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意味・対訳 ドナー不純物


JST科学技術用語日英対訳辞書での「donor impurity」の意味

donor impurity


「donor impurity」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 34



例文

The donor impurity is at least any one of silicon and germanium.例文帳に追加

ドナー不純物は、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれかである。 - 特許庁

To provide an activation method that suppresses impurity diffusion while preventing oxygen from turning to a donor.例文帳に追加

酸素のドナー化を回避しつつ導入不純物を広がりを抑えて活性化する。 - 特許庁

The luminescent layer 13 is configured using group II-VI compound semiconductors containing a donor impurity and an acceptor impurity.例文帳に追加

発光層13は、ドナー不純物およびアクセプタ不純物をそれぞれ含有するII−VI族化合物半導体を用いて構成されている。 - 特許庁

In this case, impurity to form an N-type well 14 and the donor diffusing region 20 is less doped than the impurity to form the donor diffusing region 21.例文帳に追加

このとき、N型ウェル14及びドナー拡散領域20を形成するための不純物注入量を、ドナー拡散領域21を形成するための不純物注入量よりも少なくする。 - 特許庁

This electron emitter includes a donor impurity element in a surface of a diamond layer 24, and has an emitter layer 25 for emitting the electron.例文帳に追加

電子放出装置は、ダイヤモンド層24の表面にドナー不純物元素が含有されてなる、電子を放出するためのエミッタ層25を含む。 - 特許庁

Further, the contact resistance is decreased by allowing an impurity such as a donor or an acceptor to diffuse into the orientation flat part 5 mentioned above.例文帳に追加

また、上記オリエンテーションフラット部分5にドナー、アクセプタ等の不純物を拡散して接触抵抗値を小さくするようにする。 - 特許庁

例文

An intrinsic or substantially intrinsic semiconductor from which an impurity which is an electron donor (donor) is removed from an oxide semiconductor and has a larger energy gap than a silicon semiconductor is used.例文帳に追加

真性又は実質的に真性な半導体は、酸化物半導体中で電子供与体(ドナー)となる不純物を除去し、シリコン半導体よりもエネルギーギャップが大きいものを用いる。 - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「donor impurity」の意味

donor impurity


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「donor impurity」の意味

donor impurity


「donor impurity」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 34



例文

An impurity serving as an electron donor (a donor) which is contained in the stacked body of the oxide semiconductor is removed in a process of crystal growth, and therefore, the stacked body of the oxide semiconductor is highly purified and becomes an intrinsic semiconductor or a substantially intrinsic semiconductor whose carrier density is low.例文帳に追加

第1の結晶性を有する酸化物半導体膜及び第2の結晶性を有する酸化物半導体膜が積層された酸化物半導体積層体を有する縦型トランジスタ及び縦型ダイオードである。 - 特許庁

When TFTs whose drive voltages differ from each other to a polycrystal silicon film formed on a glass substrate are mixed and formed, in low-voltage driven TFTs, an acceptor has more impurity of a channel region or a donor has less impurity of the channel region, and in high-voltage driven TFTs, the donor has more impurity of the channel region or the acceptor has less impurity of the channel region.例文帳に追加

ガラス基板上に形成した多結晶シリコン膜に駆動電圧が異なるTFTを混載する際に、低電圧駆動TFTではチャネル領域の不純物をアクセプタがより多くなるようにしあるいはドナーがより少なくなるようにし、高電圧駆動TFTではチャネル領域の不純物をドナーがより多くなるようにしあるいはアクセプタがより少なくなるようにする。 - 特許庁

To control a concentration of a donor impurity or an acceptor impurity in a processing object in which a doping is carried out by using an ion doping system, and to reduce a dispersion of the concentration.例文帳に追加

イオンドーピング装置を用いてドーピングをおこなった被処理体中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の濃度を制御し、その濃度のばらつきを小さくする。 - 特許庁

An optical absorption coefficient of the codoped layer 13 is extremely larger than cases where only the impurity serving as the donor or only the impurity serving as the acceptor is added.例文帳に追加

共添加層13の光吸収係数は、ドナーとして働く不純物のみ、またはアクセプタとして働く不純物のみを添加した場合に比べて極めて大きくなる。 - 特許庁

At this time, a donor impurity is added at a concentration at which the formation of holes when the acceptor impurity used for forming the p-type AlGaN layer 107 is mixed in the intermediate layer 108 can be compensated.例文帳に追加

このとき、p−AlGaN層107を形成する際に用いられたアクセプタ不純物の、中間層108への混入によるホール発生を補償する濃度にドナー不純物を添加する。 - 特許庁

A first impurity generating a donor level or acceptor level in a semiconductor is introduced in upper and side parts of the fin type semiconductor regions 13, and a second impurity making the semiconductor into an insulator is further introduced in the upper parts of the fin type semiconductor regions 13.例文帳に追加

フィン型半導体領域13の上部及び側部には、半導体にドナー準位又はアクセプタ準位を生成する第1の不純物が導入されていると共に、フィン型半導体領域13の上部には、半導体を絶縁物化する第2の不純物がさらに導入されている。 - 特許庁

The electron density around the surface required for electron emission can be increased by adding a donor impurity around the surface of the aluminum boron gallium nitride.例文帳に追加

このように、窒化アルミニウムボロンガリウムの表面近くにドナー不純物を添加することにより、電界放出に必要な表面近傍の電子濃度を増加させることができる。 - 特許庁

例文

In the laminar region 67, a donor impurity along an axis that runs from the gallium nitride substance 63 to the gallium nitride epitaxial film 65 has a peak value of10^18 cm^-3 or over.例文帳に追加

層状領域67では、窒化ガリウム基板63から窒化ガリウムエピタキシャル膜65へ向かう軸に沿ったドナー不純物が1×10^18cm^−3以上のピーク値である。 - 特許庁

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