自己組織化リソグラフィの英語

ポリマの指向性自己組織化を利用するサブリソグラフィ構造の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING SUB-LITHOGRAPHIC STRUCTURE UTILIZING POLYMER DIRECTIONAL SELF-ORGANIZATION - 特許庁

リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。例文帳に追加

There is provided: a method comprising conducting lithography to form a first pattern on a substrate, and conducting block-copolymer self-assembly to form a second pattern on the substrate; a patterned substrate template; and a method comprising a combination of lithography and self-assembly techniques. - 特許庁

自己組織化リソグラフィーにより作成されるサーボ信号領域のドット配列の乱れを抑制し、サーボ信号の品質低下を防止した磁気記録媒体を得る。例文帳に追加

To obtain a magnetic recording medium which controls disarray in a dot array in a servo signal area created by self-organization lithography and prevents a reduced quality of servo signal. - 特許庁

磁気記録層表面のサーボ領域に自己組織化材料によるリソグラフィーを用いてビットパターンが形成された磁気記録媒体のサーボ領域の信号品質を向上して記録再生機構のエラーを抑制する。例文帳に追加

To improve signal quality in a servo area of a magnetic recording medium where a bit pattern is formed using lithography by self-organizing material in the servo area of the surface of a magnetic recording layer, thereby reducing errors of a recording and reproducing mechanism. - 特許庁

表面処理された基材上にフォトリソグラフィ方法によりパターンを形成し、その上に化学的自己組織化の方法を利用してカーボンナノチューブを単層および多層に積層してカーボンナノチューブのパターンを形成させる方法である。例文帳に追加

A pattern is formed on a surface-treated base material by a photo-lithographic method, and a carbon nanotube is laminated in a single or multiple manner by utilizing a chemical self-organizing method thereon to form a pattern of the carbon nanotube. - 特許庁

フォトリソグラフィーなどのナノ精密微細加工技術かつ複雑な処理工程を用いることなく、大きな分子量を有するブロック共重合体のミクロ相分離による自己組織化を利用して、視認可能なサイズの単結晶様の巨大グレイン（ミクロ相分離構造集合体）のポリマー構造体を簡易に製造することが可能な方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for easily producing a polymer structure of a single crystal-like huge grain (microphase separation structure aggregate) having a visible size by utilizing self-organization by microphase separation of block copolymer having a large molecular weight without using a nano precision ultra-fine processing technology such as photolithography and a complicated treatment process. - 特許庁