argon-containingとは 意味・読み方・使い方

Mixture gas containing xenon (Xe) and argon (Ar) is sealed as discharge gas in the plasma display panel, with a ratio of mixture ratio of argon to that of xenon of 1/1,000 or more and less than 1/5.例文帳に追加

放電ガスとしてキセノン（Ｘｅ）およびアルゴン（Ａｒ）を含む混合ガスを封入し、アルゴンの混合率とキセノンの混合率との比率を、１／１０００以上１／５未満としたプラズマディスプレイパネルである。 - 特許庁

When argon gas containing at least oxygen, hydrogen, carbon monoxide and nitrogen as impurities is purified, oxygen molar concentration in the argon gas is set to <1/2 of the sum of carbon monoxide molar concentration and hydrogen molar concentration.例文帳に追加

少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する際に、前記アルゴンガスにおける酸素モル濃度を一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の１／２未満に設定する。 - 特許庁

The vent gas is desirably gas containing nitrogen, helium, neon, argon and at least one kind of krypton or xenon.例文帳に追加

また、ベントガスは、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトンまたはキセノンの内の少なくとも一種を有するガスであることが好ましい。 - 特許庁

By guiding in the sublimated fullerene in the plasma stream, an argon-atom-containing fullerene is generated.例文帳に追加

このプラズマ流中に昇華したフラーレンを導入することにより、アルゴン原子内包フラーレンを生成する。 - 特許庁

When the ion flow and the plasma stream are joined, a plasma stream containing the argon ion Ar+ with a given energy is obtained.例文帳に追加

このイオン流とプラズマ流とを合流させたときに、所定のエネルギー有するアルゴンイオンAr+を含むプラズマ流が得られる。 - 特許庁

To provide a method of forming silicon nitride containing hydrogen less than 13 atomic %, using gaseous chemical substances argon(Ar), nitrogen (N2) and silane(SiH4).例文帳に追加

ガス状化学物質であるアルゴン（Ar）、窒素（N_2）、およびシラン（SiH_4）を使用して、水素含量が13原子パーセント未満の窒化珪素を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, the surface of the diamondlike carbon film is treated by an ion beam containing the similar gas and gaseous argon.例文帳に追加

あるいは同様のガスとアルゴンガスとを含むイオンビームにより、ダイヤモンド状炭素膜の表面を処理する。 - 特許庁

Mixed gas of silane (SiH_4) and argon (Ar) as noble gas and a gas containing nitrogen (N_2) are used as the source gases for film formation.例文帳に追加

成膜を行うための原料ガスとしてシラン（ＳｉＨ_４）に希ガスのアルゴン（Ａｒ）を加えた混合ガスと窒素（Ｎ_２）を含むガスが用いられる。 - 特許庁