donor formationとは 意味・読み方・使い方

Thus, the thin film capacitor 10 high in permittivity and reliability (or a long life) is obtained by suppressing formation and movement of an oxygen defect through the donor-acceptor designing.例文帳に追加

また、ドナー・アクセプタ設計を行って酸素欠陥の生成と移動を抑制するため、誘電率及び信頼性（ないし寿命）が高い薄膜コンデンサ１０が得られる。 - 特許庁

In the formation of the mask pattern, a coating composition including the proton donor polymer, proton acceptor polymer, and a base is prepared to form the gel layer on the resist pattern.例文帳に追加

マスクパターンの形成において、レジストパターン上にゲル層を形成するために、陽子供与ポリマー、陽子受容ポリマー、及び塩基を含むコーティング組成物を準備する。 - 特許庁

The interstitial oxygen concentration of the silicon substrate is specified to be 1×10^18 cm^-3 or less for the reason that a degree of oxygen donor formation strongly depends on the interstitial oxygen concentration.例文帳に追加

単結晶シリコン基板の格子間酸素濃度を１×１０^１８ｃｍ^−３以下とするのは、酸素ドナーの形成の度合いが当該格子間酸素濃度に強く依存するためである。 - 特許庁

At this time, a donor impurity is added at a concentration at which the formation of holes when the acceptor impurity used for forming the p-type AlGaN layer 107 is mixed in the intermediate layer 108 can be compensated.例文帳に追加

このとき、ｐ−ＡｌＧａＮ層１０７を形成する際に用いられたアクセプタ不純物の、中間層１０８への混入によるホール発生を補償する濃度にドナー不純物を添加する。 - 特許庁

To manufacture a high resistance silicon wafer whose gettering performance and economical efficiency are excellent, capable of effectively suppressing the generation of an oxygen thermal donor by thermal treatment for circuit formation performed at a device maker side.例文帳に追加

ゲッタリング能及び経済性に優れ、しかもデバイスメーカーの側で実施される回路形成用熱処理での酸素サーマルドナーの発生を効果的に抑制できる高抵抗シリコンウエーハを製造する。 - 特許庁

An n type diffusion layer formation composition contains glass powder including a donor element and a dispersion medium and is formed so that the viscosity is equal to or more than 20 Pa s or equal to or less than 1000 Pa s at a temperature of 25°C.例文帳に追加

ｎ型拡散層形成組成物に、ドナー元素を含むガラス粉末と、分散媒と、を含有せしめ、２５℃における粘度が２０Ｐａ・ｓ以上１０００Ｐａ・ｓ以下となるように構成する。 - 特許庁

In order to carry out transfer by using the donor element 20, the position alignment with the element formation base plate is carried out and transferred, by using one alignment mark out of the plurality of alignment marks M1 to M3; afterwards, the transfer is carried out, by carrying out position alignment using another alignment mark to another element formation base plate.例文帳に追加

このドナー要素２０を用いて転写を行うには、複数のアライメントマークＭ１〜Ｍ３のうち一つを用いて素子作成用基板との位置合わせを行って転写した後、別の素子作成用基板に対して別のアライメントマークを用いた位置合わせを行って転写を行う。 - 特許庁

The formation methods for the p--channel area include a multiple injection method to inject an reduced amount to the vicinity of surface, a compensation method to inject donor impurities to the p-base area, an epitaxial growth method, etc.例文帳に追加

ｐ^- チャネル領域の形成方法としては、表面付近の注入量を減らした多重注入法、ｐベース領域へのドナー不純物の注入による補償法、エピタキシャル成長による方法等がある。 - 特許庁