欠陥過程の英語

液晶の製造過程を通して画素電極の破損を防止し、点欠陥の発生を抑制する。例文帳に追加

To suppress a spot defect from being generated by preventing a pixel electrode from being broken throughout a manufacturing stage for a liquid crystal. - 特許庁

従って、かかる欠陥来歴リストを用いることにより、欠陥の発生した製造工程毎の選別や製造プロセスでの欠陥の変化，成長過程などの解析結果を短時間でかつ正確に得ることが可能となる。例文帳に追加

The use of the historical defect list enables to obtain accurately within a short period of time, a selection of each manufacturing process with defects, a variation of defects in the manufacturing process, and the analysis result of a growth process and the like. - 特許庁

監査人は、監査の過程で内部統制の重要な欠陥を発見した場合には、経営者に報告して是正を求めるとともに、当該重要な欠陥の是正状況を適時に確認しなければならない。例文帳に追加

When identifying material weaknesses in internal controls in the course of the audit, external auditors must report them to the management, request for their remediation and assess theremedial status of such material weaknesses on a timely basis.発音を聞く  - 金融庁

半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。例文帳に追加

To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device. - 特許庁

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device. - 特許庁

ツールの種々の実施は、製造過程の欠損又は不具合のような器材誤差により生じる欠陥が生じ易い位置及び無秩序に作られる欠陥が生じ易い位置の両方を同定するために利用されて良い。例文帳に追加

Various implementations of the tool may be used both to identify the locations at which defects caused by systematic errors such as manufacturing process deficiencies or flaws, are likely to occur and the locations at which randomly-created defects are likely to occur. - 特許庁

この降温過程で、ジグザグ欠陥部１５ｃの周辺正常部との配向規制力の相互作用によりジグザグ欠陥部１５ｃを効率良く減少させることができる。例文帳に追加

In the temperature descending process, the zigzag defect 15c can be efficiently decreased by an interaction of an alignment regulating force with a peripheral normal part of the zigzag defect 15c. - 特許庁

製造過程において画素内で欠陥が発生しても、容易に正常画素に修復することができる薄膜トランジスタマトリクス及びその欠陥修復方法を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film transistor matrix and a defect repairing method thereof wherein a defect in a pixel can be easily repaired to a normal pixel even when the defect is generated in the pixel in a manufacturing process. - 特許庁