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coater developerとは 意味・読み方・使い方
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coater developer
a blackleg
a tanner
a spinner
a cotton-spinner
a person who makes a tatami mat
a designer
a kite-flier
a founder
a tailor
〜の職人
a weaver
a dyer
「coater developer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 31件
LIQUID DEVELOPER COATER, DEVELOPING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS EQUIPPED WITH THE COATER例文帳に追加
液体現像剤の塗布装置、並びにこの塗布装置を備えた現像装置及び画像形成装置 - 特許庁
PHOTORESIST COATER, DEVELOPER AND STRIPPER AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
フォトレジスト塗布装置、現像装置と剥離装置および半導体基板の処理方法 - 特許庁
SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, COATER-DEVELOPER, EXPOSURE SYSTEM, AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
基板搬送装置、露光装置、コータ・デベロッパ装置、露光システム及び基板搬送方法並びにデバイス製造方法 - 特許庁
ALIGNER, COATER DEVELOPER, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM, DEVICE FABRICATING METHOD, SEMICONDUCTOR PRODUCING FACTORY AND METHOD FOR MAINTAINING ALIGNER例文帳に追加
露光装置、コートデベロップ装置、デバイス製造システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁
WORKPIECE PROCESSING SYSTEM, WORKPIECE PROCESSING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, COATER/DEVELOPER, COATING/DEVELOPING METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
物体処理システム、物体処理方法、露光装置、露光方法、塗布現像装置、塗布現像方法及びデバイス製造方法 - 特許庁
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「coater developer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 31件
The holder 10 is used to the thermal curing of resin for photolithography in a coater developer and the heat baking of a semiconductor insulating film.例文帳に追加
この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。 - 特許庁
The holder 10 is used for hot curing of a resin for photolithography at a coater developer or for hot baking of a semiconductor insulating film.例文帳に追加
この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。 - 特許庁
To provide a developer coater capable of forming a resist pattern of a constant line thickness and a film thickness by a simple structure.例文帳に追加
簡便な構造で、均一な線幅および膜厚を有するレジストパターンを形成することのできる現像液塗布装置を提供する。 - 特許庁
Between the processing chamber 3 which holds a mask M and the wafer W and the coater developer 8, a load lock chamber 5 and a carrying mechanism 9 are provided.例文帳に追加
マスクＭやウエハＷを保持する処理室３とコーターディベロッパー８の間にはロードロック室５と搬送機構９が設けられる。 - 特許庁
The holder 10 is used for hot curing of the resin for photolithography at a coater developer as well as for hot baking of a semiconductor insulating film.例文帳に追加
この保持体１０は、コータデベロッパでのフォトリソグラフィー用樹脂の加熱硬化又は半導体絶縁膜の加熱焼成に用いられる。 - 特許庁
The control unit 10 classifies conveyance operations of the conveying robot 12 at the time of conveying a substrate 90 between a coater developer device 20 and an exposure device 30 into one operation (first operation) which conveys the substrate 90 from the coater developer device 20 to the buffer 11, and the other operation (second operation).例文帳に追加
制御部１０は、コータ・デベロッパ装置２０と露光装置３０との間で基板９０を搬送する際の搬送ロボット１２の搬送動作を、コータ・デベロッパ装置２０からバッファ１１に基板９０を搬送する動作（第１動作）と、それ以外の動作（第２動作）とに分類する。 - 特許庁
To provide a treating device which can transfer an object to be treated between a resist coater/developer and an exposing device while destaticizing the object.例文帳に追加
被処理体を除電しつつ、レジスト塗布現像装置と露光装置との間で相互に被処理体を搬送することができる処理装置を提供すること。 - 特許庁
Two-story vacant cassette loading stages 20, 21 and a cassette transfer mechanism 22 are provided above a cassette loading stage 12 of a cassette carry-in-and-out section 10 of a coater/developer.例文帳に追加
塗布現像処理装置のカセット搬入出部１０のカセット載置台１２の上方に、２段の空カセット載置台２０、２１と、カセット移送機構２２が設けられる。 - 特許庁
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