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Peripheral Depositionとは 意味・読み方・使い方
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「Peripheral Deposition」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 100件
To provide a plasma CVD film deposition method and a film deposition system where local discharge is hard to occur on the peripheral part of a susceptor.例文帳に追加
サセプタ周縁部に局部的な放電が生じ難いプラズマCVD成膜方法および成膜装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus and a film deposition method suitable for film deposition on an inner peripheral surface of a cylindrical body, and capable of suppressing damages caused by γ electrons.例文帳に追加
筒状体の内周面への成膜に適したものであって、かつγ電子によるダメージを抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus and a film deposition method capable of breaking the vacuum, reducing the cleaning frequency of a nozzle and a peripheral thereof, and achieving the film deposition of the high operation rate or the uniform film deposition.例文帳に追加
本発明は、前記真空を破壊し前記のノズル及び周辺のクリーニング頻度を少なくし、稼働率の高いまたは均一な成膜ができる成膜装置及び成膜方法を提供するものである。 - 特許庁
The reactive gas sticking to the peripheral part of the wafer 3 before deposition is moved in the r-direction to decrease the gas concentration at the peripheral part of decreasing deposition film thickness at the wafer's peripheral part and improving the evenness in film thickness.例文帳に追加
これゆえウェハ3の周辺部に付着し堆積しようとする反応ガスはr方向に移動され、周辺部のガス濃度が低下し、ウェハ周辺部分の堆積膜厚が減少して膜厚均一性を向上する。 - 特許庁
A PVD (physical vapor deposition) coating film of DLC (diamond-like carbon) or CrN is preferably formed between the peripheral grooves and the port.例文帳に追加
周溝とポート間に、DLC又はCrNのPVD被膜を形成するのがよい。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus capable of shortening its stop time needed for cleaning its electrodes and its peripheral part, thereby enhancing the production efficiency of a film deposition process, and to provide a film deposition system using the film deposition apparatus.例文帳に追加
成膜装置の電極およびその周辺部をクリーニングすることによる成膜装置の停止時間を短くすることができ、成膜工程の生産能率を高くすることができる成膜装置および成膜システムを提供する。 - 特許庁
To provide a deposition apparatus and a deposition method, capable of forming a co-deposited film having a uniform film thickness and a uniform dope concentration on an inner peripheral surface of a cylindrical body.例文帳に追加
筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。 - 特許庁
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「Peripheral Deposition」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 100件
To provide a technique of metallic film deposition using a gaseous phase raw material capable of reliably suppressing the deposition of the metallic film to a peripheral part of a semiconductor wafer.例文帳に追加
気相原料を使った金属膜の成膜技術であって、半導体ウェハ周辺部への金属膜の堆積を確実に抑制できる技術を提供する。 - 特許庁
Further, an erosion stop body 28 is provided around the vapor deposition material 25 to prevent a peripheral part from being eroded.例文帳に追加
また、蒸着材料25の周囲に浸食停止体28を設け、周辺部分が浸食されないようにする。 - 特許庁
PROCESS AND DEVICE WHICH PREVENT CARBON MONOXIDE POISONING IN PERIPHERAL EDGE OF SUBSTRATE IN THIN-FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
薄膜堆積システム内における基板の周辺端部での一酸化炭素中毒を抑制する方法及び装置 - 特許庁
The coating film 21 is formed around the entire peripheral surface of the bolt 15 including a male screw part 15a by chemical vapor deposition.例文帳に追加
コーティング膜21は、化学蒸着法により雄ネジ部15aを含めたボルト15の周面全体に形成されている。 - 特許庁
A danger degree evaluating section 23 decides that a mesh having a large difference from the deposition height of a peripheral mesh has high danger degree.例文帳に追加
危険度評価部23は、周辺のメッシュの堆積高との差が大きいメッシュについて、危険度が高いと判定する。 - 特許庁
To provide a cleaning method for a film deposition system by which a film deposited to the inside of a film deposition chamber can rapidly be removed under high pressure without damaging peripheral equipment and parts.例文帳に追加
周辺機器および部品を損傷させることなく成膜室の内部に付着した膜を高圧下で迅速に除去することができる成膜装置のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁
The method for depositing glass particulates on the peripheral surface of a glass rod 6 for a core by the OVD method and by moving a plurality of burners 4 arranged along the peripheral surface back and forth comprises performing the deposition of the glass particulate by evading the distance (Lmax) between the deposition surface at which the deposition rate of the glass particulate on the deposition surface is maximized and the front ends of the burners.例文帳に追加
外付け法(OVD法)によりコア用ガラス棒6の周面に、これに沿って配置した複数のバーナ4を往復移動させてガラス微粒子を堆積させる方法であって、堆積面におけるガラス微粒子の付着率が最大となる堆積表面とバーナ先端との距離(Lmax)を避けて、ガラス微粒子の堆積を行うことを特徴としている。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus capable of stabilizing film characteristics, even on an optical lens disposed at outer peripheral side of a dome.例文帳に追加
蒸着装置において、ドーム外周側に設置された光学レンズに対しても膜特性を安定させることを目的とする。 - 特許庁
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