以露理の英語

以前に他のウィンドウに隠されていたウィンドウに対しては、X サーバは通常の露出(exposure)の処理を実行する。例文帳に追加

The X server performs normal exposure processing on formerly obscured windows. - XFree86

アンマップ以前にこのウィンドウに隠されていたウィンドウの露出(exposure)の処理は普通に行われる。例文帳に追加

Normal exposure processing on formerly obscured windows is performed. - XFree86

ＡＦ処理中にフォーカスエリア以外の表示領域についても適切に露出制御する。例文帳に追加

To properly control exposure with respect to even a display area other than a focus area during AF processing. - 特許庁

また、露光処理時以外の時にも、シャッタ１４が適当なタイミングで開閉される。例文帳に追加

Furthermore, the shutter 14 is opened/closed at suitable timing even for other than exposure processing. - 特許庁

さらに、脱水処理以後の、有機ＥＬ層を形成するまでの全工程を、露点温度を−６０℃以下に管理された環境下で行う。例文帳に追加

Moreover, all processes before forming an organic EL layer after the dehydration process are carried out in an environment where a dew-point temperature is controlled at -60°C or lower. - 特許庁

さらに、露出不足時間つまり露出タイマーの残存時間が所定値以上であるか否かを判断し（Ｓ１２２）、所定値以上である場合には、露出不足時間に応じて、撮影画像に露出補正処理を実行する（Ｓ１２３）。例文帳に追加

Further, it is determined whether or not an exposure lack time, namely, the remaining time of the exposure timer is equal to or more than a predetermined value (S122) and if it is equal to or more than the predetermined value, in accordance with the exposure lack time, exposure correction processing is performed on a photographic image (S123). - 特許庁

工程ａ３で露光後のレジストを５分間以上静置し、工程ａ４でプリベーク温度以上の温度で熱処理を行う。例文帳に追加

In a process a3, the resist after exposure is left at rest for at least five minutes, and in a process a4, a heat treatment is performed at a temperature equal to or above the pre-baking temperature. - 特許庁

また、露光工程の露光量を感光性有機膜に対してオ−バ露光としたり、露光作業の後の熱処理で感光性有機膜の軟化点以上の温度に加熱したり、熱処理の前後に感光性有機膜を薬液やその蒸気に接触させて凹部又は凸部を略円形状とする。例文帳に追加

A concave or convex part is formed into an substantially circular shape by overexposing a photosensitive organic film at an exposure step, heating the photosensitive organic film to the softening point or higher at a heat treatment step after the exposure step or bringing the heated or unheated photosensitive organic film into contact with a liquid chemical or its vapor. - 特許庁