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汚染防止プロセスの英語
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英訳・英語 pollution control process
「汚染防止プロセス」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 20件
半導体量産プロセスにおいて、遷移金属によるウエハの汚染を防止する。例文帳に追加
To prevent a wafer from being contaminated with a transition metal in a semiconductor mass production process. - 特許庁
機械的強度や冷却性能を確保しつつプロセス中の金属汚染を防止する。例文帳に追加
To prevent metallic contamination during process while assuring mechanical strength and cooling performance. - 特許庁
アダプタを石英ガラスによって形成することにより、アダプタからの金属汚染物質の発生を防止できるので、プロセス中の金属汚染を防止できる。例文帳に追加
Since generation of metal contaminants from the adapter can be prevented by forming the adapter of silica glass, metallic contamination can be prevented during process. - 特許庁
クリーニング・プロセスの結果生じる副産物がウェファを汚染することを防止する、収集プロセスを提供すること。例文帳に追加
To provide a collecting process to prevent by-products resulting from a cleaning process from contaminating the wafer. - 特許庁
真空アーク再溶解(VARプロセス=VaccumArcRemelting)におけるインゴットシェルフの崩壊による溶融物汚染の防止。例文帳に追加
To prevent pollution of a molten substance due to collapse of an ingot shelf at vacuum arc melting (aVAR process = Vacuum Arc Remelting). - 特許庁
このようにして、ウェハの塵埃汚染、または半導体製造プロセス、ウェハキャリア内への塵埃進入防止をはかる。例文帳に追加
Thus, a wafer is prevented from being contaminated with dust, or dust is prevented from entering in a semiconductor manufacture process or wafer carrier. - 特許庁
付着剤被覆シートとポリスチレン製フレーム部材/滑り止め裏当て部材の複合体とを備えた汚染防止マット・アセンブリおよびその作製プロセス例文帳に追加
CONTAMINATION CONTROL MAT ASSEMBLY WITH ADHESIVE-COATED SHEET AND COMPOSITE OF POLYSTYRENE FRAME MEMBER AND ANTI-SLIP BACKING MEMBER, AND PROCESS FOR FABRICATING SAME - 特許庁
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「汚染防止プロセス」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 20件
パターン欠陥修正方法及びパターン欠陥修正装置に関し、炭素系汚染の洗浄プロセスにおける欠陥修正材料の消失を防止する。例文帳に追加
To prevent losing of a defect correcting material in a washing precess of carbon-based contamination in a method for correcting pattern defects and a pattern defect correcting device. - 特許庁
半導体製造プロセス装置に用いられるシリコン部材において、シリコン部材の寿命を長くする共に、シリコン部材からの不純物発生による半導体汚染を防止する。例文帳に追加
To prolong the service life of a silicon member used for a semiconductor manufacturing process device and, at the same time, to prevent the contamination of a semiconductor with an impurity produced from the silicon member. - 特許庁
基板を構成するガラスからのNa等の析出、熱プロセスでの残留歪に起因するカソードの汚染や劣化、陰極ガラス基板上の配線のヒロック、ボイド発生を防止する。例文帳に追加
To prevent deposition of Na or the like from glass constituting a substrate, pollution or deterioration of a cathode caused by residual strain in a heat process, a hillock of wiring on a negative electrode glass substrate, and void generation. - 特許庁
半導体製造プロセスでの汚染が防止され、面内温度勾配の発生もなく、信頼性の高い半導体が得られる半導体製造用サセプタ、半導体製造装置の提供。例文帳に追加
To provide a susceptor for manufacturing a semiconductor and a semiconductor-manufacturing device for obtaining the highly reliable semiconduc tor by preventing contamination in a semiconductor-manufacturing process and preventing a temperature gradient from occurring within a surface. - 特許庁
インクジェットヘッド用基板の製造プロセスにおける電極パッドの汚染を効果的に防止し、これによって洗浄を必要とすることなく、ボールバンプの電極パッドに対する接合が良好になされるようにする。例文帳に追加
To effectively prevent a contamination of an electrode pad in the manufacturing process of a substrate for an inkjet head to carry out excellent connection of a ball bump to the electrode pad without cleaning. - 特許庁
プラズマによる内壁浸蝕に起因する金属汚染を防止し、かつプロセスの安定化に必要な機能を満たし、長時間使用することが可能なガラス状炭素製チャンバー内壁保護部材を提供する。例文帳に追加
To provide an internal wall protective member that can prevent metallic contamination caused by the erosion of the internal wall of a glassy carbon- made chamber by a plasma, fulfils a function required for stabilizing a process, and can be used for a long time. - 特許庁
電極配線のパッド部(103)上に基板製造プロセスで生じる汚染を防止するための層(208)を形成する工程と、パッド部と配線部材との接続に先立って層(208)を除去する工程とを具える。例文帳に追加
The method for manufacturing a substrate for an inkjet head comprises a step for forming a layer (208), on the pad part (103) of an electrode wiring, for preventing contamination to occur in a substrate manufacturing process, and a step for removing the layer (208) prior to the connection between the pad part and the wiring member. - 特許庁
残留トナーの廃棄作業をなくし、コストの低減を図ると共に、環境汚染防止などに有効なクリーナレス画像形成プロセスを採用したときに生じる残像現象を防止することのできる静電荷像現像用トナー、このトナーを用いた画像形成方法及び画像形成装置を提供すること。例文帳に追加
To provide electrostatic image developing toner capable of attaining the reduction of a cost by eliminating a residual toner discharge work, and capable of preventing an afterimage phenomenon generated in the case of introducing a cleaner-less image forming process which is effective in preventing an environmental contamination, and to provide an image forming method and an image forming device using the toner. - 特許庁
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pollution control process
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