高堆積速度の英語

比較的高い成膜速度で、特性ムラおよび欠陥の少ない良好な堆積膜を形成する。例文帳に追加

To form a favorable deposited film with little unevenness in property and little defects at a relatively high deposition speed. - 特許庁

高い引上速度と改善された堆積効率でガラス物品を製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing glass articles with a high pulling-up speed and improved deposition efficiency. - 特許庁

前記シリコン膜を形成する工程は、アモルファスシリコンを堆積させる第１工程と、アモルファスシリコンを堆積させると共にシリコン結晶粒を生成し、前記シリコン結晶粒の成長速度よりも前記アモルファスシリコンの堆積速度を高くする第２工程と、を有する。例文帳に追加

The step of forming the silicon film includes a first step of depositing amorphous silicon, and a second step of producing silicon crystal grains with the deposition of the amorphous silicon, and of setting the deposition rate of the amorphous silicon higher than the growth rate of the silicon crystal grains. - 特許庁

続いて、結晶化温度より高い温度に基板を加熱し、結晶化速度Ｒが堆積速度Ｓより大きい状態で堆積層を折衝貸しながら成膜する。例文帳に追加

In succession, the substrate is heated to the temperature higher than the crystallization temperature and the deposition layer is deposited under the crystallization effected in the state of the crystallization rate R higher than the deposition rate S. - 特許庁

集電体１の表面には凹凸が形成されると共に、集電体１上に低堆積速度層１１と高堆積速度層１３とが順に設けられていることを特徴とする。例文帳に追加

A concavo-convex shape is formed on the surface of a current collector 1, and a low-deposition speed layer 11 and a high-deposition speed layer 13 are formed on the current collector 1 in this order. - 特許庁

大面積の基体上に成膜される膜の堆積速度が速く、且つ、ガスの利用効率が良く、高品質な膜質である堆積膜を形成し、効率よく半導体デバイスを形成することができ、複数の円筒状基体の表面上に、高品質な堆積膜を高速度で形成し、効率良く半導体デバイスを形成することのできるプラズマＣＶＤ装置およびプラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma CVD apparatus and a method for forming a deposition film with plasma CVD, which have an adequate gas utilization efficiency, form a deposition film having high quality with high speed on a substrate of a large area or on the surface of several cylindrical substrates, and can efficiently manufacture a semiconductor device. - 特許庁

ケイ素化合物を含む原料ガスを燃焼反応させることによって得られるシリカを主成分とするシリカスート（シリカ微粒子の堆積体）を高収率、高堆積速度で合成できる堆積用バーナー及びシリカスートの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a burner for deposition, and a manufacturing method of silica soot capable of synthesizing the silica soot (a deposit of silica particulates) mainly composed of silica obtained by combustion reaction of raw material gas containing a silicon compound at a high yield and deposition speed. - 特許庁

これにより、周状の領域の突起２４上に堆積した堆積物の除去速度を増大させることができ、チャンバ１２内部構成部材に対するクリーニングプラズマの効果を高め、堆積したクリーニング残りの剥離によるパーティクルの発生を防止することができる。例文帳に追加

Thereby, the apparatus increases a removing rate for the deposits formed on the protrusion 24 in the circumferential region, enhances the effect of the cleaning plasma on the components inside the chamber 12, and prevents the production of the particles due to the peeling of the deposits remaining after the cleaning operation. - 特許庁