Li-biとは 意味・読み方・使い方

(2) The sputtering target contains Bi, B and at least one element X selected from Ge, Li, Sn, Cu, Fe, Pd, Zn, Mg, Nd, Mn and Ni.例文帳に追加

（２）Ｂｉ、Ｂを含有し、更にＧｅ、Ｌｉ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｎｄ、Ｍｎ、Ｎｉから選択される少なくとも一種の元素Ｘを含有するスパッタリングターゲット。 - 特許庁

This thermoelement material has a structure of the formula AxB2Oy [A is Na, Li, K, Ca, Sr, Ba, Bi, Y or La; B is Mn, Fe, Co, Ni or Cu; 1≤(x)≤2; 2≤(y)≤4].例文帳に追加

Ａ_ｘＢ_２Ｏ_ｙ（Ａ：Ｎａ、Ｌｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｙ、Ｌａ、Ｂ：Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、１≦ｘ≦２、２≦ｙ≦４）型構造を有する熱電素子材料。 - 特許庁

It is preferred to add one or more types of Li, B, Na, Al, Si, P, S, K, Ti, V, Zn, Rb, Bi, Pb, Au, Pt, Pd, Re, Mo and Ta as auxiliary additives.例文帳に追加

Ｌｉ、Ｂ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｋ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｂｉ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｔａの１種または、２種以上とを補助添加物として添加することが好ましい。 - 特許庁

(2) In the continuous casting method mentioned in the above (1), the molten metal is molten steel, and the additional metal element is the metal including one or more selected from Mg, Bi, Ag, Ca, Te, Pb, Mn, Li and the like.例文帳に追加

（２）溶融金属が溶鋼であり、添加金属元素がＭｇ、Ｂｉ、Ａｇ、Ｃａ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｍｎ、Ｌｉなどの１種以上を含む金属である前記（１）に記載の連続鋳造方法。 - 特許庁

(1) The write-once optical recording medium has a recording layer having at least an oxide of Bi and an oxide of M (M is at least one element selected from Mg, Al, Zn, Li, Si, Hf, Sn, Y, B) as main components on a substrate, and the content of oxygen of the oxides is lower than that of stoichiometric composition.例文帳に追加

（１）基板上に、少なくとも、Ｂｉの酸化物とＭ（Ｍは、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｙ、Ｂの中から選ばれた少なくとも一種の元素）の酸化物を主成分とする記録層を備え、該酸化物の酸素含有量が化学量論組成よりも少ないことを特徴とする追記型光記録媒体。 - 特許庁

(1) In the optical recording medium containing a substrate and a recording layer over the substrate, the recording layer primarily contains Bi and O (oxygen), and further contains B and at least one element X selected from Ge, Li, Sn, Cu, Fe, Pd, Zn, Mg, Nd, Mn and Ni.例文帳に追加

（１）基板上に少なくとも記録層を形成した光記録媒体であって、記録層の構成元素の主成分がＢｉ及びＯ（酸素）であり、Ｂを含有し、更にＧｅ、Ｌｉ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｎｄ、Ｍｎ、Ｎｉから選択される少なくとも一種の元素Ｘを含有する光記録媒体。 - 特許庁

The electron transport layer 3 is structured of titanium oxide or zinc oxide, the light absorption layer 5 is structured of either oxide of metal selected from Co and Cu, or fluoride of metal selected from Bi, Sn, Cu and Mo, and the hole transport layer 7 is structured of nickel oxide doped with Li.例文帳に追加

電子輸送層３が、酸化チタン又は酸化亜鉛から構成され、光吸収層５が、Ｃｏ及びＣｕから選ばれる金属の酸化物、又はＢｉ、Ｓｎ、Ｃｕ及びＭｏから選ばれる金属の硫化物から構成され、正孔輸送層７が、Ｌｉによってドープされた酸化ニッケルから構成される。 - 特許庁

The solder material includes: a tin-bismuth (Sn-Bi) alloy; copper (Cu); and an alloy represented by X-Y; wherein X is at least a metallic element selected from a metallic element group comprising Cu, Ni, and Sn and Y is at least a metallic element selected from a metallic element group comprising Ag, Au, Mg, Rh, Zn, Sb, Co, Li and Al.例文帳に追加

はんだ材料は、スズ-ビスマス（Ｓｎ-Ｂｉ）合金と、銅（Ｃｕ）と、Ｘ−Ｙで表記される合金、を含み、前記Ｘは、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｎからなる金属元素グループから選択される少なくとも１つの金属元素であり、前記Ｙは、Ａｇ、Ａｕ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｃｏ、Ｌｉ、Ａｌからなる金属元素グループから選択される少なくとも１つの金属元素である。 - 特許庁