下張りボード部材１６０及び上張りボード部材１７０は、コーナースタッド１２０Ｃ及び中間スタッド１２０Ｍによって支持されている。 - 特許庁

By applying appropriate potential to the conductive layers, the path of the particles is controlled and the particles are deposited on the exposed underlayer with high accuracy.例文帳に追加

導電層に適切な電位を与えることで、粒子の軌道が制御され、露出した下地層に高精度に粒子を設けることができる。 - 特許庁

METHOD OF MAKING PROTECTIVE COATING FORMING THERMAL BARRIER WITH BONDING UNDERLAYER ON SUPERALLOY SUBSTRATE, AND PART OBTAINED THEREBY例文帳に追加

超合金基板上に結合下地層を有する熱障壁を形成する保護コーティングを作るための方法、及び該方法によって得られる部品 - 特許庁

The heat-insulation waterproof structure 1 is formed by laminating at least a heat insulation material 5 and a vinyl chloride resin sheet 6 on an underlayer surface 2 of a construction.例文帳に追加

断熱防水構造１は、構造物の下地面２に、少なくとも断熱材５および塩化ビニル樹脂系シート６が積層されてなる。 - 特許庁

A middle layer 6 having a nonmagnetic hcp structure is further disposed between the nonmagnetic underlayer and the magnetic layer containing CoCrPtTa.例文帳に追加

更に、非磁性の下地層と前述のＣｏＣｒＰｔＴａを含む磁性層との間に、非磁性のｈｃｐ構造を持つ中間層５を設ける。 - 特許庁

The underlayer film forming composition includes (A) a polymer having a predetermined structural unit, (B) a crosslinking agent having a butyl ether group, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）所定の構造単位を有する重合体と、（Ｂ）ブチルエーテル基を有する架橋剤と、（Ｃ）溶剤と、を含有する下層膜形成組成物。 - 特許庁

The resist underlayer film forming composition comprises a polymer having repeating units represented by general formulae (1)-(3) and a solvent.例文帳に追加

本レジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（３）で表される各繰り返し単位を有する重合体と溶剤とを含有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device for forming a film in comparatively higher film forming rate by preventing etching to the underlayer (N+).例文帳に追加

下地（Ｎ＋）へのエッチングを防ぎ、且つ比較的速い成膜レートで成膜することができる半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A polycrystalline underlayer composed of Ru or an alloy consisting essentially of Ru and having hexagonal closest packing structure is disposed on a substrate.例文帳に追加

基板の上に、Ｒｕを主成分とする六方最密充填構造の合金、またはＲｕからなる多結晶の下地層が配置されている。 - 特許庁

The underlayer preferably contains at least one or more other resins, wherein a dispersed phase is preferably formed by these two or more resins.例文帳に追加

下層は、少なくとも他の樹脂の１種以上を含み、これら２種以上の樹脂により、分散相が形成されているものが好ましい。 - 特許庁

To remove an antireflection film formed on an underlayer of a resist film so as not to influence the resist film, in a photolithography step of a wafer.例文帳に追加

ウェハのフォトリソグラフィー工程において、レジスト膜の下層に形成された反射防止膜を、レジスト膜に影響を与えないように除去する。 - 特許庁

The reflection film 91 is formed in an underlayer side of a photodiode 212 to overlap the photodiode 212 on the TFT array substrate 10.例文帳に追加

反射膜９１は、ＴＦＴアレイ基板１０上においてフォトダイオード２１２に重なるようにフォトダイオード２１２の下層側に形成されている。 - 特許庁

Thereby, a surface of the coil underlayer 47 is not oxidized by air exposure etc. and naturally, the contact layer 36 is not oxidized.例文帳に追加

これにより前記コイル下地層４７の表面は大気暴露等によっても酸化せず、当然、前記コンタクト層３６が酸化されることもない。 - 特許庁

An underlayer 2, which has a higher melting point than the joint member and high joining force, is formed between the member 3 and the substrate 1.例文帳に追加

接合部材３と光透過性基板１の間には接合部材より高い融点を有し、接合力の高い下地層２が形成されている。 - 特許庁