PL5とは 意味・読み方・使い方

A holding means 12 holds a work 20 to be machined at a position which is irradiated with a pulse laser beam pl5 converged with the converging optical system.例文帳に追加

集光光学系で集光されたパルスレーザビームｐｌ_５が照射される位置に、保持手段１２が、被加工物２０を保持する。 - 特許庁

Further, it is preferable to adjust the optical characteristics of an illumination optical system IL and optical characteristics of projecting optical units PL1 to PL5, in response to a switchover of the wavelength filters 6, 7.例文帳に追加

また、波長選択フィルタ６，７の切り替えに応じて、照明光学系ＩＬの光学特性及び投影光学ユニットＰＬ１〜ＰＬ５各々の光学特性を調整することが好ましい。 - 特許庁

A space image measurement device 24 for measuring an amount of light applied on a plate P through each of projection optical system units PL1 and PL5 constituting a projection optical system PL and a dimming filter 7 for dimming light from a light source 1 during measurement using the space image measurement device 24 are provided.例文帳に追加

投影光学系ＰＬを構成する投影光学系ユニットＰＬ１〜ＰＬ５各々を介してプレートＰに照射される光の光量を計測する空間像計測装置２４と、空間像計測装置２４を用いた計測時に光源１からの光を減光する減光フィルタ７とを備える。 - 特許庁

Dimming filters 13b to 13f and variable dimming filters 14b to 14f for adjusting a dispersion in the amount of light via each of the projection optical system units PL1 to PL5 are provided between each of projection ends 11b to 11f of a light guide 11 and a mask M.例文帳に追加

また、ライトガイド１１の各々の射出端１１ｂ〜１１ｆとプマスクＭとの間に、投影光学系ユニットＰＬ１〜ＰＬ５各々を介した光の光量のばらつきを調整するための減光フィルタ１３ｂ〜１３ｆと可変減光フィルタ１４ｂ〜１４ｆとを備える。 - 特許庁

This exposure device has an illumination optical system (IL) for illuminating a mask (M) formed with prescribed patterns and the projection optical system (PL) having the plural projection optical units (PL1 to PL5) arranged along a prescribed direction and subjects the pattern images of the mask to projection aligning on a photosensitive substrate (P) by means of the projection optical system.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスク（Ｍ）を照明するための照明光学系（ＩＬ）と、所定方向に沿って配列された複数の投影光学ユニット（ＰＬ１〜ＰＬ５）を有する投影光学系（ＰＬ）とを備え、投影光学系を介してマスクのパターン像を感光性基板（Ｐ）へ投影露光する露光装置。 - 特許庁

In the aligner with the variable-pattern forming devices 10a to 10e forming transfer patterns and projection optical systems PL1 to PL5 projecting the images of the transfer patterns formed by the forming devices on a photosensitive substrate, the aligner has a reference-mark display means for displaying reference marks in the forming devices and a measuring means for measuring the positions of the reference marks.例文帳に追加

転写パターンを生成する可変パターン生成装置１０ａ〜１０ｅと、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備える。 - 特許庁