Atmospheric Depositionとは 意味・読み方・使い方

The active layer 6 is formed by an organic metal vapor deposition, and its film forming pressure conditions are set to atmospheric pressure or rather lower pressure than the atmospheric pressure.例文帳に追加

活性層６を有機金属気相成長法により形成し、その製膜圧力条件を大気圧また大気圧よりもやや低い圧力とする。 - 特許庁

Holes 210 in semiconductor processing reactor components 200 are sized to facilitate deposition of protective coatings, such chemical vapor deposition at atmospheric pressure.例文帳に追加

半導体処理反応器部品２００のホール２１０は、大気圧化学気相成長のような方法による保護コーティングの成膜を促進するようなサイズを有する。 - 特許庁

To provide a film coating system which has a process of forming a film by vapor deposition in normal-pressure plasma, and forms the thin film of high quality by vapor deposition in the atmospheric environment, and to provide an isolating device thereof.例文帳に追加

常圧プラズマ膜蒸着プロセスと高品質膜を有し、大気環境において薄膜蒸着を行う膜コーティングシステムとその隔離装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of depositing a uniform, high purity thin film under an atmospheric pressure and a film deposition system.例文帳に追加

均一で純度の高い薄膜を大気圧中で簡単に形成する方法及びその成膜装置を提供する。 - 特許庁

This film 13 is a layer constituted by laminating atomic layers, which respectively comprise 15 to 23 pieces or thereabouts of atoms, and is formed using O2 gas or an O2 gas plasma, an atmospheric plasma or a CVD(Chemical Vapor Deposition) method or the like.例文帳に追加

この酸化膜１３は、１５〜２３個程度の原子の積層によって構成された層であり、Ｏ_2 ガス、またはＯ_3 ガスプラズマ、大気圧プラズマ、あるいはＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）等にて形成する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition method by which a multilayer film can be deposited while changing film deposition areas without exchanging mask and releasing a vacuum chamber to the atmospheric air with a simple apparatus constitution.例文帳に追加

簡易な装置構成で、かつ、マスクの交換や真空チャンバの大気開放を行なうことなく、成膜領域を変更して多層膜を成膜できる真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

As the correction amount, a correction amount based on deposition amount of soot and an intake air temperature and a correction amount based on the deposition amount of soot and atmospheric pressure are calculated.例文帳に追加

この補正量として、ＳＯＯＴの堆積量と吸気温とに基づく補正量、及びＳＯＯＴの堆積量と大気圧とに基づく補正量をそれぞれ算出する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which allows to remove a vapor deposition material stuck and deposited on a shutter without returning the material to a crucible while maintaining a vacuum atmosphere without returning the interior of a chamber (vapor deposition chamber) to an atmospheric pressure, and to provide an apparatus for manufacturing an organic electroluminescence device equipped with the vapor deposition apparatus.例文帳に追加

シャッターに付着し堆積した蒸着材料を、チャンバー（蒸着室）内を大気圧に戻すことなく真空雰囲気を維持したままで、坩堝に戻すことなく除去するようにした、蒸着装置とこれを備えた有機ＥＬ装置の製造装置を提供する。 - 特許庁