corrected designとは 意味・読み方・使い方

A color value of each sub module of color design data is corrected on the basis of the value of a converted bit string resulting from reconversion of an inversely converted bit string resulting from inverse conversion of binary design data corresponding to the color design data.例文帳に追加

カラーデザインデータに対応する２値化デザインデータを逆変換した逆変換ビット列を更に変換した変換後ビット列の値を基準として、カラーデザインデータのサブモジュールごとの色値を補正する。 - 特許庁

A color value of each module of color design data is corrected on the basis of the value of a converted bit string resulting from reconversion of an inversely converted bit string resulting from inverse conversion of binary design data corresponding to the color design data.例文帳に追加

カラーデザインデータに対応する２値化デザインデータを逆変換した逆変換ビット列を更に変換した変換後ビット列の値を基準として、カラーデザインデータのモジュールごとの色値を補正する。 - 特許庁

When the test quality does not satisfy a target quality (step S16), the blend design information is corrected (step S18).例文帳に追加

試験品質が目標品質を満たさない場合（ステップＳ１６）、配合設計情報を修正する（ステップＳ１８）。 - 特許庁

To provide a method for outputting the number of updated lines in order to grasp how many lines are corrected in an execution step when picture design is corrected by a picture preparation tool.例文帳に追加

画面作成ツールでの画面設計の修正で、実行ステップの修正行がどの程度であるかを把握するための更新行数出力方法を提供する。 - 特許庁

When any problems occur during the design based on the design blueprint and the member list (data B) transmitted from the design designing machine 14, the production machine 16 corrects these problems and feeds the corrected data back to the design machine 14.例文帳に追加

生産マシン１６は、意匠設計マシン１４から伝達された意匠設計図および部材リスト（データＢ）に基づく設計中に、問題が生じた場合に、これらを修正し、修正されたデータを意匠設計マシン１４にフィードバックする。 - 特許庁

The method for inspecting a mask defect includes a process of generating referential data from the corrected mask design data D2 obtained by correcting (S10) data according to the exposure transfer pattern, and a process of measuring the actual pattern of the mask based on the corrected mask design data D2 to generate sensor data.例文帳に追加

露光転写パタンに基づき補正した（Ｓ１０）補正後マスク設計データＤ２から、参照データを作成し、補正後マスク設計データＤ２に基づくマスクの形状を実測してセンサデータを作成するマスク欠陥検査方法。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN DATA FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT, PHOTOMASK USING THE CORRECTED DESIGN PATTERN DATA, METHOD OF INSPECTING THE PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN DATA FOR PHOTOMASK INSPECTION例文帳に追加

半導体回路の設計パタンデータ補正方法と、補正された設計パタンデータを用いたフォトマスク、該フォトマスクの検査方法およびフォトマスク検査用パタンデータ作製方法 - 特許庁

Also, since the consistency is confirmed not by a back end but by the front end of logic design, the retrogression of design correction is reduced, power source inconsistency is detected more quickly and the design is quickly corrected.例文帳に追加

また、バックエンドではなく論理設計のフロントエンドで整合性を確認できるため、設計修正の後戻りが少なくなり、電源不整合をより早く検出して迅速に設計修正することが可能となる。 - 特許庁