電気二重層コンデンサにおいて，電解液としては，ホウフッ化第４アンモニウム化合物のプロピレンカーボネート溶液が用いられている。例文帳に追加

As an electrolyte, a propylene carbonate solution of borofluoride quaternary ammonium compound is used. - 特許庁

１またはそれ以上のポリオール化合物、１またはそれ以上のグリコールエーテル、水、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、アンモニウム−フッ化水素テトラメチルアンモニウムまたはそれらの混合物から選択されるフッ化物塩、および任意に１またはそれ以上の添加剤を含み、水が組成物の全重量に基づいて少なくとも５重量％の量において存在する、基体からポリマー物質を除去するための組成物。例文帳に追加

The composition for removing polymeric materials from a base body contains ≥1 polyol compounds, ≥1 glycol ethers, water, a fluoride salt selected from ammonium fluoride, ammonium hydrogen fluoride, ammonium- tetramethylammonium hydrogen fluoride and their mixture, and optionally ≥1 additives, and the content of water is at least 5 wt.% based on the whole weight of the composition. - 特許庁

上記アニオン交換膜は、ポリビニルピリジン膜、アンモニウム塩誘導基を有するフッ素系イオン交換膜、アンモニウム塩誘導基を有するビニルベンゼンポリマー膜およびクロロメチルスチレンとビニルベンゼンとの共重合体をアミノ化した膜からなる群より選ばれる。例文帳に追加

The anion exchange film is selected from a group including a polyvinylpyridine film, a fluorine-based ion exchange film having ammonium salt derivative, a vinylbenzene polymer film having ammonium salt derivative, and a film formed by laminating a copolymer of chloromethylstyrene and vinylbenzene. - 特許庁

（Ａ）成分：０．０１重量％〜２０重量％のフッ化水素 （Ｂ）成分：０．１重量％〜２０重量％のフッ化アンモニウム、又は第四級アンモニウムフロライドの少なくとも何れか一方 （Ｃ）１重量％〜８０重量％の塩酸、硝酸、硫酸及びリン酸からなる群より選択される少なくとも何れか１種の酸 （Ｄ）水例文帳に追加

(A) 0.01-20 wt.% of hydrogen fluoride; (B) 0.1-20 wt.% of at least one of ammonium fluoride and ternary ammonium fluoride; (C) 1-80 wt.% of at least one acid selected from the group consisting of hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and phosphoric acid; and (D) water. - 特許庁

半導体基板用洗浄液は、フッ化水素０．０８〜０．１重量％、フッ化アンモニウム０．５〜０．６重量％、過酸化水素２４．９〜４９．７重量％及び水４９．６〜７４．５重量％を含む。例文帳に追加

This cleaning solution for semiconductor substrates contains 0.08-0.1 wt.% of hydrogen fluoride, 0.5-0.6 wt.% of ammonium fluoride, 24.9-49.7 wt.% of hydrogen peroxide, and 49.6-74.5 wt.% of water. - 特許庁

前記洗浄液組成物はクエン酸、クエン酸塩、フッ化物塩、フッ酸、過酸化水素水及び過硫酸アンモニウムからなる群から選択された二つの化合物を４〜５０重量％と、残量の水（Ｈ_２Ｏ）とを含む組成を有する。例文帳に追加

The cleaning liquid composition comprises a composition containing 4-50 wt.% of two compounds selected out from a group, including a citric acid, a citrate, a fluoride salt, oxygenated water and an ammonium persulfate, and the remaining quantity of water (H_2O). - 特許庁

レジスト用剥離剤組成物の一例は、スルファミン酸５．０重量％、Ｈ_２Ｏ３４．７重量％、２フッ化１水素アンモニウム０．３重量％、Ｎ，Ｎジメチルアセトアミド３０重量％、及びジエチレングリコールモノｎブチルエーテル３０重量％からなるレジスト用剥離剤組成物である。例文帳に追加

One example of the resist removing agent composition comprises: 5.0 wt.% of sulfamic acid; 34.7 wt.% of H_2O; 0.3 wt.% of ammonium hydrogendifluoride; 30 wt.% of N, N dimethyl acetoamide; and 30 wt.% of ethyleneglycol mono n-butylether. - 特許庁

また、レジスト用剥離剤組成物の別例は、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸３．０重量％、フッ化アンモニウム０．１２重量％、Ｈ_２Ｏ４８．４重量％、ジエチレングリコールモノｎブチルエーテル４８．５重量％からなるレジスト用剥離剤組成物である。例文帳に追加

Another example of the resist removing agent composition comprises: 3.0 wt.% of 1-hydroxyethylydene-1,1-diphosphonic acid; 0.12 wt.% of ammonium fluoride; 48.4 wt.% of H_2O; and 48.5 wt.% of diethyleneglycol mono n-butylether. - 特許庁

イミダゾール系、ピラゾール系又はピロール系の化合物の少なくとも１種０．００１〜１０重量％、フッ化アンモニウム０．００１〜５重量％、水５〜５０重量％、及び、残部の水溶性有機溶剤を含有するレジスト剥離剤組成物。例文帳に追加

The resist stripper composition contains at least one kind of compound in imidazole, pyrazole or pyrrole compounds by 0.001 to 10 wt.%, ammonium fluoride by 0.001 to 1 wt.%, water by 5 to 50 wt.% and the balance of a water-soluble organic solvent. - 特許庁

環状脂肪族炭化水素骨格を有し、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のアンモニウム塩、及び、フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains a polymer having a cycloaliphatic hydrocarbon skeleton and convertible to an alkali-soluble polymer by decomposition by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a specified ammonium salt and a fluorine-and/or silicon-containing surfactant. - 特許庁

約２０％〜約８０％の有機極性溶剤、約１０重量％〜約６０重量％の水、約１重量％〜約１０重量％の第四級アンモニウム化合物、場合により約０．１重量％〜約５重量％のヒドロキシルアミン、また場合により約０．１重量％〜約１０重量％のフッ化物イオン源、及び、メルカプト含有腐食抑制剤を含む組成物。例文帳に追加

The composition is composed of about 20 to about 80% of an organic polar solvent, about 10 to about 60 wt.% water, about 1 to about 10 wt.% of a quaternary ammonium compound, optionally about 0.1 to about 5 wt.% of hydroxylamine, optionally about 0.1 to about 10 wt.% of a fluoride ion source and a mercapto containing corrosion inhibitor. - 特許庁

式（１）：［化１］（式中、Ｒ^１およびＲ^２は同じかまたは異なり、いずれも炭素数４〜１２の非フッ素系化飽和炭化水素基であり；Ｍはアルカリ金属、アンモニウム塩またはアミン塩である）で示される化合物（１）の存在下に、フルオロオレフィンを水性分散重合することを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。例文帳に追加

In the method for producing a fluorine-containing polymer, a fluoroolefin is subjected to aqueous dispersion polymerization in the presence of a compound (1) represented by formula (1), wherein R^1 and R^2 may be the same or different and each represents a 4C-12C non-fluorinated saturated hydrocarbon group; and M represents an alkali metal, an ammonium salt, or an amine salt. - 特許庁

(1)フッ化水素酸とアンモニア、ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第４級アンモニウム塩からなる群から選ばれるフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも１種；(2)アルコール類及びケトン類からなる少なくとも１種の含酸素有機溶媒；及び(3)水を含むことを特徴とするポリマー剥離液組成物。例文帳に追加

The objective polymer removing solution composition contains (1) at least one fluoride salt or difluoride salt comprising hydrofluoric acid and one selected form the group comprising ammonia, hydroxylamines, aliphatic amines, aromatic amines and aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, (2) at least one oxygen-containing organic solvent selected from alcohols and ketones and (3) water. - 特許庁

(1)フッ化水素酸とアンモニア、ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第４級アンモニウム塩からなる群から選ばれるフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも１種；(2)アルコール類及びケトン類からなる少なくとも１種の含酸素有機溶媒；及び(3)水を含むことを特徴とするＣＭＰスラリー洗浄液組成物。例文帳に追加

CMP slurry cleaning agent composition includes (1) at least fluoride salt or difluoride salt selected from a group constituted of hydrofluoric acid and ammonia, a hydroxylamine class, a fatty amine class, an aromatic amine class, and fatty or aromatic group quaternary ammonium salt; (2) at least one type of organic solvent containing oxygen, which consists of an alcohol class and a ketone class; and (3) water. - 特許庁

(1)ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第４級アンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも１種とフッ化水素酸から形成されたフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも１種；(2)ヘテロ原子を有する有機溶媒の少なくとも１種；及び(3)水を含むことを特徴とする洗浄用組成物。例文帳に追加

This detergent composition is characterized by containing (1) at least one selected from the group consisting of hydroxyamines, aliphatic amines, aromatic amines, and aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, and at least one of fluoride salts and difluoride salts formed of hydrofluoric acid, (2) at least one of organic solvents having a hetero atom, and (3) water. - 特許庁

式（１）：（式中、Ｒ^1およびＲ^2は同じかまたは異なり、いずれも炭素数４〜１２の非フッ素系飽和炭化水素基；Ｍはアルカリ金属、アンモニウム塩またはアミン塩）で示される化合物（１）の存在下に少なくとも１種のフルオロオレフィンを含む単量体を水性分散重合することを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。例文帳に追加

In the method for producing a fluorine-containing polymer, a monomer including at least one fluoroolefin is subjected to aqueous dispersion polymerization in the presence of a compound (1) represented by formula (1), wherein R^1 and R^2 may be the same or different and each represents a 4C-12C non-fluorinated saturated hydrocarbon group; and M represents an alkali metal, an ammonium salt, or an amine salt. - 特許庁

側鎖に含フッ素基を有し、かつ電解質溶解性の単位を有する非晶性含フッ素ポリエーテル化合物またはその架橋物に、ヘキサフルオロリン酸スピロ−（１，１’）−ビピロリジニウムに代表されるヘキサフルオロリン酸スピロ型第４級アンモニウムを溶解させた高分子イオン伝導体及び該高分子イオン伝導体を用いた電気二重層キャパシタ。例文帳に追加

This invention discloses a polymer ion conductor manufactured by solving hexa fluorophosphoric acid spiro-type quaternary anmonium represented by hexa fluorophosphoric acid spiro-(1,1')-bipyriodinium in amorphous fluorine polyether compound having fluoro-group at the side chain and the unit of electrolyte solubility or its bridge object and an electric double-layer capacitor using the polymer ion conductor. - 特許庁

不飽和二重結合を有する重合性化合物（Ａ）と窒素原子に直接結合した水素原子を含まないオニウムカチオン及びフッ素原子含有アニオンとからなる有機塩（Ｂ）を含有させてなる光硬化性組成物であり、オニウムカチオン成分はアンモニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピリジウムカチオンおよびスルホニウムカチオンから選択される少なくとも１種である。例文帳に追加

The photocurable composition comprises (A) a polymerizable compound having an unsaturated double bond and (B) an organic salt comprising an onium cation containing no hydrogen atom directly bonded to a nitrogen atom and a fluorine atom-containing anion wherein the onium cation component is at least one kind of cation selected from the group consisting of an ammonium cation, an imidazolium cation, a pyridinium cation and a sulfonium cation. - 特許庁

以下に示した重量パーセント範囲で、以下の成分を含有する、プラズマアッシング後の半導体製造で使用する半導体ウエハ洗浄処方物：フッ化アンモニウムおよび/またはそれらの誘導体１〜21％；有機アミンまたは２種のアミンの混合物20〜55％；水23〜50％；金属キレート化剤またはキレート化剤の混合物０〜21％。例文帳に追加

The chemical formulation comprises the following components based on the following range of percentage by weight: 1-21% of ammonium fluoride and/or its derivatives; 20-55% of organic amines or mixture of 2 kinds of amines; 23-50% of water; and 0-21% of metal chelating agent or mixture of chelating agents. - 特許庁

アルミニウム電解コンデンサの駆動用電解液において、γ−ブチロラクトンを主成分とする溶媒に対して、溶質として、以下の化学式で示される三級アミンであるＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムイオンと四フッ化ホウ酸イオンなどの無機酸アニオンとの塩を１５〜５０重量％配合する。例文帳に追加

In an electrolyte for driving an aluminium electrolytic capacitor, a solvent principally comprising γ-butyrolactone is mixed with 15-50 wt.% of a salt of N,N-dimethy-N-(2-methoxy ethyl) ammonium ions of tertial amine represented by a chemical formula, and inorganic acid anions such as tetrafluoroborate ions as solute. - 特許庁

次いで、エア吹き出しパイプ１８からカルシウム除去用の塩酸水溶液と酸性フッ化アンモニウムの水溶液の混合液内に処理槽底部からエアを吹き込み、バブリングし、気泡と共に混合液を上昇させてこの混合液を攪拌して積み重ねられたフィンのない熱交換コイル１２外周面に付着しているカルシウム系及びシリカ系スケールを除去する。例文帳に追加

The air is blown from an air blower pipe 18 in liquid mixture between the hydrochloric acid aqueous solution for removing the calcium and the acidic ammonium fluoride aqueous solution to bubble it, and the liquid mixture is raised along with bubbles and stirred so as to remove the calcium based and the silica based scale stuck to the outer circumferential surface of the stacked heat exchange coils 12 without fins. - 特許庁