ななくま４ちょうめの英語

群遅延発生手段（４）は、物理的に過度に大きくなく、入射する光に含まれる波長に対して高いＱ値を示すように作製される。例文帳に追加

The group delay generating means (4) is produced not to be too large physically and showing a high Q value with respect to a wavelength included in the incident light. - 特許庁

(6A) 局長が，(2)又は(2A)に基づく申請は，(6)に基づく異議申立がない場合であっても，認可されないものと認めた場合は， (a) 局長は，当該申請を(4)に従って公告する必要がなく，また (b) (6)に拘らず，当該申請に対しては異議申立をすることができず，また (c) 局長は，当該申請の認可を拒絶しなければならない。例文帳に追加

(6A) If the Commissioner is satisfied that an application under subsection (2) or (2A) would not be granted even in the absence of opposition under subsection (6): (a) the Commissioner need not advertise the application in accordance with subsection (4); and (b) the application cannot be opposed, despite subsection (6); and (c) the Commissioner must refuse to grant the application.発音を聞く  - 特許庁

多数の開口４が形成されたプレート５を備えた蒸着マスクにおいて、前記プレート５は、隣接する前記開口４間に位置する領域が断面凹状を成す凹部６を有することを特徴とする蒸着マスク。例文帳に追加

In the deposition mask provided with plates 5 with a number of openings 4 formed, each plate 5 is equipped with a recessed part 6 with a cross-section concave shape at an area located between adjacent openings 4. - 特許庁

一町目（3か所）、今出川町、蛭子町、扇町、大猪熊町、大宮町、頭町、亀屋町（4か所）、菊屋町、北町、荒神町、革堂町、近衛町、米屋町、栄町、三町目、神明町、大黒町、鷹司町、玉屋町、突抜町（3か所）、中之町、仲之町（4か所）、西大路町、西北小路町、西町（3か所）、二町目、東橋詰町、東町（3か所）、菱屋町、毘沙門町（3か所）、桝屋町（3か所）、四町目（3か所）例文帳に追加

1-chome (three locations), Imadegawa-cho, Ebisu-cho, Ogi-cho, Oinokuma-cho, Omiya-cho, Kashira-cho, Kameya-cho (four locations), Kikuya-cho, Kita-machi, Kojin-cho, Kodo-cho, Konoe-cho, Komeya-cho, Sakae-cho, 3-chome, Shinmei-cho, Daikobu-cho, Takatsukasa-cho, Tamaya-cho, Tsukinuke-cho (three locations), Nakano-cho, Nakano-cho (four locations), Nishioji-cho, Nishikitakoji-cho, Nishi-cho (three locations), 2-chome, Higashihashizume-cho, Higashi-cho (three locations), Hishiya-cho, Bishamon-cho (three locations), Masuya-cho (three locations), 4-chome (three locations)発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

またこのとき、前記親株の近傍に土を盛り上げた苗床６を形成し、苗床６上に親株から成長した茎４を這わせるとともに、茎４の適当箇所を係止具７を用いて苗床６に係止させておく。例文帳に追加

The method includes forming a seedling bed 6 made by mounding soil in the vicinity of the parent stock to grow the stem 4 from the parent stock creep on the seedling bed 6, and fixing appropriate portions of the stem 4 to the seedling bed 6 using fixing tools 7. - 特許庁

シリコン基板１の上に、金属膜を成膜し、その金属膜の上に、金属膜と下地との界面にかかる応力を調整するための応力調整膜を形成し、その後に、下地用パターン３の上の金属膜を残し絶縁膜４の上の金属膜を剥離する。例文帳に追加

The metal film is formed on the silicon substrate 1, a stress control film is formed on the metal film for adjusting the stress exerted on the interface between the metal film and the base and then the metal film on the insulation film 4 is peeled with the metal film left on the base pattern 3. - 特許庁

（昭和4年改称）下大手→西大手町、大宮六丁目→大宮町、聚楽一・二丁目→聚楽町一・二丁目、西塩屋→問屋町、南恵美酒→恵美酒町例文帳に追加

(Renamed in 1929) Shimoote => Nishi Ote-cho, Omiya 6-chome => Omiya-cho, 1-chome and 2-chome Juraku => 1-chome and 2-chome Juraku-cho, Nishi Shioya => Toiya-machi, Minami Ebisu => Ebisu-cho発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

カメラ２，４により撮影された画像を表示する際に、画像に含まれる物体の信頼度に応じて物体の強調表示を行う（Ｓ９００）。例文帳に追加

When displaying the images photographed by the cameras 2 and 4, the objects are highlighted in accordance with the reliability of the objects included in the images (S900). - 特許庁