自己研磨の英語

ウエハのノッチの研磨中に、自己発塵せず、長時間安定して、ノッチを傷つけずに研磨できる研磨パッド及び方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a grinder pad and its method capable of grinding a wafer without damaging the notch of the wafer stably for a long time without generating its own fragments when grinding the notch of the wafer. - 特許庁

基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、前記基材層に自己接着しており、かつ厚さが０．５〜１ｍｍであることを特徴とする研磨パッド。例文帳に追加

In the polishing pad provided with a polishing layer on a substrate layer, the polishing layer includes a thermosetting polyurethane foam having approximately spherical open cells and is self-adhered to the substrate layer, and thickness is 0.5-1 mm. - 特許庁

そして、ＴＭＲ素子１８をストップレイヤーとして研磨を停止し、自己整合的にＴＭＲ素子１８を露出させる。例文帳に追加

The polishing is stopped by the TMR element 18 as a stop layer and the TMR element 18 is exposed through self-alignment. - 特許庁

本発明の支持研磨材粒子成形体は、自己結合ダイヤモンド粒子又はＣＢＮ粒子の研磨材粒子層と一体接合したコバルト焼結炭化物支持体からなる。例文帳に追加

This support polishing material grain molding comprises a cobalt sintered carbide support body integrally jointed to a polishing material grain layer containing self-bonding diamond grains or CBN grains. - 特許庁

化学機械研磨装置に用いられるリテーナリングにおいて、自己および研磨パッドの摩耗を低く抑えることができ、長寿命化が図れるリテーナリングおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a retainer ring and a method of manufacturing the same, for lengthening the service life, by minimizing abrasion of itself and a polishing pad, in the retainer ring used for a chemical machine polishing device. - 特許庁

窒化膜２５より酸化膜２３に対して高い研磨選択比を有するスラリーでトレンチ素子分離膜２９の化学的な機械的な研磨（Ｃｈｅｍｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）工程をおこない、酸化膜より多結晶シリコンに対して高い研磨選択比を有するスラリーで自己整列フローティングゲートを形成してフラッシュメモリ素子を製造することを特徴とする。例文帳に追加

A chemical mechanical polishing step of a trench element separating film 29 is performed by a slurry having a high polishing selection ratio to an oxide film 23 rather than to a nitride film 25, a self-alignment floating gate is formed by a slurry having a high polishing selection ratio to a polycrystal silicon rather than to the oxide film, so that the flash memory cell is manufactured. - 特許庁

ハードディスクなどの研磨布として研磨したり、電子機器などを清掃するためのワイピングクロスとして使用した際に、オリゴマーなどを由来とする自己発塵微粒子や溶媒などにより抽出される低分子量物質の発生が少なく、またハードディスク表面や精密な電子部品を傷つけることのない研磨清掃用に適した分割型複合繊維を得ること。例文帳に追加

To provide a splittable conjugate fiber suitable for polishing and cleaning, which little generates self-dusted particles derived from oligomers and has a low molecular weight substances extractable with a solvent and the like and damaging neither a hard disk surface nor fine electronic parts when used for polishing as an abrasive cloth for hard disks or used as a wiping cloth for cleaning electronic devices. - 特許庁

本発明は、多結晶シリコン用化学的機械的研磨（Chemical Mechanical Polishing）のためのスラリー組成物及びこれを利用した半導体素子の形成方法に関し、より詳しくはエッチング防止膜の素子分離酸化膜に比べて多結晶シリコンに対し高い研磨選択比を有するスラリーでトレンチ素子分離膜を研磨し、フラッシュメモリ素子の自己整合浮遊ゲート（Self Align Floating Gate）を形成する半導体素子の形成方法に関する。例文帳に追加

A slurry composition for chemical mechanical polishing for the polycrystalline silicon and the semiconductor element utilizing it are formed, by a method wherein a trench element separation film is ground with the slurry having the grinding selection ratio with respect to the polycrystalline silicon, which is higher compared with the element separation oxide film of an etching prevention film, to form the self aligned floating gate of the flash memory element. - 特許庁