compensate one for aとは 意味・読み方・使い方

Only one generation is set so as to be copied ('copy one generation') within a specified time after recording to compensate for the case, where the recording is interrupted for some nonconforming.例文帳に追加

記録後の所定時間以内は、一世代のみのコピーを認める（Copy One Generation）こととし、記録時の不備等で記録が中断した部分を補うようにする。 - 特許庁

To compensate for a gear shift in a group not in failure even if one of two of a shift actuator and a clutch actuator is in failure.例文帳に追加

2個のシフトアクチュエータおよびクラッチアクチュエータの一方が故障しても、故障していないグループ内での変速を補償する。 - 特許庁

Within a prescribed time period after recording, only copy-one-generation is allowed to compensate for interrupted parts of recording due to flaws in the midst of recording.例文帳に追加

記録後の所定時間以内は、一世代のみのコピーを認める（Copy One Generation）こととし、記録時の不備等で記録が中断した部分を補うようにする。 - 特許庁

A winch 20 of one stabilizer can be connected to a winch of an adjacent stabilizer so as to compensate for a failure of the device.例文帳に追加

１つの安定装置のウィンチ２０を、隣接する安定装置のウィンチに連結することができ、それゆえ装置が故障した場合にも補償が可能である。 - 特許庁

To compensate positional deviation of a drive table based on pitch error of a two-spindle machine tool device driving one drive table by motors for two spindles and ball screws.例文帳に追加

２軸のモータとボールねじによって、１つの駆動テーブルを駆動する２軸工作機械装置の、ピッチ誤差に基づく駆動テーブルの位置ずれを補償する。 - 特許庁

To provide a frequency change technique that adjusts an operating frequency of an electronic system to compensate for one or more aging electronic components.例文帳に追加

１つまたは複数の経年変化電子コンポーネントを補償するために電子システムの動作周波数を調整する周波数変更技法を提供することにある。 - 特許庁

To solve a problem that it is not easy to compensate for a shift caused by the size of ink drop when dots of large, intermediate and small ink drops are present mixedly in one main scanning line.例文帳に追加

一主走査ラインに大中小のインク滴によるドットが混在する場合にこれらインク滴の大きさによるずれを補償することは必ずしも容易ではない。 - 特許庁

A second mask pattern used in a second exposure process includes at least one localized adjustment to at least one feature thereof to compensate for scattering effects of the developed resist pattern that is present when the second exposure is performed.例文帳に追加

第２の露光工程で使用される第２のマスクパターンは、第２の露光が実行される時に存在する現像レジストパターンの散乱効果を補償するその少なくとも１つのフィーチャに対する少なくとも１つの局所調整を含む。 - 特許庁