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粗研磨の英語
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「粗研磨」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 490件
単一の研磨機で粗研磨と仕上げ研磨を可能として、生産効率の向上を実現する。例文帳に追加
To enhance the productivity by enabling a single polishing machine to carry out both rough polishing and finish-up polishing. - 特許庁
半導体ウェハの粗研磨方法、及び半導体ウェハの研磨装置例文帳に追加
METHOD OF ROUGHLY GRINDING SEMICONDUCTOR WAFER, AND APPARATUS OF GRINDING THE SEMICONDUCTOR WAFER - 特許庁
粗研磨工程と仕上げ研磨工程との間にＰＣＲ工程を配置した。例文帳に追加
The PCR process is inserted between the rough polishing process and a finish polishing process. - 特許庁
粗研磨から仕上げ研磨までの複数の研磨工程において、複数の研磨フィルムを用いることなく、一枚の研磨フィルムで複数の研磨工程を行うことができ、研磨工程ごとに研磨フィルムを交換する煩わしさがない研磨フィルムを提供すること。例文帳に追加
To provide a grinding film capable of implementing a plurality of grinding processes with a sheet of grinding film without using a plurality of grinding films in the plurality of grinding processes from rough grinding to finish grinding, and eliminating troubles of replacing the grinding film for each grinding process. - 特許庁
ダイヤモンド粒子を研磨剤とした、仕上げ研磨前の粗研磨用としての研磨シ—トにおいて、光コネクタ端面の傷つきを防止でき、また研磨時間の短縮化をはかれ、さらにコストの低減もはかれる上記研磨シ—トを提供する。例文帳に追加
To provide a polishing sheet comprising diamond particles as abrasive agent for rough polishing prior to finish polishing capable of preventing damage on an end surface of a photoconnector, shortening polishing time, and reducing cost. - 特許庁
研磨装置に対して、回転速度の異ならせることにより研磨速度を異ならせた粗研磨用および精密研磨用の２種の研磨プレートを配置することとし、さらに単一の研磨ヘッドを順次これら研磨プレート上を移動させることにより研磨精度の向上と二面化の防止を達成する。例文帳に追加
Improvement of the polishing precision and prevention of the two-facedness are performed by arranging two kinds of polishing plates for rough polishing and precise polishing polishing speed of which is made different from each other by differring rotating speed on the polishing device and sequentially moving the single polishing head on these polishing plates. - 特許庁
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「粗研磨」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 490件
円筒体、特に被製版ロールを所定の番手の研磨砥石で研磨するにもかかわらず、より大きい番手の研磨砥石で研磨するときの表面粗さに相当する表面粗さが得られる、円筒体の砥石研磨方法。例文帳に追加
To provide a method for polishing a cylindrical body by a grinding wheel capable of obtaining a surface roughness equivalent to a surface roughness obtained when the cylindrical body, particularly, manufactured roll is polished by a polishing grinding wheel of a bigger size in spite of polishing it by a polishing grinding wheel having a predetermined size. - 特許庁
オンアクシスシリコン基板を研磨ステップ１０４で研磨して、ウェーハの表面粗さを増大させる。例文帳に追加
Surface roughness of the wafer is increased by polishing the on-axis silicon substrate in the polishing step 104. - 特許庁
本発明は、研磨傷を発生せず、かつ効率的に面粗さの良好な研磨が行える。例文帳に追加
This polishing sheet generates no polishing flaw and effectively polishes a work into favorable surface roughness. - 特許庁
研磨速度及び表面粗さの改善された研磨用砥粒分散剤及び研磨用スラリーを提供する。例文帳に追加
To obtain both an abrasive grain dispersant for polishing, having improved polishing rate and surface roughness, and a slurry for polishing. - 特許庁
０．０１〜０．７５の無次元粗さＲを示す研磨テキスチャを含む研磨層を有するケミカルメカニカル研磨パッドを提供する。例文帳に追加
Chemical mechanical polishing pads are provided, wherein the chemical mechanical polishing pads have a polishing layer comprising a polishing texture that exhibits a dimensionless roughness R between 0.01 and 0.75. - 特許庁
ワーク被研磨面の平坦度、平面度をより高め、かつ表面粗さを犠牲にすることのない、改善された研磨装置、研磨方法を提供する。例文帳に追加
To provide an improved polishing apparatus and a polishing method capable of improving the flatness or planarity of a polished surface of a workpiece without sacrificing surface roughness. - 特許庁
磁気ディスク基板等の研磨において、表面粗さが小さく、突起、研磨傷を発生させない研磨組成物を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a polishing composition which, when used for polishing a magnetic disc substrate or the like, gives a low degree of surface roughness and causes neither a projection nor a polishing scar. - 特許庁
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