RF dischargeとは 意味・読み方・使い方

OPERATION METHOD AND SYSTEM FOR RESONANCE OPERATION OF HIGH PRESSURE LAMP IN LONGITUDINAL MODE UTILIZING RF CARRIER FREQUENCY, SYSTEM CONSISTING OF HIGH PRESSURE DISCHARGE LAMP AND EVG, AND EVG FOR RF OPERATION OF HIGH PRESSURE DISCHARGE LAMP例文帳に追加

高周波搬送波周波数を利用する縦モードにおける高圧ランプの共鳴動作のための動作方法及びシステム、高圧放電ランプ及びＥＶＧから成るシステム及び高圧放電ランプの高周波動作のためのＥＶＧ - 特許庁

To provide a multiplex tuning circuit for a nuclear magnetic resonance apparatus hardly generating a discharge accident even when a high-power RF injection is performed, by improving the withstand voltage property to an RF voltage of a resonance circuit.例文帳に追加

共振回路のＲＦ電圧に対する耐圧性を向上させて、高電力のＲＦ注入を行なっても、放電事故が起こりにくい核磁気共鳴装置の多重同調回路を提供する。 - 特許庁

A preceeding route RF is drawn with a proceeding nozzle NF by the main scanning of a preceeding discharge head and a following route RL is drawn with a following nozzle NL by the new line scanning of a following discharge head.例文帳に追加

先行吐出ヘッドの主走査によって、先行ノズルＮＦが先行経路ＲＦを描き、後続吐出ヘッドの改行走査によって、後続ノズルＮＬが後続経路ＲＬを描く。 - 特許庁

In an RF battery 100, a positive electrode electrolyte and a negative electrode electrolyte are supplied to a battery cell to charge and discharge the battery, the battery cell including a positive electrode 104, a negative electrode 105, and a barrier membrane 101 interposed between the both electrodes 104 and 105.例文帳に追加

RF電池100は、正極電極104と、負極電極105と、両電極104,105間に介在される隔膜101とを具える電池セルに正極電解液及び負極電解液を供給して充放電を行う。 - 特許庁

The preceeding discharge head selects a plurality of preceeding selecting nozzles NFs within the preceeding nozzles NF in an overlapping route RO overlapping the preceeding route RF and the following route RL to discharge the preceeding liquid drops.例文帳に追加

先行経路ＲＦと後続経路ＲＬとが重畳する重畳経路ＲＯにおいて、先行吐出ヘッドは、先行ノズルＮＦの中から複数の先行選択ノズルＮＦｓを選択して先行液滴を吐出する。 - 特許庁

To provide a thin film forming device, in a discharge system in which DC voltage and RF voltage are applied to a target in a superposing way, capable of suppressing the generation of abnormal discharge and swiftly returning the condition to the normal discharge one and to provide a thin film forming method.例文帳に追加

本発明は、ターゲットにＤＣ電圧とＲＦ電圧を重畳させて印加する放電方式において、異常放電の発生を抑制し、正規の放電状態への迅速な復帰が可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve or mitigate the problem of heat, the problem of circuit element breakage due to an electrical discharge spike, and the problem of an electromagnetic interference such as RF radiation, in a switching device.例文帳に追加

スイッチング装置において、上記の熱の問題、放電スパイクによる回路素子損傷の問題、ＲＦ放射等の電磁妨害の問題を解決あるいは軽減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method and a plasma etching device capable of reducing dust in the case of trigger discharge in an etching process for generating a high frequency plasma (RF plasma) by using a trigger discharging system.例文帳に追加

トリガー放電方式を用いて高周波プラズマ（ＲＦプラズマ）を発生させるエッチング工程において、トリガー放電の際の発塵を低減し得る半導体装置の製造方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁