「shot sample」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Alternatively, the priority order of a measurable shot positioned one-shot inside of an unmeasurable shot is raised when the measurable shot is selected as a sample shot.例文帳に追加

あるいは、サンプルショットとして計測できないショットの１つ内側に位置し、かつ計測し得るショットについて、サンプルショットとして選択する場合の優先順位を高くする。 - 特許庁

In this aligner provided with a sample shot selection means for selecting the sample shot from plural shot positions on a substrate to be exposed for exposure to the respective shot positions on the substrate by using the selected sample shot, the sample shot selection means uses plural different algorithms (means 1-means 3) as the algorithms for selecting the sample shot.例文帳に追加

被露光基板上の複数のショット位置のうちからサンプルショットを選択するサンプルショット選択手段を備え、選択されたサンプルショットを用いて前記被露光基板上の各ショット位置に対して露光を行なう露光装置において、前記サンプルショット選択手段は、前記サンプルショットの選択を行なうためのアルゴリズムとして、複数の異なるアルゴリズム（手段１〜手段３）を用い得るものとする。 - 特許庁

ALIGNER, METHOD FOR SELECTING SAMPLE SHOT AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

露光装置、サンプルショットの選択方法およびデバイス製造方法 - 特許庁

In addition, it measures the locations of alignment marks created in the first sample shot group of another substrate and calculates those of alignment mark created in the second sample shot group if it is necessary to measure locations for an alternate sample shot group and then corrects the measurement value by an offset for the second sample shot group.例文帳に追加

別の基板について、第１のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置を計測し、代替サンプルショット群の計測が必要であると判断した場合には、第２のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置が計測され、第２のサンプルショット群のオフセットで計測値が補正される。 - 特許庁

A shot 507 which is positioned nearly symmetrically with a sample shot 506 in a division adjacent to a certain division about the boundary line 502 between the divisions is selected as the sample shot in the certain division.例文帳に追加

ある区分のサンプルショットとして、その区分に隣接する区分のサンプルショット５０６に対し、それらの区分間の境界線５０２について、ほぼ対称な位置に位置するショット５０７を選択する。 - 特許庁

Processing order of sample shot of global alignment is determined to shorten the stage movement distance from the last shot of global alignment to the first shot of exposure.例文帳に追加

グローバルアライメントの最後に処理するショットから露光第１ショットまでのステージ移動距離が短くなるようにグローバルアライメントのサンプルショットの処理順番を決定する。 - 特許庁

The control section generates a plurality of sets of sample shot from a plurality of shot regions on the substrate, and makes the measuring instrument measure the position of an alignment mark, respectively, under a plurality of measurement conditions for each of the plurality of sets of sample shot.例文帳に追加

制御部は、基板上の複数のショット領域から、複数のサンプルショットセットを生成し、複数のサンプルショットセットのそれぞれに関し、複数の計測条件のそれぞれで計測器にアライメントマークの位置を計測させる。 - 特許庁

To eliminate as much as possible the condition that an operator is required manually select a sample shot.例文帳に追加

オペレータが手動でサンプルショットを選択しなければならない状況を極力排除する。 - 特許庁

This method measures the locations of alignment marks created on first and second sample shot groups of a substrate, calculates the locations of all shots including the first and second sample shot groups and settles them for substrate exposure.例文帳に追加

基板の第１及び第２のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置を計測し、第１及び第２のサンプルショット群を含む全ショットの位置を算出、位置決めして、基板を露光する。 - 特許庁

Furthermore, the control section calculates the variation of shot arrangements calculated for the plurality of sets of sample shot with regard to each of the plurality of measurement conditions.例文帳に追加

制御部は、さらに、複数の計測条件のそれぞれに関し、複数のサンプルショットセットに関してそれぞれ算出されたショット配列のばらつきを算出する。 - 特許庁

IMPRINT METHOD, IMPRINT DEVICE, SAMPLE SHOT EXTRACTION METHOD, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

インプリント方法及びインプリント装置、サンプルショット抽出方法、並びにそれを用いた物品の製造方法 - 特許庁

The control section also calculates the shot arrangement for each combination of the plurality of measurement conditions and the plurality of sets of sample shot based on the measurements results.例文帳に追加

制御部は、また、計測の結果に基づいて、複数の計測条件及び複数のサンプルショットセットの組み合わせのそれぞれに関して、ショット配列を算出する。 - 特許庁

A wafer substrate 12 for a sample shot is irradiated with a diffracted light from an alignment light source of an alignment optical device 14.例文帳に追加

アライメント光学装置１４のアライメント光源から回折光をウェハ基板１２に照射してサンプルショットする。 - 特許庁

Next, based on a coordinate position of the measured sample shot, the alignment of a plurality of shots on the wafer is determined.例文帳に追加

次いで、計測されたサンプルショットの座標位置に基づいてウエハ上の複数のショットの配列が決定される。 - 特許庁

Then, each coordinate position of the sample shots is measured and during the measurement, a relative position of each sample shot region relative to a predetermined standard surface of a wafer is detected.例文帳に追加

そして、そのサンプルショットの座標位置がそれぞれ計測され、この計測の際にサンプルショット領域毎にウエハの所定基準面に対する相対位置が検出される。 - 特許庁

The aligner 1 performs AGA measurement by using a prescribed sample shot group formed on a wafer, and decides a correction parameter.例文帳に追加

露光装置１は、ウエハに形成された所定のサンプルショット群を用いてＡＧＡ計測を行い、補正パラメータを決定する。 - 特許庁

Then, it finds an overlapping error in the first and second sample shot groups and calculates an offset for an alignment mark location's measurement value in units of shots.例文帳に追加

第１及び第２のサンプルショット群における重ね合わせ誤差が検出され、それらショット毎に、アライメントマークの位置の計測値に対するオフセットが算出される。 - 特許庁

Several sample shots are selected including a shot around the periphery (out-in shot) set to be scanned from the out side to inside of a wafer relative to an exposing region among a plurality of shots on a wafer (W1 or W2).例文帳に追加

ウエハ（Ｗ１又はＷ２）上の複数のショットのうち、露光領域に対してウエハの外側から内側へ走査されるように設定された外周近傍のショット（外内ショット）を含むように、幾つかのサンプルショットが選択される。 - 特許庁

An EGA operation is performed using this scaling correction value and the measured values of all sample shot SA_1 to SA_9, and there is asked for a transformation matrix which converts the design value of the shot region on the wafer 8 into the coordinate value which should be used for the alignment.例文帳に追加

このスケーリング補正値と、全サンプルショットＳＡ_１〜ＳＡ_９の計測値とを用いてＥＧＡ演算を行って、ウエハ８上のショット領域の設計値を実際に位置合わせすべき座標値に変換する変換行列を求める。 - 特許庁

A sample is irradiated with an electron beam, and a reflection electron image 7 or transmission electron image is measured for shot shape and position using a magnifying optical system 1 and a position detector 2.例文帳に追加

電子ビームを試料１０に照射し、反射電子像７または透過電子像を拡大光学系１及び位置検出器２を用いてショット形状、位置を測定する。 - 特許庁

To improve alignment precision by obtaining an automatic selecting method for an alignment measurement sample shot which is not affected by the size for a alignment method for a plurality of reference layers.例文帳に追加

複数の基準層に対する位置合わせ方法において、ショットサイズの影響を受けないアライメント計測サンプルショットの自動選択方法を得て、重ね合わせ精度の向上を図ること。 - 特許庁

For a first wafer, the positions of the EGA marks 33X and 33Y are measured by performing sample shots B1-B8 after the positions of the search marks 32X and 32Y are measured in shot areas A1-A3.例文帳に追加

１枚目のウエハに対してはショット領域Ａ１〜Ａ３でサーチマーク３２Ｘ，３２Ｙの位置を計測した後、サンプルショットＢ１〜Ｂ８でＥＧＡマーク３３Ｘ，３３Ｙの位置を計測する。 - 特許庁

Still alternatively, the information indicating a plurality of priority order is calculated at every shot and classified into preferentially used information and supplementally used information and the selection of sample shots is performed by using the two pieces of information in steps.例文帳に追加

あるいは、各ショット毎に複数の優先順位を示す情報を算出してこれらを優先的に用いるものと補助的に用いるものとに分類し、これらを段階的に使用してサンプルショットの選択を行う。 - 特許庁

In addition, shots 508 and 509 symmetrically positioned with respect to a straight line 503 passing the center of a shot layout or shots which are point symmetrically positioned about the center 500 of the layout are selected as other sample shots.例文帳に追加

さらには、ショットレイアウトの中心を通る直線５０３についてほぼ対称の位置にあるショット５０８、５０９、またはショットレイアウトの中心５００についてほぼ点対称の位置にあるショットを他のサンプルショットとして選択する。 - 特許庁

To provide an event photograph sales system that permits a guardian to check and select a photograph sample with a personal computer or the like at home so as to buy a photograph shot at an event of athletic festival, picnic or the like performed by a kindergarten and a nursery school.例文帳に追加

本発明は、幼稚園や保育園の遠足、運動会などのイベントにおいて撮影された写真を、保護者が自宅においてパソコンなどにより写真見本を確認、選択して購入可能とするイベント写真販売システムを提供することを目的としている。 - 特許庁

The electron gun is established to operate in the space charge limitation region and the electron beam shot noise reduction factor impinging on the sample is made a condition of one or less, or the luminance of the electron gun is made to have a luminance of 10 times or more of the Langmuir limitation.例文帳に追加

電子銃は空間電荷制限領域で動作するよう設定し、試料に入射する電子ビームショット雑音低減係数を１以下の条件とするか又は電子銃の輝度がラングミュア制限の１０倍以上の輝度を有するようにする。 - 特許庁

A digital camera provided with a best shot photographing function whereby a plurality of photographing modes under e.g., different photographing conditions can be selected via sample images, employs a liquid crystal monitor for displaying a through-image and a recorded image which is provided with a laterally long display screen 9a whose aspect ratio is "3:6".例文帳に追加

例えば撮影条件の異なる複数の撮影モードを見本画像を介して選択可能なベストショット撮影機能を備えたデジタルカメラに、スルー画像や記録画像を表示する液晶モニタとして縦横比が縦横比が「３：６」の横長の表示画面９ａを備えたものを使用する。 - 特許庁

The present invention uses a digital camera, comprising a best-shot photographing function capable of selecting a plurality of photographing modes with different photographing conditions through a sample image, for example, wherein a laterally long display screen 9a of which an aspect ratio is "3:6", is provided as a liquid crystal monitor for displaying thereon a through-image or a recorded image.例文帳に追加

例えば撮影条件の異なる複数の撮影モードを見本画像を介して選択可能なベストショット撮影機能を備えたデジタルカメラに、スルー画像や記録画像を表示する液晶モニタとして縦横比が縦横比が「３：６」の横長の表示画面９ａを備えたものを使用する。 - 特許庁

The reproducing signal processing apparatus is provided with an AND circuit 15 that ANDs an output signal from a comparator circuit 2 and an output signal of a monostable multivibrator circuit 4 for generating a sample-and-hold acquisition time as a pulse detection means so as to detect each pulse in the reproducing signal without detecting an accidental single shot noise as a pulse.例文帳に追加

パルス検出手段として、コンパレータ回路２の出力信号と、サンプルホールドのアクイジョンタイムを作成するモノマルチバイブレータ回路４の出力信号とのＡＮＤをとるＡＮＤ回路１５を設けることにより、偶発的な単発のノイズを、パルスとして検出することなく、再生信号における個々のパルスを検出する。 - 特許庁

In a digital camera, in a reproduction state where any recorded image (shot image) 211 is displayed, a scene selection screen 202 consisting of a plurality of sample images or the like is displayed similarly to a case where a shooting mode is selected in shooting (Fig. 5(a)), and a correction mode is selected by a selecting operation of a desired shooting scene.例文帳に追加

デジタルカメラにおいて、任意の記録画像（撮影画像）２１１を表示している再生状態で、撮影時に撮影モードを選択する場合（図５（ａ））と同様に、複数の見本画像等からなるシーン選択画面２０２を表示し、所望の撮影シーンの選択操作により補正モードを選択させる。 - 特許庁

A means is provided for computing (steps 905 and 906) values of those parameters used for control in the operation of devices such as sample shot information (step 902) which is influenced by mounting errors of units of the devices on the basis of positions, corresponding to additions of the unit mounting errors to designed unit mounting positions.例文帳に追加

装置の動作を制御するために用いられるパラメータのうち、装置が有するユニットの取り付け誤差によって影響を受けるサンプルショットの情報等については（ステップ９０２）、ユニットの設計上の取り付け位置に対してその取り付け誤差を加算した位置に基づいてパラメータ値を計算する（ステップ９０５、９０６）演算手段を設ける。 - 特許庁

Consequently, the sample shot areas SA_g can equally be interspersed along an arbitrary straight line passing a nearly center point of the wafer W, so when the coefficients of the respective terms of the model expression are found from their measurement results by using a statistical method, an estimation error between a model expressed by the model expression and the real model expression can be reduced.例文帳に追加

このようにすれば、ウエハＷの略中心を通る任意の直線方向に沿って、サンプルショット領域ＳＡ_gを均等に点在させることができるため、それらの計測結果から、統計的手法を用いて、上記モデル式の各項の係数を求める際に、そのモデル式により表現されるモデルと、真のモデル式との推定誤差を低減することができる。 - 特許庁