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RECESS BY GRINDINGとは 意味・読み方・使い方
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「RECESS BY GRINDING」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
To secure an original area of a device forming region even after finishing grinding and to efficiently perform grinding without reducing the number of obtained semiconductor chips in grinding a rear face where a recess is formed by two-stage grinding for performing finishing grinding after rough grinding.例文帳に追加
粗研削後に仕上げ研削を施す2段階研削によって凹部を形成する裏面研削を行うにあたり、仕上げ研削後もデバイス形成領域の当初の面積を確保することができ、半導体チップの取得数の減少を招くことなく、効率的に研削加工を実施する。 - 特許庁
Or, the semiconductor substrate 10 is separated at the recess 14 by grinding from the side of the second surface 10b.例文帳に追加
あるいは、第2の面10b側からの研削により半導体基板10は凹部14において分断される。 - 特許庁
An inner side 5B of the recess 1A is previously ground by a finishing grinding stone wheel 45 of a finishing grinding unit 40B, and a base 4a is ground.例文帳に追加
次いで、仕上げ研削ユニット40Bの仕上げ研削砥石ホイール45によって凹部1Aの内周側面5Bを先に研削してから、続けて底面4aを研削する。 - 特許庁
To highly maintain flatness of a surface of a mask blank substrate by reducing stress remaining inside the mask blank substrate when a recess is formed on the rear side by grinding.例文帳に追加
裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を低減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。 - 特許庁
Then, a recess 12 is formed along a scribe line 11 from the surface of the semiconductor wafer 2, and then the semiconductor wafer is cut into individual pieces by carrying out backface grinding.例文帳に追加
続いて、半導体ウェーハ2の表面からスクライブライン11に沿って凹部12を形成した後に、裏面研磨を行って半導体ウェーハを個片化する。 - 特許庁
The recess 1A is formed in a region corresponding to the device forming region 4 at a rear face of a wafer 1 by a rough grinding stone wheel 45 of a rough grinding unit 40A, and a circular convex part 5A at a periphery is formed at the same time.例文帳に追加
粗研削ユニット40Aの粗研削砥石ホイール45によってウエーハ1の裏面のデバイス形成領域4に対応する領域に凹部1Aを形成し、同時にその周囲の環状凸部5Aを形成する。 - 特許庁
To provide a wafer grinding device capable of moving a holding plate in leaving and entering directions with respect to the recess of an outer frame member smoothly, by keeping the matching state of the centroid of a wafer and the center of rotation when moving the wafer held by a holding plate for grinding it.例文帳に追加
保持プレートに保持されたウェーハを移動させて研磨を施す際、ウェーハ重心と回転中心との一致状態を保持でき、保持プレートの外枠部材の凹部に対する出入方向の移動がスムーズに行えるウェーハ研磨装置を提供する。 - 特許庁
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「RECESS BY GRINDING」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
Then, the recess 20 is filled up with the through electrode film 33 made of a conductive material, and by grinding from the rear surface side of the silicon substrate 10, the conductive material in the recess 20 is exposed to the rear surface, and the through hold 33a is formed.例文帳に追加
次いで、凹部20内に導電性材料からなる貫通電極膜33を充填し、シリコン基板10裏面側から研磨することにより凹部20内の導電性材料を裏面に露出させて貫通電極33aを形成する。 - 特許庁
The concave 20 is shaped as two step configuration, and a shallow depth 22 of larger diameter of which is formed by accurate grinding with end mill of the periphery of the recess produced at the time of machining of the roller 1 with header.例文帳に追加
この凹部20は、2段構造となっており、大径の浅部22は、ころ1のヘッダ加工時に形成された逃げの周囲をエンドミル加工によって精密に研削したものである。 - 特許庁
In a method for forming the irregularities, recess grooves or pits are formed by a grinding method, a high-temperature reduction method or a selective method, and in addition, a projection of a triangular profile or the like is formed by selectively growing the semiconductor.例文帳に追加
上記凹凸を形成する方法は、研削法、高温還元法、選択的エッチング法などにより凹溝あるいはピットが形成される他、選択的に半導体を成長させることにより三角形状等の突起が形成される。 - 特許庁
In the ceramic substrate 21 having a plurality of recesses 24 extending in the referential direction with functional members operating functionally being bonded in these recesses 24, the recesses 24 are shaped by fabricating and calcinating and at least one surface of the recess 24 is a reference surface 25 planarized by grinding.例文帳に追加
基準方向に延びる複数の凹部24を有し、これら凹部24内に機能的に動作する機能部材を固着して用いるセラミック基板21において、前記凹部24の形状が成形及び焼成することにより形成され、当該凹部24の少なくとも一方面を研削により平坦化した基準面25とする。 - 特許庁
A gage diffusion resistance 3 and a circuit element 4 are formed on a first silicon substrate 11, a recess part is formed on a second silicon substrate 12 for forming the diaphragm 1, and an exposure part 15 where the second silicon substrate 12 is exposed is formed by grinding at the outer periphery part of an element and diaphragm forming area on the SOI substrate 10.例文帳に追加
第1のシリコン基板11にゲージ拡散抵抗3、回路素子4を形成し、第2のシリコン基板12に凹部を形成してダイヤフラム1を形成し、SOI基板10における素子及びダイヤフラム形成領域の外周部に、研削することにより第2のシリコン基板12が露出した露出部15を形成する。 - 特許庁
To easily manufacture a block copy with desired recess and projection processed by using a processed plate manufactured beforehand together with an integrated block copy, winding them on a cylinder of a processing grinder, and grinding in the manufacture of the block copy with desired recesses and projections to be used for an intaglio template cylinder of an intaglio printer.例文帳に追加
凹版印刷機の版胴用版下及びその製法並びに加工用型版に関する技術であり、凹版印刷機の凹版版胴において使用される所望の凹凸部を有する版下の作製において、一体物の版下材とともに、予め作製した加工用型版を用い、それらを加工用研削機のシリンダに巻き付け、研削することによって、所望の凹凸加工を施した版下を容易に得ることを目的とする。 - 特許庁
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