exposure linesとは 意味・読み方・使い方

An actuator 17 continuously moves the substrate W relative to the exposure unit, while the exposure unit 10 exposes the parallel lines on the target areas on the substrate.例文帳に追加

露光ユニット１０が基板の目標領域に平行ラインを露光しているときに、アクチュエータ１７が露光ユニットに対して基板Ｗを連続的に移動する。 - 特許庁

By using a mask as an embodiment of the present invention to carry out exposure, as the exposure light quantity decreases toward the end part of the mask (shown by dotted lines in Fig.4(b)), the exposure light transmitting the adjacent mask is superposed so as to obtain an appropriate exposure light quantity even at the end part of the exposure region.例文帳に追加

本実施の形態のマスクを用いて露光を行うと、マスクの端部側に向かうにつれて露光量が減少する（図４（ｂ）の点線参照）から、隣接するマスクを透過する露光光を重畳することで、露光領域の端部であっても適切な露光量を得ることができる。 - 特許庁

By establishing like this, the double exposure part is not overlapped with a storage capacitance or signal lines.例文帳に追加

このように設定することによって、二重露光部が蓄積容量や信号線と重ならないように設定する。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus which can reduce non-uniform exposure that may occur in performing exposure by a combination of an electronic front-curtain shutter and a mechanical rear-curtain shutter in units of multiple lines.例文帳に追加

複数ライン単位の電子先幕シャッタとメカニカル後幕シャッタとを組み合わせて露光を行うことにより発生する露光ムラを低減し得る撮像装置を提供する。 - 特許庁

To increase the life time of an exposure light source and to prolong the period in the exchange cycle to reduce the cost in an exposure method for exposing, by an exposing unit having a plurality of exposure head lines arranged in the sub scanning direction.例文帳に追加

複数の露光ヘッド列が副走査方向に配列された露光部により露光を行う露光方法において、露光光源の寿命を長くして交換サイクルを延ばすことによりコストの削減を図る。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having an improving effect on a margin for exposure (particularly through isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, less liable to a change of the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To correct the exposure noise in the image sensor which can be addressed in lines and columns, and to maximally correct FPN at a low cost.例文帳に追加

ライン・アドレス及びカラム・アドレス可能な画像センサーで露光ノイズを修正し、低コストでＦＰＮを最大限修正する。 - 特許庁