「underlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The resist underlayer film forming composition is used in a lithography process of semiconductor device manufacture, the resist underlayer film forming composition containing a silicon-containing polymer (a) and a polynuclear phenol (b).例文帳に追加

ケイ素含有ポリマー（ａ）、及び多核フェノール（ｂ）を含む半導体装置製造のリソグラフィー工程に用いるレジスト下層膜形成組成物。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成方法およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

UNDERLAYER BUFFER MATERIAL FOR COATING WATERPROOFING CONSTRUCTION, AND COATING WATERPROOFING CONSTRUCTION METHOD例文帳に追加

塗膜防水施工用下張り緩衝材及び塗膜防水施工法 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which an underlayer film can freely be worked without rupturing an etching mask formed on the underlayer film even when a material having a high carbon content is used for the underlayer film.例文帳に追加

下層膜に炭素含有量が高い材料を用いても、下層膜上に形成したエッチングマスクの破裂を起こすことなく、支障なく下層膜を加工することが可能なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an indication plate for instruments, equipped with an underlayer for bringing a display layer and a substrate into adhesion for making the underlayer visually observed as display designs.例文帳に追加

表示層と基板とを密着させる下地層を備え、下地層を表示意匠として目視させる計器用表示板を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSENSITIVE RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

UNDERLAYER FOR THERMAL SPRAY TREATMENT ON SURFACE OF CARBON FIBER REINFORCED PLASTIC MATERIAL例文帳に追加

炭素繊維強化プラスチック材料表面の溶射処理のための下地層 - 特許庁

An underlayer board is arranged on the other side of the stud and is fixed to the flange of the stud.例文帳に追加

スタッドの他側に下張りボードを配置し、スタッドのフランジへ固定する。 - 特許庁

A non-magnetic underlayer 3 and the magnetic layer 4 are disposed on the seed layer 2.例文帳に追加

シード層２上に非磁性下地層３および磁性層４が配置される。 - 特許庁

In the above constitution, a half band width Δθ_50 and total film thickness of the third underlayer 3 and the second underlayer 4 are suppressed to nearly 3° and nearly 3.5 nm, respectively.例文帳に追加

上記の構成で、Δθ_50を３度程度、第３下地層３と第２下地層４の合計膜厚を３．５ｎｍ程度に抑えることができる。 - 特許庁

The second underlayer 4 is made of Ta and the third underlayer 3 is made of a single body of Hf or Zr or an alloy containing Hf or Zr.例文帳に追加

本発明の特徴として、Ｔaからなる第２下地層４と、ＨfまたはＺrの単体、或いはその合金からなる第３下地層３を形成する。 - 特許庁

To provide an aromatic ring-containing polymer for a resist underlayer, a resist underlayer composition containing the polymer and a method for patterning a device.例文帳に追加

レジスト下層膜用芳香族環含有重合体、この重合体を含むレジスト下層膜組成物、および素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The particle diameter controlling layer 13 functions as a growth kernel for the underlayer 14 and controls the particle diameter of crystal particles of the underlayer 14 formed thereon.例文帳に追加

粒径制御層１３は下地層１４の成長核として機能し、その上に形成される下地層１４の結晶粒子の粒径を制御する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of dyeing, setting, performing an underlayer surface treatment to form an underlayer on a surface of the fabric, and performing a soil resistance processing treatment to form a soil-resistant protection film on the surface of the underlayer.例文帳に追加

製造方法は、染色ステップと、定着ステップと、布の表面に下層を形成するために下層表面処理を行うステップと、下層の表面に耐汚染性保護フィルムを成形するために耐汚染加工処理を行うステップとを含む。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film-forming method capable of forming a resist underlayer film that has a function as an antireflective film and that is excellent in pattern transfer performance and etching resistance, to provide an underlayer film that does not bend in micronized pattern transfer and a method of forming the underlayer; and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有すると共にパターン転写性能及びエッチング耐性が良好なレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成方法、微細化したパターン転写時においても曲がらない下層膜及びその形成方法、並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The master disk for optical disk has a substrate 10 having a polished surface, a first underlayer 11 formed on the polished surface of the substrate 10, a second underlayer 12 formed on the substrate 10 so as to cover the first underlayer 11 and an inorganic resist layer 13 formed on the second underlayer 12.例文帳に追加

表面を研磨した基板１０と、基板１０の研磨した面上に形成された第１下地層１１と、基板１０上に、第１下地層１１を覆うように形成された第２下地層１２と、第２下地層１２上に形成された無機レジスト層１３とを有する光ディスク用原盤である。 - 特許庁

The thickness of the second soft magnetic underlayer is in a range of 5nm to 20nm.例文帳に追加

第２軟磁性下地層は、その厚さが５ｎｍないし２０ｎｍの範囲内にある。 - 特許庁

It may be acceptable that the underlayer coating film consists of a mixture of Cr2N and Cr or of metal Cr.例文帳に追加

下層をCr_2NとCrとの混合物被膜、あるいは金属Cr被膜としてもよい。 - 特許庁

The intermediate layer is provided on the underlayer, and contains a layer containing AIN.例文帳に追加

前記中間層は、前記下地層の上に設けられＡｌＮを含む層を含む。 - 特許庁

A mask 3 which contours an oblong opening 4 is formed on the underlayer 2.例文帳に追加

下地膜２上に、細長い開口部４を輪郭づけるマスク３を形成する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

Next, unwanted part of the metal underlayer 7 is removed by etching process using the wiring protecting metal film 9 as a mask, leaving the metal underlayer 7 only under the wiring 8.例文帳に追加

次に、配線保護金属膜９をマスクとして下地金属層７の不要な部分をエッチングして除去し、配線８下にのみ下地金属層７を残存させる。 - 特許庁

ROOF PANEL, VENTING ROOF-UNDERLAYER STRUCTURE, AND VENTING STRUCTURE OF HIPPED ROOF AND BRANCHED ROOF例文帳に追加

屋根パネル、通気性屋根下地構造、寄棟屋根および分岐屋根の通気構造 - 特許庁

The magnetic recording medium is provided with a substrate (102), a underlayer (104), a lower magnetic layer (106) formed on the underlayer, an intermediate layer (108), and an upper magnetic layer (110) formed on the intermediate layer.例文帳に追加

磁気記録媒体は、基板(102)と、下層(104)と、下層上に形成された下側磁気層(106)と、中間層(108)と、中間層上に形成された上側磁気層(110)とを備える。 - 特許庁

An optional metal underlayer may be disposed between the substrate and the tin layer.例文帳に追加

所望により、基板と錫層との間に金属下地層を配設することもできる。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film exhibiting a barrier property, and a method of evaluation the barrier property of the resist underlayer film by converting it into a proper numeric value.例文帳に追加

バリア性を示すレジスト下層膜を形成するための組成物、及びレジスト下層膜のバリア性を適当な数値に換算して評価する方法を提供する。 - 特許庁

At the same time, a film thickness of a second underlayer electrode layer 33b of a selective gate transistor ST is made thicker than a film thickness of a first underlayer electrode layer 31a of a memory cell transistor MT.例文帳に追加

同時に、選択ゲートトランジスタＳＴの第２下層電極層３３ｂの膜厚をメモリセルトランジスタＭＴの第１下層電極層３１ａの膜厚より厚くする。 - 特許庁

A perpendicular recording layer is formed on a base plate via a soft magnetic underlayer, and further, an amorphous layer or a fine crystal layer is formed between the base plate and the soft magnetic underlayer.例文帳に追加

基板上に軟磁性下地層を介して垂直記録層を形成し、更に基板と軟磁性下地層との間に非晶質層或いは微結晶質層を形成する。 - 特許庁

HEMATITE PARTICLE POWDER FOR NONMAGNETIC UNDERLAYER OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録媒体の非磁性下地層用ヘマタイト粒子粉末及び磁気記録媒体 - 特許庁

A mask 3 which contours a striped opening 4 is formed on the underlayer.例文帳に追加

下地膜上に、ストライプ状の開口部４を輪郭づけるマスク３を形成する。 - 特許庁

The corner member 2 is arranged on the underlayer material 1 by the intermediary of a fixing metal piece 4.例文帳に追加

コーナー部材２は固定金具４を介して下地材１に設置されている。 - 特許庁

PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM INCLUDING SOFT MAGNETIC UNDERLAYER WITH DIFFUSION BARRIER LAYER INSERTED THEREIN例文帳に追加

拡散防止層の挿入された軟磁性下地層を備える垂直磁気記録媒体 - 特許庁

In this invention, it is effective that the underlayer is grounded to be held at 0 V.例文帳に追加

また、本発明において下地層をアースし、０ボルトとすることも有効である。 - 特許庁

The photoresist underlayer film forming material for forming an underlayer film of a photoresist layer contains a polymer containing a repeating unit represented by formula (1).例文帳に追加

下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んでなるポリマーを含有する、フォトレジスト層の下層膜を形成するためのフォトレジスト下層膜形成材料を提供する。 - 特許庁

A laminated body of an underlayer 8 and a conductor material 11 in the desired shape is formed on a substrate 1 by forming a resist pattern 10 on an underlayer material 9 formed at the surface of substrate 1, conducting the electrolytic-plating of the conductor material 11 to the surface of this underlayer 9 and removing, thereafter, the unwanted underlayer material 9 by peeling the resist pattern 10.例文帳に追加

基板１の表面に成膜した下地材料９上にレジストパターン１０を形成し、この下地材料９の表面に導体材料１１を電解めっきした後、レジストパターン１０を剥離して不要な下地材料９を除去することにより、基板１上に所望形状の下地層８と導体材料１１の積層体を形成する。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium has a substrate, a first soft magnetic underlayer formed on the substrate, a perpendicular anisotropic middle layer that is formed on the first soft magnetic underlayer and has perpendicular magnetic anisotropy, a second soft magnetic underlayer formed on the perpendicular anisotropic middle layer, a perpendicular magnetic recording layer formed on the second soft magnetic underlayer.例文帳に追加

基板と、基板上に形成された第１軟磁性下地層と、第１軟磁性下地層上に形成され、垂直磁気異方性を有する垂直異方性中間層と、垂直異方性中間層上に形成された第２軟磁性下地層と、第２軟磁性下地層上に形成された垂直磁気記録層と、を備える垂直磁気記録媒体である。 - 特許庁

The substrate device comprises an underlayer film formed on a substrate and having a first planar pattern with an edge part, an interlayer film formed on the underlayer film and the substrate in such a manner as to cover the edge part of the underlayer film and having an inclined part that inclines in accordance with one edge side at the edge part of the underlayer film, and an upperlayer film formed on the interlayer film.例文帳に追加

基板装置は、基板上に形成され、端部を有する第１平面パターンを持つ下層膜と、該下層膜及び基板上に下層膜の端部を覆うように形成され、下層膜の端部における一つの端面に対応して傾斜する傾斜部を有する層間膜と、該層間膜上に形成される上層膜とを備える。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium 100 has, on a substrate 101, a non-magnetic underlayer 102, a soft magnetic underlayer 103, a non-magnetic layer 104, a soft magnetic underlayer 105, non-magnetic intermediate layers 106, 107 and 108, a recording layer 109, a protective layer 110, and a lubricant layer 111.例文帳に追加

垂直記録媒体１００は、基板１０1上に非磁性下地層１０２、軟磁性下地層１０３、非磁性層１０４、軟磁性下地層１０５、非磁性中間層１０６，１０７，１０８、記録層１０９、保護層１１０および潤滑層１１１を有する。 - 特許庁

The barrier property of the resist underlayer film is evaluated using results obtained by determining: an amount of a sublimate generated when baking the first resist underlayer single layer in a prescribed condition; an amount of a sublimate generated when forming the second resist underlayer single layer by baking of a prescribed condition; and an amount of a sublimate generated when forming the second resist underlayer on the first resist underlayer by baking in a prescribed condition.例文帳に追加

そして、所定の条件で第１のレジスト下層膜単層をベークする際に発生する昇華物の量、第２のレジスト下層膜単層を所定の条件でベークして形成する際に発生する昇華物の量、及び第１のレジスト下層膜上に第２のレジスト下層膜を所定の条件でベークして形成する際に発生する昇華物の量を定量した結果を用いて、第２のレジスト下層膜のバリア性を評価する。 - 特許庁

To provide an ink jet recording medium which is excellent in underlayer strength and ink absorptiveness.例文帳に追加

アンダー層強度及びインク吸収性に優れたインクジェット記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film comprising an ionic liquid which can form a resist underlayer film having an antistatic function and solvent resistance, and to provide a method for forming a resist pattern using the resist underlayer film formed from the composition.例文帳に追加

イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物であって、帯電防止機能及び溶剤耐性を有するレジスト下層膜を形成することができる該組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF CAST-COATED PAPER, COATING LIQUID FOR UNDERLAYER AND INKJET CAST-COATED PAPER USING THE SAME例文帳に追加

キャスト紙の製造方法および下層用塗工液、それを用いたインクジェット用キャスト紙 - 特許庁

The method for forming a stacked structure including the amorphous carbon film on the underlayer, includes steps of: supplying an organic silicon gas on the underlayer to form an initial layer including a Si-C bond on the underlayer (t4); and forming the amorphous carbon film on the underlayer with a heating film formation (t6) supplying a film forming gas containing hydrocarbon gas on the underlayer on the surface of which the initial layer is formed.例文帳に追加

アモルファスカーボン膜を含む積層構造を下地層上に形成する方法は、前記下地層上に有機系シリコンガスを供給し、前記下地層の表面にＳｉ−Ｃ結合を含む初期層を形成する工程（ｔ４）と、前記初期層が表面に形成された前記下地層上に炭化水素化合物ガスを含む成膜ガスを供給し、前記下地層上に前記アモルファスカーボン膜を熱成膜で形成する工程（ｔ６）と、を具備する。 - 特許庁

To provide a technology by which a metal oxide layer covering an underlayer without any cracks is formed.例文帳に追加

下地を隙間なく被覆する金属酸化物層を形成する技術を提供する。 - 特許庁

UNDERLAYER FILM FORMING MATERIAL FOR HEAT LITHOGRAPHY, RESIST LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

熱リソグラフィー用下層膜形成用材料、レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁