exposure linesとは 意味・読み方・使い方

To provide a positive type photoresist composition which has an improved effect on a margin for exposure (particularly a margin for the exposure of isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, which is less liable to cause a change of the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

An optical scanning part 500 makes an adjustment for narrowing a time difference exposure area causing the occurrence of density irregularities due to a reciprocity failure by widening an interval between main scanning lines in the Nth exposure scanning and the (N+1)th exposure scanning.例文帳に追加

光走査部５００は、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査における主走査ラインの間隔を広くすることで、相反則不軌よる濃度ムラの発生の原因となる時差露光領域を狭める調整を施す。 - 特許庁

To increase the life time of an exposure light source and to prolong the period in the exchange cycle to reduce the cost in an exposure method for exposing, by an exposing unit having a plurality of exposure head lines arranged in the sub scanning direction.例文帳に追加

複数の露光ヘッド列が副走査方向に配列された露光部により露光を行う露光方法において、露光光源の寿命を長くして交換サイクルを延ばすことによりコストの削減を図る。 - 特許庁

This can accurately detect the unevenness of exposure by a cyclic stripe pattern caused by the unevenness of exposure when the exposure start timing of adjacent odd/even lines is largely out of misalignment and the unevenness of exposure results from the other flash firing or the like occurs in one frame image (step S24).例文帳に追加

これにより、隣接する奇数／偶数ラインの露光開始タイミングが大きくずれ、他者のフラッシュ発光等に起因する露光ムラが１フレームの画像に発生する場合には、その露光ムラは周期的な縞模様になるため、露光ムラを精度よく検出することができる（ステップＳ２４）。 - 特許庁

Exposure times for prescribed lines before the N-th image frame managed by RAM 30c are averaged out for each shutter part, so that an average value is obtained.例文帳に追加

ＲＡＭ３０ｃに管理されているＮ番目の画像コマ以前の所定行分の露光時間をシャッタ部毎に平均化して平均値を得る。 - 特許庁

Reticles are aligned on the substrate layer (225), a photoresist is subjected to a first exposure (230), and a first pair of photoresist lines are formed.例文帳に追加

レチクルは基板層に整列され（２２５）、フォトレジストは第１回目の露光をされ（２３０）、第１の対のフォトレジストラインを形成する。 - 特許庁

When a required dot pitch in the subscanning direction is r and a pitch of scanning lines is R, multiple exposure frequency N is made to be N=(R/r)×m.例文帳に追加

副走査方向の必要なドットピッチがｒであるとき、走査線のピッチがＲであれば、多重露光回数Ｎを、Ｎ＝（Ｒ／ｒ）×ｍとする。 - 特許庁