例文 (308件) |
composition of targetの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 308件
COMPOSITION FOR INHIBITING EXPRESSION OF TARGET GENE例文帳に追加
標的遺伝子の発現を抑制する組成物 - 特許庁
COMPOSITION FOR SUPPRESSING EXPRESSION OF TARGET GENE例文帳に追加
標的遺伝子の発現を抑制するための組成物 - 特許庁
FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS CAPABLE OF CONTROLLING COMPOSITION RATIO例文帳に追加
組成比制御が可能な対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁
The control part 10 selects a set of composition target images selected through the operation part 13 from the plurality of composition target images as composition target images used for the image composition.例文帳に追加
また制御部10は、それら複数の合成対象画像の中から、操作部13を通じて選ばれた一組の合成対象画像を、画像合成に使用する合成対象画像として選択する。 - 特許庁
To keep an air-fuel ratio at a target value regardless of fuel composition.例文帳に追加
燃料組成の如何にかかわらず、空燃比を目標空燃比に維持する。 - 特許庁
The target for sputtering has an alloy composition same as that of the thin film.例文帳に追加
この薄膜と同じ合金組成を有するスパッタリング用ターゲット。 - 特許庁
To form an alloy thin film having the same composition (the fluctuation degree of the composition is within 3%) as that of an alloy target on a base body without changing film deposition conditions until the target is completely used after the start of use of the target.例文帳に追加
ターゲット使用開始時から消費しきるまで成膜条件を変更することなく、合金ターゲットの組成と同じ組成(組成の変化率3%以内)の合金薄膜を基体に形成させることを可能にする。 - 特許庁
A composition target discrimination section 215 discriminates whether it is a composition target image or not for each of consecutive images based on the computed moving amount between images and the required moving amount, and an image composition section 216 creates a panoramic image with no overlap moving subjects by combining the composition target images.例文帳に追加
合成対象判別部215は、算出された画像間の移動量と必要移動量とに基づいて、連写画像のそれぞれについて合成対象画像であるか否かを判別し、画像合成部216が合成対象画像を合成することで、移動被写体が重なることのないパノラマ画像を生成する。 - 特許庁
An object control unit 241 moves a target object so as to be synchronized with the rhythm or the like of the music composition to be reproduced and displays the target object.例文帳に追加
オブジェクト制御部241は、再生する楽曲のリズム等と同調するように、目標オブジェクトを移動させて表示する。 - 特許庁
The composition resolution Rc is determined to be twofold or above of resolution of each image of an application target image group.例文帳に追加
この合成解像度Rcは、適用対象画像群の各画像の解像度の2倍以上に決定される。 - 特許庁
The sputtering target material is formed by solidification of the powder of the alloy composition.例文帳に追加
また、上記合金組成の粉末を固化成形したスパッタリングターゲット材。 - 特許庁
To provide a composition for a clay target and the clay target using the composition, capable of satisfying basic characteristics of the target, that is, the combination of strength and crushing performance while having a composition of a low environment load in comparison with a conventional composition for the target of clay shooting, and further improving productivity which has not been considered previously.例文帳に追加
従来提案されてきたクレー射撃の標的用組成物よりも環境負荷の少ない組成を有しつつ、強度および破砕性の両立という標的の基本特性を満足し、さらに、これまでは検討されていない生産性の向上をも実現する、クレー標的用組成物およびその組成物を用いてなるクレー標的を提供する。 - 特許庁
The amplification of the target analyte is also provided by the composition and process.例文帳に追加
ターゲット分析物の増幅もまた、本発明の組成物および方法によってもたらされる。 - 特許庁
To provide an easily sprayable spray agent having excellent retention of a composition on a spraying target.例文帳に追加
噴霧しやすく、噴霧対象に対する組成物の滞留性に優れたスプレー剤を提供する。 - 特許庁
The target material for sputtering is expressed by the composition of (Zr_x, Hf_1-x)Si_yO_2(1+y) (0≤x≤1, and 0.5≤y≤1.2).例文帳に追加
(Zr_x,Hf_1-x)Si_yO_2(1+y)(0≦x≦1、0.5≦y≦1.2)の組成で表されるスパッタリング用ターゲット。 - 特許庁
The Co powder sintered target has a composition containing, by atom, >10 to 25% B, and in which the amount of oxygen is controlled to ≤100 ppm.例文帳に追加
Bを10at%を超えて25at%以下含有し、酸素量が100ppm以下のCo系粉末焼結ターゲットである。 - 特許庁
To provide a composition, or the like, for inhibiting the expression of a target gene.例文帳に追加
本発明は、標的遺伝子の発現を抑制するための組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁
To keep consistency of retransmission/composition-target data blocks for normally continuing the communication.例文帳に追加
再送合成対象のデータブロックの整合性を維持して、通信を正常に継続する。 - 特許庁
To provide a body composition measuring device properly measuring change of body composition by time for a specific part of a target.例文帳に追加
被測定体の同一部位についての体組成の経時的な変化を適切に測定することのできる体組成測定装置を提供する。 - 特許庁
To certainly and efficiently sort glass with a target composition from glass cullet containing at least two kinds of glasses different in composition.例文帳に追加
組成の異なる少なくとも2種のガラスを含むガラスカレットから、目的組成のガラスを確実かつ効率的に選別する方法を提供する。 - 特許庁
Then, composition processing such as HDR composition is executed on the plural pieces of processing target image data (F107).例文帳に追加
そしてこの処理対象の複数の画像データについてHDR合成等の合成処理を実行する(F107)。 - 特許庁
To provide a fibrocyte suppressing composition useful for suppressing fibrocyte formation in target sites in kidney, and a method of using the composition.例文帳に追加
腎臓標的部位での線維細胞形成を抑制するのに有用な線維細胞抑制組成物、及び該組成物の使用方法の提供。 - 特許庁
A second composition part 56b sets the composition rate of the short exposure image to the target correction image for each pixel position.例文帳に追加
第2合成部56bは、画素位置ごとに目標補正画像に対する短露光画像の合成比率を設定する。 - 特許庁
The target 17 is sputtered by making the position of the electrode face 15a in the normal direction of the substrate S displaced into a "target electrode position" corresponding to a "target composition ratio Rp".例文帳に追加
そして、基板Sの法線方向における電極面15aの位置を、「目標組成比Rp」に対応する「目標電極位置」に変位させてターゲット17をスパッタする。 - 特許庁
The thin-film-forming apparatus forms the thin film so as to give it a composition ratio corresponding to the number ratio of the first target materials 29b_2, 29b_3 and 29b_4 to the second target material 29b_1, when using the sputtering target 29b.例文帳に追加
このスパッタ用ターゲット29bによって、第1ターゲット材29b_2,29b_3,29b_4と第2ターゲット材29b_1との数の比率に応じた組成比の薄膜を形成する。 - 特許庁
The composition ratio of the In-Ga-Se target 21 in terms of the element ratio (the ratio of the number of atoms) of Ga/(In+Ga) is 0.1-0.3.例文帳に追加
このとき、In-Ga-Se化合物ターゲット21の組成比として、Ga/(In+Ga)の元素比(原子数の比)は、0.1〜0.3とする。 - 特許庁
A target equivalence ratio TFBYA is made different before and after the detection of the composition change and set by a before-change enriching control quantity RS1 before the detection of the composition change, and set by an after-change enriching control quantity RS2 after the detection of the composition change.例文帳に追加
そして、組成変化検出前後で目標当量比TFBYAを異ならせ、組成変化検出前は、変化前リッチ化制御量RS1により、組成変化検出後は、変化後リッチ化制御量RS2により設定する。 - 特許庁
To suppress displacement of composition of a magnetic layer according to increase of integrated power of a target.例文帳に追加
ターゲットの積算電力の増加に応じて磁性層の組成が変位することを抑えることができるようにする。 - 特許庁
The second composition is the same as the design composition showing a target value of the constituting units α'_1 to α'_n-containing ratio in the polymer (P) and the first composition is a previously found composition taking the design composition and the reactivity of each monomer used in polymerization into consideration.例文帳に追加
第2の組成は、重合体(P)における構成単位α’_1〜α’_nの含有比率の目標値を表わす設計組成と同じであり、前記第1の組成は、該設計組成と、重合に用いられる各単量体の反応性を加味して予め求められた組成である。 - 特許庁
To provide a platinum group element - Mn based target combining particularly high coercive force wit property of reducing dispersion of composition by uniformization of structure.例文帳に追加
特に高い抗折力と組織均一化による組成ばらつきの低減特性とを併せ持った白金族-Mn系ターゲットを提供する。 - 特許庁
The composition constituted of persimmon tannin and citric acid is applied or blown to target wood to realize the enhancement of the ant-proof capacity of the wood.例文帳に追加
柿渋とクエン酸で構成する組成物を対象木材に塗布又は吹き付けすることにより、防蟻性能の向上を実現させる。 - 特許庁
The erosion part of the sputtering surface of the target material has <1.50 μm arithmetic average roughness Ra and the target material preferably has the composition consisting of 5≤Cr≤30 at.%, 5≤Pt≤30 at.% and the rest essentially consisting of Co.例文帳に追加
本発明はターゲット材のスパッタ面のエロージョン部における算術平均粗さRaが1.50μm未満であり、好ましい組成としては、5≦Cr≦30at%、5≦Pt≦30at%、残部実質的にCoとする。 - 特許庁
The sputtering target has a composition consisting essentially of titanium containing nitrogen in amounts of 30 ppm to 1 wt.% and/or titanium nitride and inevitable impurities.例文帳に追加
実質的に窒素を 30ppm〜 1重量% の範囲で含むチタンおよび/または窒化チタンおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットである。 - 特許庁
This target has a composition containing silicon dioxide of 10 to 30 mol%, boron oxide of 0.5 to 30 mol%, and the balance zinc chalcogenide.例文帳に追加
二酸化ケイ素:10〜30モル%、酸化ホウ素:0.5〜30モル%を含有し、残部がカルコゲン化亜鉛からなる組成を有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a fiber processing agent composition improved in adsorptivity of a hydrophobic compound on a surface of a target, such as a fiber product.例文帳に追加
繊維製品などの対象表面への疎水性化合物の吸着性を向上させた繊維処理剤組成物の提供。 - 特許庁
To provide an apparatus capable of controlling the composition ratio of a thin film when forming a compound thin film by the facing target type sputtering method.例文帳に追加
対向ターゲット式スパッタ法による化合物薄膜の作成において、薄膜の組成比を制御することのできる装置を提供する。 - 特許庁
The oxidized portion and the non-oxidized portion of the partially-oxidized layer are sputtered from the same target and have the same composition of metallic elements.例文帳に追加
部分酸化層の酸化部分および非酸化部分は、同じターゲットからスパッタリングされ、金属元素の組成が同じである。 - 特許庁
To provide a composition capable of sending siRNA efficiently into skin, and inhibiting the expression of a target gene efficiently by RNAi.例文帳に追加
siRNAを効率的に皮内に送達し、RNAiによって効率的に標的遺伝子の発現を抑制しうる組成物の提供。 - 特許庁
To provide a composition and method for analyzing a certain sample to determine existence of one or more kinds of target specimens.例文帳に追加
あるサンプルを、1種またはそれ以上の標的被検体の有無について分析するための、組成物および方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering target which can attain the prolongation of a service life, and the improvement of uniformity in a sputtering composition and a film thickness distribution.例文帳に追加
ターゲット寿命の延長とスパッタ組成及び膜厚分布の均一性向上とを達成できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
To easily modify a device composition in correspondence to type or state of an inspection target object and to prevent leakage of X-rays.例文帳に追加
被検査物の種類や状態に対応して装置構成を簡単に変更でき、X線の漏れを防止できること。 - 特許庁
The method for manufacturing the sputtering target includes preparing a plurality of plate-shaped target chips each of which is made of a metal oxide sintered compact having a first composition and has a surface to be sputtered.例文帳に追加
本発明の一形態に係るスパッタリングターゲットの製造方法は、第1の組成を有する金属酸化物焼結体からなる、被スパッタ面を有する複数の板状のターゲット片を準備することを含む。 - 特許庁
To provide a polishing composition capable of polishing a quickly polishing target material even if grain diameter of alumina is small, and reducing surface defect of the polishing target material after being polished.例文帳に追加
アルミナの粒径が小さくても迅速に研磨対象物を研磨することができ、尚かつ研磨後の研磨対象物の表面欠陥を低減することができる研磨用組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an internal control composition that does not reduce amplification performance of target gene and is widely useful regardless of kinds of target genes.例文帳に追加
標的遺伝子の増幅性能を低下させることがなく、しかも標的遺伝子の種類を問わずに広く使用することができる内部コントロールを提供する。 - 特許庁
The composition is used for treating solid tumor, inflammation, or wound in a target area, and comprised of a suspension of particles capable of being localized by being infused into the target area.例文帳に追加
組成物は、標的部位での固形腫瘍、炎症または創傷の処置における使用のためであり、そして標的部位への注入によって局在され得る注入可能な粒子の懸濁液から構成される。 - 特許庁
This sputtering target material has a composition comprising strontium ruthenate and one or two added sintering auxiliaries of CuO and GeO_2, and thereby has a density of the sputtering target enhanced into 80% or higher.例文帳に追加
ルテニウム酸ストロンチウムの組成物にCuO、GeO_2、のうち1種あるいは2種の焼結助剤を加えることによって、スパッタリングターゲットの密度を80%以上に高めることができる。 - 特許庁
To provide a composition for suppressing expression of a target gene, containing liposome enclosing DNA (such as antisence DNA) or RNA (such as siRNA), suppressing expression of the target gene.例文帳に追加
標的遺伝子の発現を抑制し得るDNA(例えばアンチセンスDNA等)又はRNA(例えばsiRNA等)が封入されたリポソームを含む、標的遺伝子の発現を抑制するための組成物を提供する。 - 特許庁
To obtain an aqueous composition containing primers for opposing strands of two or more target nucleic acids, usable in a polymerase chain reaction for simultaneously rapid and efficient amplification and detection of these target nucleic acids.例文帳に追加
2つ以上の標的核酸を同時に迅速且つ効率よく増幅及び検出するためにポリメラーゼ連鎖反応に使用できる、2つ以上の標的核酸の反対鎖に対するプライマーを含有する水性組成物を提供する。 - 特許庁
The sputter-deposition system includes a plurality of target cathodes, each of which comprises a target material having a different composition, that are powered by a single DC power supply.例文帳に追加
スパッタ堆積システムは、単一のDC電源によって電力が供給される、それぞれ異なる組成を有するターゲット材料からなる複数のターゲット陰極を備えている。 - 特許庁
To provide a target for depositing a magnetic film of a magnet-optical disk by which a magnetic film whose saturation magnetization is uniform in a radial direction within a magneto-optical disk face can be deposited without changing the composition of the target.例文帳に追加
飽和磁化が光磁気ディスク面内において半径方向に均一な磁性膜をターゲットの組成を変更することなしに成膜することができる光磁気ディスクの磁性膜形成用ターゲットを提供する。 - 特許庁
例文 (308件) |
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