shot sampleとは 意味・読み方・使い方

To shorten the transition time from some sample shot processing to next sample shot processing, and the transition time from sample shot processing to exposure processing.例文帳に追加

あるサンプルショット処理から次のサンプルショット処理へ移行する時間およびサンプルショット処理から露光処理へ移行する時間を短縮すること。 - 特許庁

A shot 507 which is positioned nearly symmetrically with a sample shot 506 in a division adjacent to a certain division about the boundary line 502 between the divisions is selected as the sample shot in the certain division.例文帳に追加

ある区分のサンプルショットとして、その区分に隣接する区分のサンプルショット５０６に対し、それらの区分間の境界線５０２について、ほぼ対称な位置に位置するショット５０７を選択する。 - 特許庁

In addition, it measures the locations of alignment marks created in the first sample shot group of another substrate and calculates those of alignment mark created in the second sample shot group if it is necessary to measure locations for an alternate sample shot group and then corrects the measurement value by an offset for the second sample shot group.例文帳に追加

別の基板について、第１のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置を計測し、代替サンプルショット群の計測が必要であると判断した場合には、第２のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置が計測され、第２のサンプルショット群のオフセットで計測値が補正される。 - 特許庁

To eliminate as much as possible the condition that an operator is required manually select a sample shot.例文帳に追加

オペレータが手動でサンプルショットを選択しなければならない状況を極力排除する。 - 特許庁

Processing order of sample shot of global alignment is determined to shorten the stage movement distance from the last shot of global alignment to the first shot of exposure.例文帳に追加

グローバルアライメントの最後に処理するショットから露光第１ショットまでのステージ移動距離が短くなるようにグローバルアライメントのサンプルショットの処理順番を決定する。 - 特許庁

This method measures the locations of alignment marks created on first and second sample shot groups of a substrate, calculates the locations of all shots including the first and second sample shot groups and settles them for substrate exposure.例文帳に追加

基板の第１及び第２のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置を計測し、第１及び第２のサンプルショット群を含む全ショットの位置を算出、位置決めして、基板を露光する。 - 特許庁

The control section generates a plurality of sets of sample shot from a plurality of shot regions on the substrate, and makes the measuring instrument measure the position of an alignment mark, respectively, under a plurality of measurement conditions for each of the plurality of sets of sample shot.例文帳に追加

制御部は、基板上の複数のショット領域から、複数のサンプルショットセットを生成し、複数のサンプルショットセットのそれぞれに関し、複数の計測条件のそれぞれで計測器にアライメントマークの位置を計測させる。 - 特許庁

The control section also calculates the shot arrangement for each combination of the plurality of measurement conditions and the plurality of sets of sample shot based on the measurements results.例文帳に追加

制御部は、また、計測の結果に基づいて、複数の計測条件及び複数のサンプルショットセットの組み合わせのそれぞれに関して、ショット配列を算出する。 - 特許庁