aqueous hf solutionとは 意味・読み方・使い方

After cleaning the surface of the silicon substrate 1, the silicon substrate 1 is dipped in an HF aqueous solution of a 0.5 vol% concentration to remove impurities and natural oxide films from the surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１の表面を洗浄した後、濃度０．５体積％のＨＦ水溶液に５分間浸漬し、シリコン基板１上の不純物及び自然酸化膜を除去する。 - 特許庁

After the surface of the silicon substrate is cleaned, the substrate is immersed in an aqueous solution HF of 0.5 vol% concentration, to remove impurities and a natural oxide film 9 on an active area 4.例文帳に追加

シリコン基板１の表面を洗浄した後、濃度０．５vol.％のＨＦ水溶液に５分間浸漬し、活性領域４上の不純物及び自然酸化膜９を除去する。 - 特許庁

Further, an HF aqueous solution is supplied onto the surface of the substrate, and the oxide film is etched to remove metallic foreign matters and particles in or on the oxide film.例文帳に追加

さらに、ＨＦ水溶液を半導体基板の表面に供給して上記酸化膜をエッチングして酸化膜中あるいは酸化膜上の金属系ゴミとパーティクルを除去する。 - 特許庁

Like a printer head of an ink jet printer, the discharge head section 12 is formed, linearly or zigzag, with a plurality of liquid discharge holes 16 for discharging an etchant such as an HF aqueous solution.例文帳に追加

吐出ヘッド部１２は、インクジェットプリンタのプリンタヘッドと同様に形成してあって、ＨＦ水溶液などのエッチング液を吐出する複数の液体吐出口１６が直線状または千鳥状に設けてある。 - 特許庁

Next, the Al-Hf alloy layer 3 (or the stacked body) is anodized in an acid aqueous solution to form a nanohole structure having nanoholes 8, and, if required, the nanoholes 8 are subjected to width expansion working by etching.例文帳に追加

次に、Ａｌ−Ｈｆ合金層３（又は、積層体）を酸水溶液中で陽極酸化してナノホール８を有するナノホール構造体を形成し、必要なら、エッチングによってナノホール８を拡幅加工する。 - 特許庁

And after a cleaning step with use of the HF aqueous solution and before the surface of the substrate is contaminated by the air, a cleaning solution of hydrophilization is supplied onto the surface of the substrate to form an oxide film on the substrate surface.例文帳に追加

そして、ＨＦ水溶液による洗浄工程の後に、空気によって半導体基板の表面が汚染される前に、半導体基板の表面に親水化用洗浄液を供給して半導体基板の表面に酸化膜を生成する。 - 特許庁

This is a method to clean a crude NF3 gas containing impurities such as HF, CO2, N2O and the like by water and/or aqueous alkaline solution and/or aqueous reducing solution and thereafter to remove water content from the NF3 gas containing moisture by liquefaction or solidification with a heat exchange refining device using liquid NF3 as cooling medium.例文帳に追加

ＨＦ、ＣＯ_2、Ｎ_2Ｏ等の不純物を含む粗ＮＦ_3ガスを、水又は／及びアルカリ水溶液または／及び還元性水溶液を用い洗浄、除去した後、この水分を含むＮＦ_3ガスを熱交換式の精製装置を用い、中の水分を液化もしくは固化して除去する方法に於いて、冷媒に液体ＮＦ_3を用いる。 - 特許庁

Besides a zirconyl chloride aqueous solution, other Zr compounds and water-soluble metal compounds of Ti, Hf, V, Nb, Ta, and rare earth metals (for example, Ce and La) can be used as the insolubilizing agent.例文帳に追加

不溶化剤としては塩化ジルコニル水溶液のほか他のＺｒ化合物並びにＴｉ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、および希土類金属（例えばＣｅ、Ｌａなど）の水溶性金属化合物を用いることができる。 - 特許庁