周縁光線の英語

第２反射面３５ｃに至った光線Ｌ１は第２反射面３５ｃで所定の反射角θ３で全反射され、再度外周縁部３２内を導光されてフランジ部３４の灯室４１外側の端部にあたる外周縁部３２の光出射面３５ｄから出射される。例文帳に追加

The light beams L1 reaching the second reflecting face 35c are totally reflected at a given reflecting angle θ3 at the second reflecting face 35c, are guided again inside an outer periphery edge part 32 and are emitted from a light-emitting face 35d of the outer periphery edge part 32, which is an end part outside the lamp room 41 of the flange part 34. - 特許庁

代替的又は追加的に、第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。例文帳に追加

As an alternative or in addition, all the surfaces of the lenses of the second partial objective are configured such that the deviation from the marginal ray concentricity is greater than or equal to 20°. - 特許庁

その状態でウエハ６０の裏面を研削およびエッチングしてウエハ６０を薄くした後、ウエハ６０の外周に沿ってレーザ光線を照射してウエハ中央部分６１をウエハ周縁部分６２から切り離す。例文帳に追加

In such a state, the rear face of the wafer 60 is ground and etched to make the wafer 60 thin, and thereafter a central portion 61 of the wafer is cut out from the peripheral portion 62 of the wafer by irradiating a laser beam along the periphery of the wafer 60. - 特許庁

デバイス間の隙間を通して接着フィルムにレーザー光線を照射し、デブリを飛散させることなく接着フィルムをデバイスの外周縁に沿って破断することができるウエーハの裏面に装着された接着フィルムの破断方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of breaking an adhesive film mounted on the rear side of a wafer by which the adhesive film is broken along the peripheral edge of a device without scattering debris by irradiating the adhesive film with a laser beam through the clearance between the devices. - 特許庁

レンズ３Ａ，３Ｂ，３Ｃを透過する光線束を規制する開口絞り４が、開口絞り４と一体であって且つ取り付けようとするレンズ３Ｃの周縁部に向かって突出する取り付け部４ａを有し、取り付け部４ａがレンズ３Ｃに直接当接して固定されている。例文帳に追加

The aperture diaphragm 4 controlling the light flux transmitted through the lenses 3A, 3B and 3C is provided with an attaching part 4a integrated with the aperture diaphragm 4 and projected to the peripheral edge part of the lens 3C to be attached and the attaching part 4a is directly abutted and fixed to the lens 3C. - 特許庁

投影対物レンズ１２０は、反射屈折投影対物レンズであって、投影対物レンズのひとみ面の領域内に配置された少なくとも１つの凹面鏡１２５と、ひとみ面の近傍の、結像の周縁光線高さ（ＭＲＨ）が主光線高さ（ＣＲＨ）より大きい領域内で、凹面鏡のすぐ近くに配置された少なくとも１つの負レンズを有する負レンズ群とを有する。例文帳に追加

The projection objective 120 is a catadioptric projection objective having at least one concave mirror 125 arranged in a region of a pupil surface of the projection objective, and a negative group having at least one negative lens arranged in direct proximity to the concave mirror in a region near the pupil surface, where a marginal ray height (MRH) of the imaging is greater than a chief ray height (CRH). - 特許庁

ベースの開口３４の周囲は、ＩＲカットフィルタ４を支持するオーバーハング部３２をなしており、該オーバーハング部の周縁は、入射する光のうちの最外光線の入射角度よりも大きな傾斜角度を有した傾斜縁部３２ｃを有しており、かつ前記最外光線の経路の外側に位置している。例文帳に追加

Surroundings of the aperture 34 of the base form an overhang part 32 which supports an IR cut filter 4, the rim of the overhang part has a slope edge 32c having an incident angle larger than an incident angle of the outermost light beam among light beams to be made incident and is located at the outside of a path of the outermost light beam. - 特許庁