不均一電界の英語

横電界に起因した表示品位の低下や表示領域の各部における表示品位の不均一性を抑制する。例文帳に追加

To suppress the degradation in a display grade due to a horizontal electric field and the nonuniformity in the display grade of respective sections of a display region. - 特許庁

電荷蓄積膜に電界が均一に印加される不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a nonvolatile semiconductor memory device configured to uniformly apply an electric field to a charge storage film, and to provide a method of manufacturing the same. - 特許庁

分離電圧源６７は、分離電圧を分離電圧印加ローラ６６に供給し、間接的に加圧ベルト６２に不均一な電界を形成させる。例文帳に追加

The separation voltage is supplied by the separation voltage source 67 to the separation voltage apply roller 66 so as to indirectly form an uneven electrical field on the pressure belt 62. - 特許庁

横電界方式液晶表示装置において、ラビングの不均一による表示ムラを抑制することである。例文帳に追加

To suppress display irregularity caused by uneven rubbing in an in-plane switching mode liquid crystal display device. - 特許庁

被加熱物を挟む固定電極１９と可動電極２０に複数の開口１９ａ、２０ａを設けることで電極間に平行電界分布４１、４３と湾曲電界分布４２、４４とを混在させることにより、不均一な被加熱物形状に対しても加熱の均一化を促進させることができる。例文帳に追加

A plurality of apertures 19a, 20a are provided at a fixed electrode 19 and a movable electrode 20 interposing a heating object, and thereby parallel electric field distributions 41, 43 and curved electric field distributions 42, 44 exist mixed up, and as a result, uniform heating can be promoted even to the heating object of an uneven shape. - 特許庁

より微細化に対応可能な高密度プラズマを用いたプラズマ処理において、電極表面における電界分布の不均一を小さくすることが可能であり、エッチングレート分布が均一なプラズマ処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma processing device that makes the unevenness of electric field distribution on a surface of an electrode small so that etching rate distribution is uniform in a plasma process using a high density plasma that can correspond to further fining. - 特許庁

電気集塵装置において電界を形成するために用いられる平板電極であって、平板電極間の沿面放電の発生の抑制、及び形成電界の強度の不均一の改善に資する平板電極を提供すること。例文帳に追加

To provide a flat electrode which is used for forming an electric field in an electric dust collecting apparatus, between two of which the occurrence of creeping discharge is restrained and which contributes to the improvement of the uneven intensity of the formed electric field. - 特許庁

より微細化に対応可能な高密度プラズマを用いたプラズマエッチング処理において、電極表面における電界分布の不均一を小さくしてプラズマ密度を均一化することが可能であり、エッチングレート分布が均一なプラズマエッチング装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma etching device which is capable of more finely etching a work by the use of a plasma of high density and making an electric field distribution more uniform on the surface of an electrode so as to make the plasma uniform in density and the etching rate distribution uniform. - 特許庁