diffusion profileとは 意味・読み方・使い方

Since the diffusion factor of arsenic (As) is small when compared with that of phosphorus (P), impurity diffusion (profile diffusion) by heat treatment in the manufacturing process is suppressed significantly when compared with a phosphorus-doped substrate by prior art.例文帳に追加

これによって、砒素（Ａｓ）の拡散係数がリン（Ｐ）に比べて小さいことから、従来手法によるリンドープ基板に比べて製造工程における熱処理による不純物拡散（プロファイル拡散）を大幅に抑制する。 - 特許庁

An inverse diffusion timing control means 104 generates and outputs inverse diffusion timing control information 123 based on delay profile generation result information, and a data demodulation inverse diffusion means 105 inversely diffuses the base band diffusion signal and outputs SIR information 124 of the reception signal.例文帳に追加

逆拡散タイミング制御手段１０４は、遅延プロファイル作成結果情報に基づいて逆拡散タイミング制御情報１２３を作成し出力し、データ復調用逆拡散手段１０５にベースバンド拡散信号を逆拡散させるとともに、受信信号のＳＩＲ情報１２４を出力させる。 - 特許庁

To provide an anisotropic diffusion medium for obtaining a special optical profile in a monolayer, which cannot be conventionally obtained.例文帳に追加

これまで得ることが出来なかった特殊な光学プロファイルが単層で得られる異方性拡散媒体の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate with a desired impurity profile by suppressing the diffusion of added impurities, and to provide a manufacturing method for the substrate.例文帳に追加

添加した不純物の拡散を抑制し、不純物プロファイルを所望のものにした半導体基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The photodiodes 10 are formed by using a diffusion layer, having a profile whose concentration and depth are each different.例文帳に追加

フォトダイオード１０は、それぞれ異なる濃度、深さのプロファイルを有する拡散層を用いて形成される。 - 特許庁

In the back gate region, a concentration profile is formed gently in a region for forming an N type diffusion region 25.例文帳に追加

そして、バックゲート領域では、Ｎ型の拡散層２５が形成される領域の濃度プロファイルを緩やかに形成する。 - 特許庁

The peak of a concentration profile on impurities comprising the diffusion layers 13, 13b and 13c exists in the depth of ≥0.04 μm from the surface of the substrate 12.例文帳に追加

拡散層１３，１３ｂ，１３ｃを構成する不純物の濃度プロファイルのピークは、基板１２の表面から０．０４μｍ以上の深さにある。 - 特許庁

A JD operation part 107 performs a JD operation by the delay profile to be inputted from the delay profile creation part 104 and the back diffusion/lake synthesizing part 106.例文帳に追加

ＪＤ演算部１０７は、遅延プロファイル作成部１０４から入力する遅延プロファイル及び逆拡散・レイク合成部１０６より、ＪＤ演算を行う。 - 特許庁