まえむきすいろんの英語

搬送路ｂ上の容器Ａを、回転区間ｅに配設した容器回転装置３４で上向きに開口したまま水平回転（例えば略９０度）する。例文帳に追加

The container A on the conveying passage (b) is horizontally rotated (for example, at approximately 90 degrees) while upwardly opened, by a container rotating device 34 installed in a rotating zone (e). - 特許庁

真空成膜装置３は、スイングアーム９０を閉位置に保持するロック機構と、スイングアーム９０が閉位置にあるとスイングアーム９０を開位置側に向かって付勢する付勢部材６１と、を備えている。例文帳に追加

The vacuum film deposition apparatus 3 has a locking mechanism for holding the swing arm 90 at the closing position, and an energizing member 61 for energizing the swing arm 90 toward the opening position side when the swing arm 90 is at the closing position. - 特許庁

向き推定部１７は、例えば対称性が有ると判定された場合には車両の向きが前又は後ろであるものと推定し、対称性が無いと判定された場合には車両の向きが横又は斜めであるものと推定する。例文帳に追加

For example, the direction presumption section 17 presumes that the direction of the vehicle is the front or the rear when the determination is made that the symmetry is present and presumes that the direction of the vehicle is the horizontal or the oblique when the determination is made that the symmetry is absent. - 特許庁

また、バッテリ５の残量が、１０％未満の場合には（Ｓ６：ＮＯ、Ｓ９：ＮＯ）、ＳＤＲＡＭ９での画像保存時間は０秒（なし）に設定する（Ｓ１１）。例文帳に追加

When the remaining capacity of the battery 5 is ≤10% (S6: NO, S9: NO), the time of image storage in the SDRAM 9 is set to 0 second (none) (S11). - 特許庁

５５〜９０ｍａｓｓ％の高炉スラグ微粉末と、１０〜４５ｍａｓｓ％のアルカリ性無機物質との混合物を水中で混合し、固化反応させ、脱水させた後に、乾燥、粉砕してなる調湿性無機質粉末である。例文帳に追加

The humidity-conditioning inorganic powder is obtained by mixing a mixture of 55-90 mass% blast furnace slag fine powder and 10-45 mass% alkaline inorganic material in water and solidifying, dehydrating, drying and grinding this mixture. - 特許庁

無機粒子を水系媒体体中に分散させ、最大遠心加速度の積算値が４，５００，０００Ｇ・ｓｅｃ未満の遠心力を印加して粗大粒子を遠心分離することを特徴とする無機粒子の水性分散体の製造方法。例文帳に追加

This method manufactures the aqueous dispersion of inorganic particles by dispersing the inorganic particles in an aqueous medium and separates macroaggregates by applying centrifugal force having integrated value of maximum centrifugal acceleration ≤4,500,000 G.sec. - 特許庁

炭化珪素単結晶を研磨する水系研磨スラリーであって、平均粒子径が１ｎｍ〜４００ｎｍの研磨材粒子及び無機酸を含んでいる。例文帳に追加

An aqueous polishing slurry is used to polish a silicon carbide single crystal, and it contains abradant particles of which average particle size is 1-400 nm and an inorganic acid. - 特許庁

真空成膜装置３は、ホルダ１９ｆを支持しかつ揺動自在なスイングアーム９０を備えている。例文帳に追加

The vacuum film deposition apparatus 3 has a swing arm 90 which supports a holder 19f and is rockable. - 特許庁