far‐ultraviolet lightの英語

To provide an integrating sphere excellent in measuring precision for light in a far ultraviolet vacuum ultraviolet range, and a spectrometric instrument using the integrating sphere.例文帳に追加

遠紫外・真空紫外領域の光の測定精度の優れた積分球、それを用いた分光測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photometric device that is superior in the measurement accuracy of light in the ultraviolet region, especially a far-ultraviolet/vacuum ultraviolet region, and to provide a photometric method.例文帳に追加

紫外領域の光、特に遠紫外、真空紫外領域において、測定精度の優れた光測定装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A space 30 for passing exposure light of far ultraviolet ray or the like is surrounded by the purge chamber 8.例文帳に追加

遠紫外光等の露光光が通過する空間３０がパージチャンバ８によって取り囲まれている。 - 特許庁

The subject apparatus is constituted so that oxygen gas for attenuating a far ultraviolet light is fed around respective recording heads 15k, 15c, 15m and 15y with a plurality of nozzles jetting respective photo-curable inks KCMY to be curable with the far ultraviolet light emitted from an UV lamp 16 as ink drops toward a recording medium 11.例文帳に追加

ＵＶランプ１６から放射される遠紫外光により硬化するＫＣＭＹの各光硬化性インクをインク滴として記録媒体１１に向けて吐出す複数のノズルを有する各記録ヘッド１５ｋ、１５ｃ、１５ｍ、１５ｙの周囲に遠紫外光を減衰させる酸素ガスを供給する。 - 特許庁

Alternatively, the optical probe comprises the optical material having the light transmission characteristic in the far ultraviolet range, and has a face for total-reflecting the light having the critical angle or more of incident angle in the side contacting with the sample, and a refractive index in the vicinity of the face is higher than that of other portion in the far ultraviolet range.例文帳に追加

または、光学プローブは、遠紫外域で光透過特性を有する光学材料からなり、試料と接する側に、臨界角以上の入射角の光を全反射する面を有し、この面の近傍での屈折率が、遠紫外域において他の部分の屈折率より高い。 - 特許庁

In this method, light or radiation may be visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, vacuum ultraviolet light, X-rays, γ-rays, electron beams or ion beam.例文帳に追加

本発明において光または放射線とは可視光、紫外光、遠紫外光、真空紫外光、Ｘ線、γ線、電子線、イオン線等を含むものである。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a photosensitive or radiation sensitive composition having satisfactory sensitivity to light and suitable for lithography using short-wavelength light such as far ultraviolet light.例文帳に追加

光に対する感度が十分あり、遠紫外光等の短波長光を用いたリソグラフィには適した光または放射線感応性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition suitable for far ultraviolet light, particularly KrF excimer laser light, not causing the problem of development defects and excellent in stability in a semiconductor producing process.例文帳に追加

遠紫外光、特にＫｒＦエキシマレーザー光に好適で、現像欠陥の問題を生じず、しかも半導体製造プロセス上、安定性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁