deprotectedとは 意味・読み方・使い方

The highly fluorinated p-alkoxyphenyl type protective group is selectively deprotected in the presence of cerium (IV, II) ammonium nitrate and is stable in an oxidative or reductive reaction in an acidic or basic condition to remove a conventional highly fluorinated protective group.例文帳に追加

硝酸第二セリウムアンモニウム存在下で選択的に脱保護され、さらに、従来の高度にフッ素化された保護基が除去されてしまうような酸性や塩基性条件下、酸化や還元反応にも安定。 - 特許庁

Once the first group of DNA strands have been synthesized, the original deprotected group may then be further processed to build one or more groups of DNA strands in the same feature area as that of the first group of DNA strands.例文帳に追加

一旦DNA鎖の第1グループが合成されると、もとの脱保護基は、次に、DNA鎖の第1グループと同一の特徴領域にDNA鎖の1以上のグループを構築するために更に処理することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the polymer electrolyte moldings, a polymer electrolyte material containing an aromatic ring having a t-butyl group is molded, and then at least part of the t-butyl group contained in the moldings is deprotected.例文帳に追加

本発明の高分子電解質成型体の製造方法は、t-ブチル基を有する芳香環を含有する高分子電解質材料を成型した後、成型体に含有されるt-ブチル基の少なくとも一部を脱保護せしめることを特徴とするものである。 - 特許庁

In a method for manufacturing a polymer electrolyte molded body of the present invention, a polymer electrolyte material containing at least a protective group and an ionic group is molded, and then at least a part of the protective group contained in the molded body is deprotected.例文帳に追加

本発明の高分子電解質成型体の製造方法は、少なくとも保護基およびイオン性基を含有する高分子電解質材料を成型した後、成型体に含有される該保護基の少なくとも一部を脱保護せしめることを特徴とするものである。 - 特許庁

The Troc group of the 2-(2,2,2-trichloroethoxycarbonylamino)-2-deoxy-α-D-glucopyranoside produced by the invention can be deprotected under a specific reaction condition to form a free amino group, and the amino group can easily be acetylated and converted to an acetamido group.例文帳に追加

本発明によって製造できる2-(2,2,2-トリクロロエトキシカルボニルアミノ)-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシドのTroc基は、特異的な反応条件下で脱保護でき、アミノ基遊離にすることができ、またアミノ基は容易にアセチル化することができ、アセトアミド基に変換することが可能である。 - 特許庁

The invention relates to the process for deprotecting nitrogen of the reactive tetrazole of a compound containing a 2-(1-methyl-1-phenylethyl)-2H-tetrazolyl group, wherein the compound to be deprotected is subjected to a reaction with an anhydrous hydrohalic acid or an aqueous solution containing ≥20 wt.%. of the hydrohalic acid.例文帳に追加

２−（１−メチル−１−フェニルエチル）−２Ｈ−テトラゾリル基を含有する化合物中の反応性テトラゾール窒素を脱保護する方法であって、保護化合物を無水ハロゲン化水素酸または２０重量％より高い濃度のその水溶液と反応させることを含む方法。 - 特許庁

Further the halogen atom except the fluorine atom at the 2'-β position of the compound is reduced, a hydroxy group at the 5'-position is deprotected and, if required, protection, deprotection and modification of nucleic acid base are carried out to synthesize the objective nucleoside derivative fluorinated at the 3'-α position and deoxidized at the 2'-position.例文帳に追加

更にこの化合物の２’−β位のフッ素以外のハロゲン原子を還元し、５’位水酸基の脱保護を行い、必要に応じ核酸塩基の保護、脱保護、修飾を行うことにより、３’−α位がフッ素化され、２’位が脱オキシ化されたヌクレオシド誘導体を合成することができる。 - 特許庁

To provide a method for producing a 3-amino-4-substituted-5-pyrazolone providing preferable photographic performances, with which a benzoyl group of a 4-substituted-5-pyrazolone containing a benzoylamino group, which may contain a substituent group, at the 3-position is efficiently deprotected, productivity is high and a mass production can be carried out.例文帳に追加

置換基を有してもよいベンゾイルアミノ基を３−位に有する４−置換−５−ピラゾロン類のベンゾイル基を効率的に脱保護し、生産性が高く、大量製造が可能で、好ましい写真性を与える３−アミノ−４−置換−５−ピラゾロン類の製造方法を提供すること。 - 特許庁