Back-face Exposure Methodとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR MANUFACTURING WAFER FOR BACK FACE EXPOSURE SOLID IMAGING ELEMENT例文帳に追加

裏面照射型固体撮像素子用ウェーハの製造方法 - 特許庁

To facilitate handling of an intaglio plate for transfer to be used for forming a color material portion or a light shielding portion of a color filter on a large glass substrate by a back face exposure method.例文帳に追加

大サイズのガラス基板にカラーフィルタの色材部や遮光部を裏面露光法によって作成する転写用凹版の取り扱いを容易にする。 - 特許庁

To provide a double-face drawing apparatus which can directly draw a pattern with an exposure light beam on a resist layer on the top and the back surfaces of a substrate, and to provide a method for drawing an image.例文帳に追加

基材の表面および裏面のレジスト層に露光ビームでパターンを直接描画できる両面描画装置およびその描画方法を提供する。 - 特許庁

A groove part DH is formed on a dry film 14 on a chrome layer 12 by a photolithography method by which exposure is made from the back face 11r of a glass substrate 11 of which the surface 11f is covered with the chrome layer 12 becoming a mask, and gold 15 is imbedded in the groove part DH.例文帳に追加

マスクとなるクロム層１２で表面１１ｆを覆われるガラス基板１１の裏面１１ｒから露光するフォトリソグラフィー法で、クロム層１２上のドライフィルム１４に溝部ＤＨを形成し、その溝部ＤＨに金１５を埋める。 - 特許庁

A cathode electrode CL is formed using a transparent electrode at only a required portion and using an electrode material with a low resistance value such as a printed-metal electrode in the portion other than that, thereby a manufacturing process of the nano material electron source by a back face exposure method can be introduced while securing low resistance of the cathode electrode.例文帳に追加

必要な部分にのみ透明電極を用い、それ以外は印刷金属電極等の抵抗値の低い電極材料を用いてカソード電極ＣＬを形成することにより、カソード電極ＣＬの低抵抗化を確保した上で、背面露光法によるナノ材料電子源の作製プロセスを導入することができる。 - 特許庁

The method for inspecting a surface of a stencil mask to be used for charged particle beam exposure or the like includes an inspection step where a foreign matter or a defect on the surface of a membrane is inspected based on a first image of the surface of the membrane and on a second image of the back face of the membrane.例文帳に追加

荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第１の画像と、メンブレン部裏面の第２の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁