副ビームの英語

この発明は、位相制御のみで複数個の副ビームの放射強度を主ビームに対し任意のレベルに設定可能で、それゆえ，主ビームのレベル低下を少なくすることができ，且つ主ビームと複数個の副ビームのビーム走査方向を個々に制御可能なアンテナ装置を得ることを目的としている。例文帳に追加

To provide an antenna system capable of setting radiation strength of a plurality of sub beams to have an optional level with respect to a main beam through phase control only, thereby reducing level reduction in the main beam and individually controlling the scanning direction of the main beam and a plurality of the sub beams. - 特許庁

主ビームおよび２つの副ビームは、主ビームならびに各副ビームについて、光記憶メディア上に超解像効果をもたらすのに十分な光強度を有する。例文帳に追加

The main beam and the two satellite beams have a light intensity on the optical storage medium being sufficient for providing a super-resolution effect for the main beam as well as for each satellite beam. - 特許庁

副走査方向についての光ビームのビームスポット間隔を含む光ビームの良好な調整位置精度、およびその調整に伴うビームスポット径の変動が少なく、安定したビームスポットを得る。例文帳に追加

To obtain a stabilized beam spot by adjusting the position of a light beam with high accuracy including the beam spot interval thereof in the subscanning direction, and suppressing variation of beam spot diameter incident to positional adjustment of the light beam. - 特許庁

複数の走査ビームを同一のビーム検知センサたるビーム検知ユニット３００（３０１）に入射させて、このビーム検知ユニット３００（３０１）で複数の走査ビームの副走査線方向の位置を検知する。例文帳に追加

A plurality of scanning beams are made incident to beam detection units 300 (301) which are the same type of the beam detection sensors, and the beam detection units 300 (301) detect the positions of the plurality of scanning beams in a subscanning line direction. - 特許庁

簡単な構成で、２本の光ビームにおける主走査方向のビーム間隔および副走査方向のビーム間隔のいずれか一方の方向のビーム間隔を精度よく計測することができるビーム間隔測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a beam interval measuring device, capable of measuring with high accuracy a beam interval in any one direction of the beam interval in the main scanning direction in two light beams and the beam interval in the sub-scanning direction in a simple structure. - 特許庁

副ビームに対応する位相分布を制御することにより、副ビームを任意形状に形成可能なアンテナ装置を得る。例文帳に追加

To provide an antenna apparatus capable of forming a sub-beam in an optional shape by controlling a phase distribution corresponding to the sub-beam. - 特許庁

溝１の中心より少し外れた位置に、第１副ビーム３または第２副ビーム４を照射する。例文帳に追加

A first side beam 3 or second side beam 4 is irradiated to a position deviated a little from the center of the groove 1. - 特許庁

ビームスポットの副走査方向Ｘのピッチを小さくすることにより、ビームスポットの副走査方向Ｘの密度が高くなる。例文帳に追加

By having the pitch of the beam spots in the sub-scanning direction X smaller, the density of the beam spots in the sub-scanning direction can be higher. - 特許庁