beamletsとは 意味・読み方・使い方

To provide an electron beam lithographic method containing a plurality of beamlets which improves dose the accuracy, in an adjacent stripe boundary region where exposure is done in an overlapping manner.例文帳に追加

重なり露光される隣接したストライプの境界領域で照射量精度を向上する、複数ビームレットを含む電子ビームリソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

The porous plate has a plurality of openings formed in a first prescribed array pattern, a plurality of charged particle beamlets are formed from a charged particle beam in the downstream, and by the plurality of the beamlets, a plurality of beamlet spots arranged in a second prescribed array pattern are formed on an image plane of the particle optical device.例文帳に追加

前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。 - 特許庁

This invention relates to a dual function optical element capable of both diffracting laser light into beamlets and converging the beamlets (acting as a virtual lens for the laser light), thereby eliminating the need for a plurality of physical lenses to transfer the diffracted laser beams to a focusing lens.例文帳に追加

本発明は、レーザ光をビームレットに回折することと、（レーザ光に関して仮想のレンズとして働いて）ビームレットを収束させることとの両方が可能であり、それによって回折されたレーザビームをフォーカスレンズに転送するための複数の物理的なレンズの必要をなくす二重の機能を有する光学素子に関連する。 - 特許庁

This multi-beam source 101 for generating a plurality of beamlets 112 of energetic electrically charged particles comprises: an illumination system 102 generating an illuminating beam of charged particles; and a beam-forming system 103 being arranged behind the illumination system as seen in the direction of the beam, and adapted to form a plurality of telecentric or homocentric beamlets 112 out of the illuminating beam.例文帳に追加

エネルギ荷電粒子の複数のビームレット（１１２）を発生するためのマルチビーム源（１０１）は、荷電粒子の照明ビームを発生する照明システム（１０２）と、ビームの方向に見て照明システムの後に配置され、かつ照明ビームから複数のテレセントリックまたは均質なビームレット（１１２）を形成するように適応されたビーム形成システム（１０３）とを含む。 - 特許庁

A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target.例文帳に追加

粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置３００は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。 - 特許庁

The electrical zone device comprises a composite electrode 110 being composed of a plurality of substantially planar partial electrodes adapted to have different electrostatic potentials applied thereto and thus influence the beamlets.例文帳に追加

前記電気ゾーン装置は、異なる静電電位を印加されかつしたがってビームレットに影響を及ぼすように適応された複数の略平面状部分電極から構成される、複合電極（１１０）を含む。 - 特許庁

An opening array means (201) has a plurality of openings (210), although configured, to allow a subset of beamlets corresponding to one of the sets of apertures to pass through, but it does not have an opening (to allow the beam to pass through), at a position corresponding to the other sets of apertures.例文帳に追加

孔アレイ手段（２０１）は、開口のセットの１つに対応するビームレットの部分集合の通過のために構成される複数の孔（２１０）を有するが、他のセットの開口に対応する場所で孔（ビームを透過する）を欠いている。 - 特許庁

The exposure device has: an aperture array with multiple apertures of a same shape which define shapes and relative arrangement of beamls passing through the apertures; and a blanking means for switching off the travel of beamlets that have passed through the apertures to be defined and selected by them.例文帳に追加

アパーチャを透過するビームの形状および相対的配置を画定する同一の形状の複数のアパーチャを有するアパーチャアレイと、アパーチャを透過し、それらによって画定された選択されたビームレットの通過をスイッチオフするためのブランキング手段とを備える。 - 特許庁