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レジスト開発の英語
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英訳・英語 resist development
「レジスト開発」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 18件
レジストパターンの形成において、フォトマスクが抜きパターンの場合と残しパターンの場合に同一種類のフォトレジストを使い、かつ両方のパターンで矩形形状が得られるようにすることで、マスク毎に異なったレジストを開発する必要性を無くすことを目的とする。例文帳に追加
To eliminate the necessity of developing a different resist for each mask by using the photoresist of the same kind for both a photomask having a punched pattern and another photomask having a solid pattern, and by obtaining a resist pattern having a rectangular shape even when the photomask having any pattern, either a punched pattern or a solid pattern, is used when the resist pattern is formed. - 特許庁
荷電粒子線による微細なレジストパターン形成においてより正確なパターン形成を行う為のレジストパターンを形成する方法を開発する。例文帳に追加
To provide a method for performing more accurate pattern formation, when a fine resist pattern is formed by a charged particle beam. - 特許庁
有機反射防止膜を形成し、化学増幅レジストを使用した微細レジストパターン形成のプロセス開発において、簡便に有機反射防止膜の酸性度を評価することができる方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method with which the acidity of an organic antireflective film can easily be evaluated in development of a process of forming an organic antireflective film and forming a fine resist pattern using chemical amplification resist. - 特許庁
荷電粒子線によるレジストパターン形成において、ＰＥＤ、ＰＣＤ等によって影響を受けることなく、微細で、かつ、正確なレジストパターンを形成するための方法を開発すること。例文帳に追加
To provide a method for forming fine and accurate resist patterns without being affected by a PED or a PCD in resist pattern formation using charged particle beams. - 特許庁
フォトレジストアッシング残滓の洗浄性が高く、また、導電性膜、絶縁膜等の下地の腐食の防止効果も高く、洗浄時間の許容幅が長いフォトレジストアッシング残滓洗浄剤を開発すること。例文帳に追加
To develop a detergent for a photoresist ashing residue having high cleaning property for the photoresist ashing residue, having a high preventing effect against corrosion of the base such as a electrically conductive film and insulating film, and having a long allowance for cleaning time. - 特許庁
フォトレジストの不完全灰化物や側壁堆積膜等のフォトレジストアッシング残滓を良好に除去でき、基板ウェハ上の絶縁膜や導電性膜の腐食性も低い残滓洗浄除去剤を開発すること。例文帳に追加
To provide a detergent for cleaning and removing residues with which an incompletely ashed photoresist or photoresist ashing residue such as deposits on side walls can be well removed and which has low corrosive property for an insulating film or conductive film on a substrate wafer. - 特許庁
フォトレジストアッシング残さの洗浄性が高く、また、絶縁膜、低誘電膜、配線等ぼ下地の防食効果も高い上、水リンス時の腐食も起こさないフォトレジストアッシング残さ洗浄剤を開発すること。例文帳に追加
To provide a photoresist ashing residual cleaning agent with which the cleaning ability of a photoresist ashing residual is high, the anti-corrosion effect of a base such as insulating film, low-dielectric film or wiring is high and further, corrosion does not occur at the time of rinsing in water. - 特許庁
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「レジスト開発」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 18件
インターネットレジストラ協議会(CORE)によって開発された新しい共用登録システム(SRS)は,その最終テスト段階に入っている．例文帳に追加
The new shared registry system (SRS), developed by CORE, is entering its final testing phase,発音を聞く - コンピューター用語辞典
感度、解像力に優れ、しかも矩形なプロファイルが得られる電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。例文帳に追加
To provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power and giving a rectangular profile. - 特許庁
高解像性で耐熱性のポリシロキサン（シルセスキオキサン）の合成についての新規な方法及びそれを含むフォトレジストの開発。例文帳に追加
To provide methods for synthesis of high resolution heat-resistant polysiloxanes (silsesquioxanes) and to provide photoresists comprising the same. - 特許庁
ポリアミドイミドが有する物性を保ちつつ、構造中にカルボン酸を有する、フォトレジスト用のバインダー樹脂として使用可能なポリアミドイミド前駆体を開発する例文帳に追加
To provide a polyamide-imide precursor holding physical properties polyamide-imides have, having a carboxylic acid in the structure, and usable as a binder resin for photoresist. - 特許庁
レジスト材料の機能向上のための原料として求められている重合性官能基と複数の水酸基を有する多環式の新規な化合物の及びその製造方法を開発することである。例文帳に追加
To provide a new polycyclic compound having polymerizable functional group and a plurality of hydroxyl groups and useful as a promising raw material for improving the functions of a resist material and provide a method for producing the compound. - 特許庁
硬化物の可撓性や半田耐熱性、耐熱劣化性、無電解金メッキ耐性に優れ、有機溶剤又は希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用及び層間絶縁層用に適する樹脂組成物を開発する。例文帳に追加
To provide a resin composition which gives a cured product excellent in flexibility, soldering heat resistance, heat deterioration resistance, electroless gold plating resistance and is developable by an organic solvent or a dilute alkali solution and suitable for a solder resist and an interlaminar insulating layer. - 特許庁
フォトレジストの解像性不良箇所を容易に検出して、デバイス開発を効率的に行なうことができるパターン図形の解像性検証方法と半導体パターン形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a definition certification method for pattern graphics which efficiently executes device development by easily indexing the definition defective points of a photoresist and a semiconductor pattern forming method. - 特許庁
電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはＸ線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。例文帳に追加
To solve the problems of a performance enhancing technique in the micromachining of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to obtain a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity and resolution, resist shape characteristics to the use of electron beams or X-rays. - 特許庁
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