alignment offsetとは 意味・読み方・使い方

This method of producing color filter has the features that the filter material is exposed with light having offset for the alignment target value.例文帳に追加

アライメントのねらいにオフセットをかけて露光することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 特許庁

The part under the N+ type part 131 of the gate electrode 13 is turned into an offset part 16 of self-alignment to the gate.例文帳に追加

ゲート電極１３のＮ^+ 型部分１３１下はゲートに自己整合的なオフセット部１６となる。 - 特許庁

To constantly maintain an alignment state in a positional relationship between a transfer drum and a printhead in an offset printing system.例文帳に追加

オフセット印刷システムの転写ドラムとプリントヘッドの位置関係を常に整列された状態に維持する。 - 特許庁

An offset management section 430 moves alignment data which overflows from the region by the insertion of the additional data between regions on the basis of an offset and updates the offset in such a manner that an address of a move destination of the alignment data becomes a starting point in a region of the move destination.例文帳に追加

オフセット管理部４３０は、追加データの挿入により領域内から溢れた整列データをオフセットに基づいて領域間で移動させ、整列データの移動先のアドレスが移動先の領域内の始点となるように前記オフセットを更新する。 - 特許庁

The position of the alignment mark on the substrate after alignment is subjected to coordinate transformation (step 304) by the shot offset component to obtain a deformation component of the mask or the substrate (step 305).例文帳に追加

位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置をショットオフセット成分により座標変換し（ステップ３０４）、マスク又は基板の変形成分を求める（ステップ３０５）。 - 特許庁

Under Linux 2.4, transfer sizes, and the alignment of user buffer and file offset must all be multiples of the logical block size of the file system.発音を聞く 例文帳に追加

Linux 2.4 では、転送サイズ、ユーザーバッファのアラインメント、ファイルオフセットは、ファイルシステムの論理ブロックサイズの倍数でなければならない。 - JM

The position of the alignment mark on the substrate excluding the deformation component and the shot offset component is obtained (step 306) to check whether or not the obtained position is within an allowable range from the position of the alignment mark on the mask after alignment (step 307).例文帳に追加

変形成分及びショットオフセット成分を除外した基板のアライメントマークの位置を求め（ステップ３０６）、求めた位置が位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置から許容範囲内にあるか確認する（ステップ３０７）。 - 特許庁

The second resist layer is suitably baked to form a symmetrical alignment mark in the second resist layer without or substantially without an offset error from the alignment mark in the first resist layer.例文帳に追加

第２のレジスト層を適切にベークすることによって、対称アライメントマークを第２のレジスト層内に、第１のレジスト層内のアライメントマークからのオフセットエラーなく、またはほとんどなく形成する。 - 特許庁