原子分光分析の英語

高周波グロー放電発光分光分析法により分析したときの前記銅又は銅合金管の表面から２０ｎｍまでの表層部におけるＳｉ濃度の最大値が０．３乃至３０原子％である。例文帳に追加

According to an analysis by high-frequency glow discharge atomic emission spectrometry, the maximum value of Si concentration in a surface layer extended 20 nm from the surface of the copper or copper alloy tube is 0.3-30 atom%. - 特許庁

高周波グロー放電発光分光分析法により分析したときの管の表面から２０ｎｍまでの表層部におけるＳｉ濃度の最大値が０．３乃至３０原子％である。例文帳に追加

In an analysis by high-frequency glow discharge emission spectrometric analysis, the maximum value of Si concentration on a surface layer part up to 20 nm from the surface of the tube is 0.3-30 atom%. - 特許庁

分光器に入射する黒鉛管発光の反射光を制限し測定光量の低下を最小限として分析精度を向上できる電気加熱炉分析法による原子吸光光度計を実現する。例文帳に追加

To achieve an atomic absorption photometer according to an electrical heating oven analysis method for improving analysis accuracy by limiting the reflection light of the light emission of a graphite pipe entering a spectroscope and minimizing the reduction in the quantity of measured light. - 特許庁

補正用ランプを使用せずに、現実の測定状態に近い状態で波長補正を行なうことが可能な原子吸光分光光度計の波長補正方法、及びこの波長補正方法を用いた原子吸光分析法を提供する。例文帳に追加

To provide a wavelength correction method of an atomic absorption spectrophotometer that can correct a wavelength in conditions similar to actual measurement conditions without the use of a correction lamp, and an atomic absorption spectrophotometry using this wavelength correction method. - 特許庁

Ｃｕ含有量が０.５〜３.０質量％であり、オージェ電子分光分析により測定される極表層のＣｕ濃度が０.５原子％以下好ましくは０.１原子％以下であるオーステナイト系ステンレス鋼材。例文帳に追加

In the austenitic stainless steel, the content of Cu is 0.5 to 3.0 mass%, and concentration of Cu in an outermost surface layer measured by Auger electron spectral analysis is ≤0.5 atomic%, preferably, ≤0.1 atomic%. - 特許庁

液晶ポリマーからなるフィルムであって、その片側又は両側の表面部に窒素原子が存在し、Ｘ線光電子分光分析で測定した該窒素原子の濃度が２％以上であることを特徴とする高接着性液晶ポリマーフィルム。例文帳に追加

The highly adhesive liquid crystal polymer film comprises a liquid crystal polymer and has nitrogen atoms on its surface of either one side or both sides wherein the density of the above nitrogen atoms is at least 2% measured by using X-ray photoelectron spectroscopy. - 特許庁

（表面元素分析）：フォトレジスト膜の膜面に光電子分光装置を使用してＸ線を照射し、発生する二次電子の量を、前記膜面に対して９０°の角度で測定し、前記フォトレジスト膜のフッ素原子と炭素原子のそれぞれの分布量を測定する。例文帳に追加

The surface element analysis is carried out by irradiating a film surface of the photoresist film with X-rays using a photoelectron spectrometer, measuring the amount of generated secondary electrons at an angle of 90° with respect to the film surface, and measuring the respective distribution amounts of fluorine atoms and carbon atoms of the photoresist film. - 特許庁

式［Ｉ］で表される結晶相を含有する蛍光体であって、蛍光体粒子表面をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により分析した場合に検出される窒素原子量に対する酸素原子量の比（Ｏ／Ｎ比）が２．０以上であることを特徴とする蛍光体。例文帳に追加

The phosphor is a phosphor having a crystal phase represented by following formula [I], wherein the ratio (O/N ratio) of the amount of oxygen atoms to the amount of nitrogen atoms detected when the surface of a phosphor particle is analyzed by the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is 2.0 or greater. - 特許庁