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common maskとは 意味・読み方・使い方
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「common mask」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 73件
The shadow mask 14 is kept in a common mask stock area 15.例文帳に追加
シャドウマスク14は共用のマスクストックエリア15に保管しておく。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DECIDING MASK COMMON DEFECTS, AND METHOD AND DEVICE FOR MEASURING AND ELIMINATING MASK COMMON DEFECT CHIPS例文帳に追加
マスク共通欠陥判定の方法および装置ならびにマスク共通欠陥チップ測定除外の方法および装置 - 特許庁
No mask will have any bits set to 1 in common with any other mask or with any of the pixels.例文帳に追加
あるマスクが、他のマスクやピクセルと、1 に設定されたビットを共有することはない。 - XFree86
A mask data generating part 220 generates mask data 103 representing a part that is common to a log record.例文帳に追加
マスクデータ生成部220はログレコードに共通する部分を表すマスクデータ103を生成する。 - 特許庁
After applying of the blue phosphor, the panel 12a is transferred to a combination machine 23, and the shadow mask 14 kept in the common mask stock area 15 is combined with the shadow mask 14, and then is transported to a light exposure device 27 by a second common transferring means 25.例文帳に追加
青色の蛍光体塗布終了後は、パネル12a を合体機23まで搬送し、マスクストックエリア15に保管したシャドウマスク14と合体させ、共用の第2の搬送手段25で露光装置27に送る。 - 特許庁
The data bits, data mask bits, and checksum bits are transferred in a common frame.例文帳に追加
データ・ビット、データ・マスク・ビットおよびチェックサム・ビットは共通フレームにおいて転送される。 - 特許庁
In a series of dry etching, the resist mask RM1 is used as a common etching mask in the etching of each layer, and a common etching device is used for execution.例文帳に追加
この一連のドライエッチングに際しては、各層のエッチングにおいてレジストマスクRM1を共通のエッチングマスクとして使用し、共通のエッチング装置を用いて実行する。 - 特許庁
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「common mask」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 73件
The patterns of the mask A have a common pattern KP of the first pattern and second pattern and non- common patterns HP1 and HP2 different from the common pattern KP formed by connection to the common pattern KP.例文帳に追加
マスクAのパターンは、第1パターンと第2パターンとの共通パターンKPと、共通パターンKPと連続して形成され共通パターンKPとは異なる非共通パターンHP1,HP2とを有する。 - 特許庁
Thereby, a ROM write-in mask and a mask for a peripheral circuit can be made common and metal wiring can be performed by the same process.例文帳に追加
これによりROM書き込みマスクと周辺回路用マスクとを共通化し、同一の工程で金属配線をすることができる。 - 特許庁
The mask 10 is provided with blocks, where an alignment pattern in common to plural semiconductor devices, is formed.例文帳に追加
マスク10は、複数の半導体装置に共通する露光パターンが形成されたブロックを有する。 - 特許庁
The mask circuit masks, for a predetermined period of time, the setting data received by the antenna switch via the common data signal line.例文帳に追加
マスク回路は、アンテナスイッチが共通のデータ信号線を通じて受け取る設定データを、所定期間、マスクする。 - 特許庁
When three-color fluorescent faces are formed on inner surface of a panel, a shadow mask 14 is separated from the panel 12 using a common separator 13.例文帳に追加
パネル内面に3色蛍光面を形成する際、共用のセパレート機13でパネル12からシャドウマスク14を分離する。 - 特許庁
To provide a mask aid capable of smoothly preforming breathing or conversion by utilizing a commercial mask as it is without damaging a mask function for preventing the drying of a nose and the invasion of dust, pollen or a common cold virus.例文帳に追加
鼻の乾燥や埃、花粉、又は風邪によるウイルスの侵入を防ぐためのマスク機能を損なうことなく市販のマスクをそのまま利用して呼吸や会話が円滑に行うことが可能とするマスク補助具を提供する。 - 特許庁
A control section regards the reference hole for NC perforation pierced at the printed circuit board as the reference hole HH common to the front and the rear and aligns the mask MS for the front surface and mark MB for the rear surface of the mask films to the reference hole HH common to the front and the rear.例文帳に追加
制御部は、プリント基板に穿設されたNC穴あけ用基準穴を表裏共通基準穴HHと看做し、その表裏共通基準穴HHにマスクフィルムの表面用マークMSおよび裏面用マークMBを位置合わせする。 - 特許庁
Also, a common second metal cap layer 37 for covering a hard mask 32 and a second wiring 34 (second barrier metal 35 and second wiring layer 36) is laminated on the surface of the hard mask 32.例文帳に追加
また、ハードマスク32の表面に、ハードマスク32と、第2配線34(第2バリアメタル35及び第2配線層36)と、を覆う共通の第2メタルキャップ層37を積層した。 - 特許庁
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