イオン化室の英語

内燃機関の燃焼室内のイオン化電流を測定するための回路例文帳に追加

CIRCUIT FOR MEASURING IONIZATION CURRENT IN COMBUSTION CHAMBER OF INTERNAL COMBUSTION ENGINE - 特許庁

そして、その直前にイオン化室１０に導入された熱電子がイオン化室１０を通り抜けた後にリペラ電極１４にイオン出射用電圧を印加し、イオン化室１０内のイオンに初期運動エネルギを付与してイオン化室１０からパルス的に出射させる。例文帳に追加

An ion emission voltage is impressed to a repeller electrode 14 after the thermoelectron introduced into the ionization chamber 10 just before is passed through the ionization chamber 10, and initial kinetic energy is imparted to the ions in the ionization chamber 10, to emit the ions pulse-likely from the ionization chamber 10. - 特許庁

試料導入管５は、試料分子をイオン化室１内に導入する。例文帳に追加

The pipe 5 introduces the sample molecules into the ionizing chamber 1. - 特許庁

イオン化室３がクラスターを加速するための電位を保ち、イオン化室３の壁に設けられた穴３ａの一部（電子導入用開口）から、イオン化室３内のクラスターにＲＦプラズマ電子源５からの電子が照射され、クラスターをイオン化する。例文帳に追加

An ionization chamber 3 keeps a potential to accelerate the cluster, and electrons from the RF plasma electron source 5 are irradiated to the cluster in the ionization chamber 3 from some of holes 3a (electron introducing openings) provided in the wall of the ionization chamber 3 to ionize the cluster. - 特許庁

イオン化室９に導入された試料ガスは、フィラメント１６で発生した熱電子に叩かれてイオン化される。例文帳に追加

The sample gas introduced into the chamber 9 is hit by thermion generated at a filament 16 and ionized. - 特許庁

本体部２１は、所定の軸方向に延びており試料分子をイオン化するイオン化室２と、イオン化室２に試料分子を導入する導入口２２と、試料分子イオンを排出する排出口２３とを有する。例文帳に追加

The main body part 21 extends in a prescribed axial direction and has an ionization chamber 2 to ionize the sample molecules, an inlet port 22 to introduce the sample molecules into the ionization chamber 2, and an exhaust port 23 to exhaust the sample molecule ions. - 特許庁

ＣＩ専用イオン化室よりも密閉度の低いＥＩ／ＣＩ兼用イオン化室を用いた場合でも試料分子のイオン化に際する開裂を少なくして分子量関連イオンの信号強度を高くする。例文帳に追加

To enhance a signal intensity relevant to a molecular weight with less cleavage when ionizing a molecular specimen, even when an EI/CI convertible ionization chamber is used with less sealing density than that of the CI-exclusive ionization chamber. - 特許庁

プロセス室１５には、プロセス室１５内に導入されたガスクラスターをイオン化するイオン化器５と、イオン化器５でイオン化されたガスクラスターを加速させてガスクラスターを被処理物である基板８に照射させる電極群７とが備えられている。例文帳に追加

The process chamber 15 is provided with the ionization device 5 for ionizing the gas clusters introduced in the process chamber 15, and electrodes 7 for making the gas clusters irradiate a substrate 8 to be processed by accelerating the gas clusters ionized with the ionization device 5. - 特許庁