接触分解反応の英語

接触分解反応再生システムは、再生器と、沈降機と、気体−固体分離器と、バッファと、ライザー反応器と、水平反応管と、触媒送出パイプと、ダウンフロー反応器とを含む。例文帳に追加

This recycling system using the catalytic cracking reactions comprises a regenerator, a settler, a gas/liquid separator, a buffer, a riser reactor, a horizontal reaction tube, a catalyst delivery pipe, and a downflow reactor. - 特許庁

反応部２０は、光励起状態の有害物質４０’と触媒３０とを接触させて触媒作用により反応（ここでは分解反応）を生じさせ、反応生成物５０が生成する。例文帳に追加

The reaction part 20 of this apparatus is constituted so as to bring the harmful substance 40' in an optically excited state into contact with a catalyst 30 to be subjected to reaction (herein, decomposition reaction) by catalytic action to form a reaction product 50. - 特許庁

また有機ガスに水と活性ガスを接触させる接触層５２を備えた反応槽５０と、該反応槽５０から取り出した処理ガスを微生物分解させるベース床６ａとからなる有機ガスの利用装置としている。例文帳に追加

The utilization device for the organic gas is constituted with a reaction vessel 50 provided with the contacting layer 52 for bringing the organic gas into contact with the water and the active gas and the base bed 6a for subjecting the treated gas discharged from the reaction vessel 50 to the microorganismic decomposition. - 特許庁

アルカリ水と酸素ガスを有機物と接触させる有機物分解装置の反応器内の温度および圧力を下げることにより、分解に要するエネルギーを低減し、反応器を容易に製造できるようにすること。例文帳に追加

To provide an organic material decomposition apparatus capable of reducing energy required for the decomposition and easily producing a reactor by reducing temperature and pressure in the reactor of an organic material decomposition apparatus in which alkaline water and oxygen gas are brought into contact with organic material. - 特許庁

被分解処理物３１と酸化カルシウム４０を反応器３３内で接触反応させることによって分解処理する方法とその装置を基本手段とする。例文帳に追加

The method for cracking the material 31 to be cracked and the calcium oxide 40 by bringing both thereof into a catalytic reaction with each other within a reactor 33 are provided as basic means. - 特許庁

有機ハロゲン化合物と下記の（ａ）又は（ｂ）の分解処理剤は反応部１３に連続的に導入され、反応部１３において接触して反応した後、連続的に外部に排出される。例文帳に追加

The organic halogen compounds and a decomposition treating agent of the following (a) or (b) are continuously introduced into a reaction section 13 and are continuously discharged outside after making reaction by coming into contact with each other in the reaction section 13. - 特許庁

この耐熱材２２の二等辺に反応ガスを接触させることで反応ガスを分解させ、反応活性種を形成し、基板１５上に成膜させる。例文帳に追加

By bringing the reaction gas into contact with the two equal sides of the heat-resistant material 22, the reaction gas is decomposed, a reaction active seeds is formed, and a film is formed on the substrate 15. - 特許庁

半導体製造装置は、反応室１２内の基板１５の近傍に設けられた素線１６と、反応室１２内に供給される原料ガスとの接触分解反応を利用して基板１５に成膜する。例文帳に追加

A semiconductor manufacturing device forms a film on a substrate, by utilizing the catalytic cracking reaction between the wire 16 provided near a substrate 15, set up in a reaction chamber 12 and a gaseous starting material supplied to the chamber 12. - 特許庁