意味 | 例文 (72件) |
common maskとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 共通マスク
「common mask」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 72件
The shadow mask 14 is kept in a common mask stock area 15.例文帳に追加
シャドウマスク14は共用のマスクストックエリア15に保管しておく。 - 特許庁
No mask will have any bits set to 1 in common with any other mask or with any of the pixels.例文帳に追加
あるマスクが、他のマスクやピクセルと、1 に設定されたビットを共有することはない。 - XFree86
METHOD AND DEVICE FOR DECIDING MASK COMMON DEFECTS, AND METHOD AND DEVICE FOR MEASURING AND ELIMINATING MASK COMMON DEFECT CHIPS例文帳に追加
マスク共通欠陥判定の方法および装置ならびにマスク共通欠陥チップ測定除外の方法および装置 - 特許庁
After applying of the blue phosphor, the panel 12a is transferred to a combination machine 23, and the shadow mask 14 kept in the common mask stock area 15 is combined with the shadow mask 14, and then is transported to a light exposure device 27 by a second common transferring means 25.例文帳に追加
青色の蛍光体塗布終了後は、パネル12a を合体機23まで搬送し、マスクストックエリア15に保管したシャドウマスク14と合体させ、共用の第2の搬送手段25で露光装置27に送る。 - 特許庁
Thereby, a ROM write-in mask and a mask for a peripheral circuit can be made common and metal wiring can be performed by the same process.例文帳に追加
これによりROM書き込みマスクと周辺回路用マスクとを共通化し、同一の工程で金属配線をすることができる。 - 特許庁
A mask data generating part 220 generates mask data 103 representing a part that is common to a log record.例文帳に追加
マスクデータ生成部220はログレコードに共通する部分を表すマスクデータ103を生成する。 - 特許庁
The mask 10 is provided with blocks, where an alignment pattern in common to plural semiconductor devices, is formed.例文帳に追加
マスク10は、複数の半導体装置に共通する露光パターンが形成されたブロックを有する。 - 特許庁
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「common mask」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 72件
The patterns of the mask A have a common pattern KP of the first pattern and second pattern and non- common patterns HP1 and HP2 different from the common pattern KP formed by connection to the common pattern KP.例文帳に追加
マスクAのパターンは、第1パターンと第2パターンとの共通パターンKPと、共通パターンKPと連続して形成され共通パターンKPとは異なる非共通パターンHP1,HP2とを有する。 - 特許庁
In a series of dry etching, the resist mask RM1 is used as a common etching mask in the etching of each layer, and a common etching device is used for execution.例文帳に追加
この一連のドライエッチングに際しては、各層のエッチングにおいてレジストマスクRM1を共通のエッチングマスクとして使用し、共通のエッチング装置を用いて実行する。 - 特許庁
To provide a mask aid capable of smoothly preforming breathing or conversion by utilizing a commercial mask as it is without damaging a mask function for preventing the drying of a nose and the invasion of dust, pollen or a common cold virus.例文帳に追加
鼻の乾燥や埃、花粉、又は風邪によるウイルスの侵入を防ぐためのマスク機能を損なうことなく市販のマスクをそのまま利用して呼吸や会話が円滑に行うことが可能とするマスク補助具を提供する。 - 特許庁
At least one part of the 1st patterns 53 and 55 and at least one part of the 2nd pattern 54 are a common pattern, and the common pattern 44 and non-common patterns 45a and 45b different from the common pattern 44 are formed as the 1st patterns 53 and 55 and the 2nd pattern 54 on the mask M.例文帳に追加
第1パターン53,55の少なくとも一部と第2パターン54の少なくとも一部とは共通のパターンであり、マスクMに、第1パターン53,55と第2パターン54として、共通パターン44と共通パターン44とは異なる非共通パターン45a,45bとを形成する。 - 特許庁
Furthermore, by specifying a distance between a pixel area and the wire, the common electrode is patterned, even with low-cost mask sputtering.例文帳に追加
さらに、画素エリアと配線の距離を規定する事で、コストの安いマスク・スパッタ法でもコモン電極のパターニングを行えるようにする。 - 特許庁
Thus, it becomes possible to correct dispersion of individual elements using a common mask and to manufacture highly accurate elements with a good yield.例文帳に追加
これにより、共通のマスクを使用して個々の素子の特性のばらつきを補正し、精度の高い素子を良好な歩留まりで作製することが可能になる。 - 特許庁
When three-color fluorescent faces are formed on inner surface of a panel, a shadow mask 14 is separated from the panel 12 using a common separator 13.例文帳に追加
パネル内面に3色蛍光面を形成する際、共用のセパレート機13でパネル12からシャドウマスク14を分離する。 - 特許庁
SYSTEM, METHOD, AND APPARATUS TO TRANSFER DATA AND DATA MASK BIT IN COMMON FRAME WITH SHARED ERROR BIT CODE例文帳に追加
共有されるエラー・ビット・コードをもつ共通フレームにおいてデータおよびデータ・マスク・ビットを転送するためのシステム、方法および装置 - 特許庁
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