Interstitial elementとは 意味・読み方・使い方

In an iron or steel containing an interstitial type solution element, a phenomenon caused by diffusion phenomenon of the interstitial type element, concretely, aging and decarburizing, is controlled by applying the strong magnetic field.例文帳に追加

侵入型の固溶元素を含む鉄又は鋼であって、侵入型元素の拡散現象により引き起こされる現象、より、具体的には、時効、脱炭を、強磁場をかけることで制御する。 - 特許庁

The method for manufacturing the silicon carbide semiconductor element comprise the steps of generating silicon(Si) holes near an impurity ion implanted region, and reducing Si interstitial atoms.例文帳に追加

不純物イオン注入領域近傍にシリコン（Ｓｉ）空孔を生成させ、Ｓｉ格子間原子を減少させる。 - 特許庁

One or more information sets regarding the steel material are obtained by analyzing the steel which are the information regarding the composition of a deposited material and/or an interstitial material, the information of a size of the deposited material and/or the interstitial material, and the information regarding the solid solubility of an element to be noticed.例文帳に追加

鋼材における、析出物および／または介在物の組成の情報、析出物および／または介在物のサイズの情報、着目する元素の固溶量の情報の一つ以上を分析により得る。 - 特許庁

The silicon solid solution layer 106 has a structure in which silicon is arranged as an interstitial element or a substitutional element in a copper crystal structure forming the copper interconnect line 107.例文帳に追加

シリコン固溶層１０６は、銅配線１０７を構成する銅の結晶構造中にシリコンが格子間元素または置換元素として配置された構造となっている。 - 特許庁

MULTI-ELEMENT-BASED RARE EARTH-IRON LATTICE INTERSTITIAL PERMANENT MAGNET MATERIAL, PERMANENT MAGNET COMPOSED OF THE MATERIAL AND MANUFACTURE OF THE MATERIAL AND THE PERMANENT MAGNET例文帳に追加

多元系希土類−鉄格子浸入型永久磁石材料、およびそれからなる永久磁石、ならびにそれらの製造方法 - 特許庁

Silicon-containing copper forming the silicon solid solution 106 is kept in a state in which silicon is introduced as an interstitial element or a substitutional element while the silicon-containing copper maintains a copper crystal structure (face-centered cubic lattice;lattice constant 3.6Å).例文帳に追加

シリコン固溶層１０６を構成するシリコン含有銅は、銅の結晶構造（面心立方格子；格子定数３．６オングストローム）を維持しつつ格子間元素または置換元素としてシリコンが導入された状態となっている。 - 特許庁

Also, preferably, a nitride layer is formed by interstitial element nitriding treatment or surface treatment of any on selected from chrome plating, composite chrome plating, composite plating, thermal spraying and physical vapor-deposition is performed.例文帳に追加

また、ピストンリングには、窒化層を侵入元素型の窒化処理によって形成したり、クロムメッキ、複合クロムメッキ、複合メッキ、溶射、物理蒸着の何れかの表面処理を施すことが好ましい。 - 特許庁