composition of targetとは 意味・読み方・使い方

A composition target discrimination section 215 discriminates whether it is a composition target image or not for each of consecutive images based on the computed moving amount between images and the required moving amount, and an image composition section 216 creates a panoramic image with no overlap moving subjects by combining the composition target images.例文帳に追加

合成対象判別部２１５は、算出された画像間の移動量と必要移動量とに基づいて、連写画像のそれぞれについて合成対象画像であるか否かを判別し、画像合成部２１６が合成対象画像を合成することで、移動被写体が重なることのないパノラマ画像を生成する。 - 特許庁

An object control unit 241 moves a target object so as to be synchronized with the rhythm or the like of the music composition to be reproduced and displays the target object.例文帳に追加

オブジェクト制御部２４１は、再生する楽曲のリズム等と同調するように、目標オブジェクトを移動させて表示する。 - 特許庁

The composition resolution Rc is determined to be twofold or above of resolution of each image of an application target image group.例文帳に追加

この合成解像度Rcは、適用対象画像群の各画像の解像度の２倍以上に決定される。 - 特許庁

The sputtering target material is formed by solidification of the powder of the alloy composition.例文帳に追加

また、上記合金組成の粉末を固化成形したスパッタリングターゲット材。 - 特許庁

To provide a composition for a clay target and the clay target using the composition, capable of satisfying basic characteristics of the target, that is, the combination of strength and crushing performance while having a composition of a low environment load in comparison with a conventional composition for the target of clay shooting, and further improving productivity which has not been considered previously.例文帳に追加

従来提案されてきたクレー射撃の標的用組成物よりも環境負荷の少ない組成を有しつつ、強度および破砕性の両立という標的の基本特性を満足し、さらに、これまでは検討されていない生産性の向上をも実現する、クレー標的用組成物およびその組成物を用いてなるクレー標的を提供する。 - 特許庁

The amplification of the target analyte is also provided by the composition and process.例文帳に追加

ターゲット分析物の増幅もまた、本発明の組成物および方法によってもたらされる。 - 特許庁

To provide an easily sprayable spray agent having excellent retention of a composition on a spraying target.例文帳に追加

噴霧しやすく、噴霧対象に対する組成物の滞留性に優れたスプレー剤を提供する。 - 特許庁

The target material for sputtering is expressed by the composition of (Zr_x, Hf_1-x)Si_yO_2(1+y) (0≤x≤1, and 0.5≤y≤1.2).例文帳に追加

(Zr_x，Hf_1-x)Si_yO_2(1+y)(0≦x≦1、0.5≦y≦1.2)の組成で表されるスパッタリング用ターゲット。 - 特許庁