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弗素ガス弗化の英語

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英訳・英語 fluorine fluorination


JST科学技術用語日英対訳辞書での「弗素ガス弗化」の英訳

弗素ガス弗化


「弗素ガス弗化」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 18



例文

弗素を含む硅素合物と水素を含む硅素合物との合計ガス流量に対する弗素を含む硅素合物ガスの流量は、50%から1%の範囲である。例文帳に追加

The gas flow rate of the fluorine containing silicon compound with respect to the total gas flow rate of the fluorine containing silicon compound and the hydrogen containing silicon compound is within the range of 1% to 50%. - 特許庁

酸素のプラズマに弗素を含む硅素合物ガスと水素を含む硅素合物ガスとを混合させて導入し、気相成長を利用して基板40の表面に弗素を含む酸硅素薄膜を作成する。例文帳に追加

The fluorine containing silicon oxide thin film is formed on a surface of a substrate 40 using a vapor phase growth process by introducing a mixture of oxygen plasma, fluorine containing silicon compound gas, and hydrogen containing silicon compound gas. - 特許庁

弗素ガスによるクリーニングを行ってこの堆積した膜を除去する際、シャワー板2の表面に堆積した膜10の全てを除去しないで、所定の厚さの膜11を残して、シャワー板2の表面に弗素ガス成分である層が形成されないようにする。例文帳に追加

When that film is removed by performing cleaning with a fluorine based gas, the film 10 deposited on the surface of the shower plate 2 is not removed entirely but a film 11 of a specified thickness is left so that a fluoride layer of fluorine based gas component is not formed on the surface of the shower plate 2. - 特許庁

次に、酸シリコン膜4の一部を、弗素を含むガスでエッチングし、窒ガリウム層2の表面に達する貫通孔6を形成する。例文帳に追加

Then, part of the silicon oxide film 4 is etched by using gas containing fluorine to form the through hole 6 reaching the surface of the gallium nitride layer 2. - 特許庁

この場合、WF_6中の弗素はSiH_4中の水素と反応し、大半は水素(HF)ガスとして排気され、タングステンシリサイド膜8bを形成する反応が継続するが、弗素の一部はタングステンシリサイド膜8bの中に取り込まれる。例文帳に追加

In this case, fluorine in WF_6 reacts with hydrogen in SiH_4, and most of fluorine is exhausted as hydrogen fluoride (HF) gas and the reaction for forming the tungsten silicide film 8b continues, however a part of fluorine is taken into the tungsten silicide film 8b. - 特許庁

弗素拡散バリア膜21は、例えばTiN膜等の金属窒物を用いて形成されており、接続孔31を形成する際のF系ガスの使用に基づく、Al合金膜20Bの側壁のAl物の生成を防止することができる。例文帳に追加

This prevents Al fluoride from growing on the side wall of the Al alloy film 20B based on the use of a fluoric gas for forming the connection holes 31. - 特許庁

例文

クリーニング時に使用する弗素ガスの成分からなる層が電極表面に形成されるのを防いで、安定した成膜速度と高いスループットを得る。例文帳に追加

To attain a stabilized film deposition rate and a high throughput by preventing a fluoride layer of fluorine based gas component used at the time of cleaning from being formed on the surface of an electrode. - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「弗素ガス弗化」の英訳

弗素ガス弗化


「弗素ガス弗化」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 18



例文

この物触媒は、遷移金属物、アルカリ金属物および/またはアルカリ土類金属物から選択される2つまたはそれ以上の物の混合物、あるいは、不活性支持体上に付着されたアルカリ金属物、アルカリ土類金属物、および/または遷移金属物のような1つまたはそれ以上の物であって、弗素含有ガスを通過させて、活性物に転させて製造される。例文帳に追加

The fluoride catalyst is a mixture of ≥2 fluorides selected from transition metal fluorides, alkali metal fluorides and/or alkaline earth metal fluorides or one or more fluorides such as alkali metal fluorides, alkaline earth metal fluorides and/or transition metal fluorides, all of which are stuck on an inert supporting body, and is manufactured by passing a fluorine- containing gas through the fluorides to convert into the activated fluorides. - 特許庁

酸素を本質上含まない加熱したキャリヤガス中にTiCl_4 を注入し、その加熱したキャリヤガス及びTiCl_4 に水蒸気、酸素の源及び曇り減少的用量の弗素含有合物を含有する反応性ガス流れを混合し、この混合物を熱いガラス表面と接触させてその熱いガラス表面に弗素変性TiO_2 フィルムを付着させることを構成要件とする。例文帳に追加

TiCl4 is injected into a heated carrier gas not substantially contg. oxygen, the heated carrier gas and TiCl4 are mixed with a reactive gaseous stream contg. steam, a source of oxygen and a fluorine-contg. compd. of the amount enough to reduce cludiness and the mixture is brought into contact with a hot glass surface to deposit the objective fluorine modified TiO2 film on the hot glass surface. - 特許庁

弗素された炭水素および高い密度差を有する別のガスを有する均質に圧縮されたガス混合物を製造することができる方法を記載する。例文帳に追加

To describe a method which enables the manufacture of a homogeneously compressed gas mixture having a fluorinated hydrocarbon and an alternative gas with a high-density difference. - 特許庁

弗素ガス(第2のガス)を用いて裏面側から炭ケイ素基板11をドライエッチングすることで、表面バイアホール14に繋がる裏面バイアホール18を形成する。例文帳に追加

The dry etching is applied to the silicon carbide substrate 11 from a rear side using fluorine-based gas (second gas), by which a backside viahole 18 connected to the surface viahole 14 is formed. - 特許庁

九 鉛、水銀、クロム、砒素、黄りん、弗素、塩素、塩酸、硝酸、亜硫酸、硫酸、一酸炭素、二硫炭素、青酸、ベンゼン、アニリン、その他これに準ずる有害物の粉じん、蒸気又はガスを発散する場所における業務例文帳に追加

(ix) Work in a place where particulate, vapor or gas of lead, mercury, chrome, arsenic, phosphorus, fluorine, chlorine, hydrochloric acid, nitric acid, sulphur dioxide, sulphuric acid, carbon monoxide, carbon disulphide, hydrocyanic, benzene, aniline, or some other injurious material is generated発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

各種のハロゲンガス特に弗素とその合物を含む環境中で優れた耐食性を発揮する表面処理皮膜を備えた部材とその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a member provided with a surface-treated film showing superior corrosion resistance in an environment containing various halogen gases, particularly fluorine and a compound thereof, and to provide a manufacturing method therefor. - 特許庁

少なくとも1本以上のスプレーノズル10にて洗浄水を排ガスに噴射して排ガスを清浄するための排ガス用スクラバーにおいて、スプレーノズル10の少なくとも先端部11が、硬鉛製の外筒14と、弗素樹脂製の内筒15とを有する。例文帳に追加

In this exhaust gas scrubber for cleaning an exhaust gas by spraying cleaning water into the exhaust gas with at least one spray nozzle 10, at least the tip 11 of the spray nozzle 10 has an outer pipe 14 made of hard lead and an inner pipe 15 made of a fluororesin. - 特許庁

例文

弗素系や塩素系等のハロゲン系ガスやプラズマに曝されるセラミック部材を、酸セリウムを3〜10000重量ppmの範囲で含有する相対密度が99%以上のイットリウム・アルミニウム・ガーネット質焼結体により形成する。例文帳に追加

A ceramic to be exposed to chlorine- or fluorine-based halogen- related gas and exposed to a plasma is made of yttrium-aluminum-garnet-based sintered material containing cerium of 3 to 10000 wt.ppm with relative density of 99% or above. - 特許庁

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「弗素ガス弗化」の英訳に関連した単語・英語表現

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