dichlorosilaneとは 意味・読み方・使い方

Oxygen which is jetted from upper nozzles 13 is made into plasma and active oxygen generated from the nozzle decomposes dichlorosilane gas which is jetted from the lower nozzles 14.例文帳に追加

上部ノズル１３から噴出した酸素がプラズマ化し、これにより生成した活性酸素が下部ノズル１４から噴出するジクロールシランガスを分解する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes a step of forming one silicon nitride film 201 by reacting a gas containing a nitrogen with a dichlorosilane, and forming the other silicon nitride film 203 by reacting the gas containing the nitrogen with a compound containing silicon and chlorine.例文帳に追加

窒素を含有するガスとジクロロシランとを反応させて一方の窒化シリコン膜２０１を形成し、窒素を含有するガスとシリコンおよび塩素からなる化合物とを反応させて他方の窒化シリコン膜２０３を形成する。 - 特許庁

Thus, the supplied dichlorosilane is activated, and made to react to contaminant contained in quartz configuring the reaction tube 2, and the contaminant is removed from the quartz.例文帳に追加

これにより、供給されたジクロロシランが活性化して、反応管２を構成する石英中に含まれる汚染物質と反応し、石英中から汚染物質が除去される。 - 特許庁

The silicon chloride gas is preferred to be SiC14 (silicon tetrachloride) and Si2C16 (disilicon hexachloride), while the chlorosilane gas is preferred to be SiHC13 (trichlorosilane) and SiH2C12 (dichlorosilane).例文帳に追加

本発明で用いる塩化硅素ガスは、具体的にはＳｉＣｌ４（四塩化硅素）およびＳｉ２Ｃｌ６（六塩化二硅素）であり、本発明で用いるクロルシランガスは、具体的には、ＳｉＨＣｌ３（トリクロルシラン）およびＳｉＨ２Ｃｌ２（ジクロルシラン）である。 - 特許庁

The forming device of a silicon oxide film is constituted in a structure that a first gas introducing tube 13 for feeding dichlorosilane and a second gas introducing tube 14 for feeding dinitrogen monoxide are provided under the lower part of a reaction tube 2 of a heat-treating unit 1.例文帳に追加

熱処理装置１の反応管２の下部には、ジクロロシランを供給する第１ガス導入管１３と、一酸化二窒素を供給する第２ガス導入管１４とが配設されている。 - 特許庁

The manufacturing method includes a polymerization process for polymerizing methyl trichlorosilane, diaklyl dichlorosilane and bis-trialkyl silyl carbodiimide in the presence of an organic base to obtain polysilyl carbodiimide and a firing process for firing the polysilyl carbodiimide.例文帳に追加

本製造方法は、メチルトリクロロシラン、ジアルキルジクロロシラン及びビストリアルキルシリルカルボジイミドを、有機塩基の存在下に重合してポリシリルカルボジイミドとする重合工程と、このポリシリルカルボジイミドを焼成する焼成工程と、を備える。 - 特許庁

The polysilazane can be synthesized by reacting dichlorosilane, trichlorosilane and ammonia added in a reaction solvent as reactants in the presence of a catalyst, has 2,000-30,000 weight average molecular weight in terms of polystyrene, and is represented by chemical formula (1).例文帳に追加

ポリシラザンは、反応溶媒内に反応物として添加されたジクロロシラン、トリクロロシラン、およびアンモニアを触媒存在下で反応させることによって合成することができ、ポリスチレン換算重量平均分子量が２０００〜３００００であり、下記化学式（１）で示される。 - 特許庁

This specification provides, for example, a method for producing the bis(tert-butylamino)aminosilane in which tert-butylamine in a stoichiometrically excess amount is reacted with dichlorosilane under such an enough anhydrous condition that a solution containing a product of the bis(tert-butylamino)silane is formed.例文帳に追加

本発明の一つの側面によれば、ビス（第三ブチルアミノ）シラン生成物を含む液を生成するような十分な無水条件下で化学量論的に過剰のｔｅｒｔ−ブチルアミンをジクロロシランと反応させることを含む、ビス（第三ブチルアミノ）シラン製造方法が提供される。 - 特許庁