during the application processとは 意味・読み方・使い方

To provide magnetic layer thickness measuring instrument which calculates the magnetically effective film thickness of a magnetic recording medium in real time, during a coating application process.例文帳に追加

塗布工程中リアルタイムに磁気記録媒体の磁気的に有効な膜厚を算出する磁性層厚み測定装置を提供する。 - 特許庁

During transition to a paused state, the snap shop of a main storage device is acquired by process and application units, and during recovery from the paused state, the acquired snap shop is preferentially restored to a main storage device from the snap shot of the process or application to be imposed on a program necessary for the start of an own device.例文帳に追加

休止状態への移行時に、主記憶装置のスナップショットをプロセス及びアプリケーションの単位で取得し、休止状態からの復帰時に、取得したスナップショットのうち、自己の装置の起動に必要なプログラムにかかるプロセス又はアプリケーションのスナップショットから優先的に主記憶装置に復元する。 - 特許庁

The method includes a pre-baking process of heating the sapphire substrate at a temperature higher than that during the irradiation with the ultraviolet rays after the application of the photoresist and before the irradiation with the ultraviolet rays, and a post-baking process of heating the sapphire substrate at a temperature higher than that during the pre-baking process after the irradiation with the ultraviolet rays and before the dry etching.例文帳に追加

本発明の方法は、フォトレジストを塗布した後、紫外線光を照射する前に前記紫外線光の照射時よりも高い温度で前記サファイア基板を加熱するプリベーク工程と、紫外線光を照射した後、ドライエッチングする前に前記サファイア基板をプリベーク工程よりも高い温度で加熱するポストベーク工程を有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display wherein a substrate hardly comes off in spite of application of a force which strips off the substrate, from its four corners during manufacturing process or the like.例文帳に追加

製造工程中などに、四隅からめくられるような力が加わって基盤が剥離しにくい表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the generation of air bubbles for dip coating during a coating process and to fully practically avoid the occurrence of coating film defects in various kinds of application objects, such as photoreceptors.例文帳に追加

塗工工程中の気泡の発生を抑制し、感光体等の各種塗布体における塗膜欠陥の発生を実用上充分に回避する。 - 特許庁

Each application increments the corresponding counter at a constant cycle during normal processing or at preset termination of a process.例文帳に追加

各アプリケーションは、その正常処理中に一定周期または予め設定された処理の終了で対応つけられたカウンタをインクリメントする。 - 特許庁

In a resist application process which is one among photolithographic processes in a semiconductor manufacturing process, or the like, gas composed of the air or nitrogen is blown against a prescribed region of a semiconductor wafer 1 during the process of applying a chemical such as a photoresist.例文帳に追加

半導体製造プロセスに於けるフォトリソグラフィープロセスの１つであるレジスト塗布工程等において、フォトレジストなどの薬液塗布処理中における半導体ウェハ１の所定の領域上にエアー又は窒素からなる気体を吹き付ける。 - 特許庁

During conducting of this process, an application type film formation apparatus is used which is provided with a gas blow nozzle 7 having the function of blowing gas composed of the air or nitrogen against a specified region.例文帳に追加

この処理を行うに際して、所定の領域に気体吹き付ける機能を持ったエアー又は窒素からなる気体ブローノズル７を具備する塗布型成膜装置を用いる。 - 特許庁