shots accuracyとは 意味・読み方・使い方

To measure the accuracy of stitching of shots in a high accuracy.例文帳に追加

高い精度でショットの繋ぎ合わせ精度を測定する。 - 特許庁

To press one shape through a plurality of shots, and to continuously press a desired shape with high accuracy.例文帳に追加

複数回のショットにより１つのプレス形状をプレスするとともに、所望のプレス形状を連続して高精度にプレスが行えるようにする。 - 特許庁

To provide a cut-point detecting apparatus and a cut-point detecting program capable of detecting, with high accuracy, a cut-point at which two shots are switched by using such effects as dissolve and fade while the two shots are composed among gradual cut-points.例文帳に追加

漸次カット点のうち、ディゾルブやフェードといった２つのショットが合成されながら切り替わるカット点を高精度で検出することができるカット点検出装置及びカット点検出プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a plate for screen printing, which can enhance both initial accuracy before printing and post-printing accuracy when a number of printing shots are repeated, and a manufacturing method for the plate.例文帳に追加

印刷前の初期精度及び印刷ショット数を重ねたときの印刷後精度の両方を高めることができるスクリーン印刷用版及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for measuring shot overlay accuracy by which the overlay accuracy among shots belonging in different mask layers can be rapidly measured and shot overlay with high accuracy can be achieved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

異なるマスクレイヤに属するショット間の重ね合わせ精度を高速に計測することができ、高精度なショット重ね合わせを実現できるフォトマスク、重ね合わせ精度計測方法及び半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁

To enable suppression of lowering of dimensional accuracy for a pattern required of a high dimensional accuracy on a wafer caused due to variations in shots, to thereby improve the dimensional accuracy when the pattern is transferred to the wafer.例文帳に追加

高い寸法精度が要求されるパターンに関して、ショット毎のばらつきによるウェハ上での寸法精度の低下を抑制することができ、描画時間の増大を招くことなく、ウェハ上に転写した際の寸法精度の向上に寄与し得る。 - 特許庁

In order to prevent the accuracy deterioration due to the omission, the coordinate system which positions the wafers is corrected correspondingly to the positional deviations of the EGA marks 33X and 33Y measured by performing sample shots B1 and B2.例文帳に追加

これによる精度低下を防止するために、サンプルショットＢ１，Ｂ２において計測されるＥＧＡマーク３３Ｘ，３３Ｙの位置ずれ量に応じて、ウエハを位置決めする座標系を補正する。 - 特許庁