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film resist orとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 膜抵抗器; 皮膜抵抗器
「film resist or」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 628件
Finally, the resist film 700 is removed by using an oxygen plasma or a resist peeling liquid, etc. (Fig.3(d)).例文帳に追加
最後に、レジスト膜７００を酸素プラズマやレジスト剥離液等を用いて除去する（図３（ｄ））。 - 特許庁
To provide an additive which can easily clean at a low temperature and in a short period of time a resist film applied on an inorganic substrate, the resist film remaining after etching the resist film applied on the inorganic substrate, or the resist residue or the like remaining by performing ashing after etching the resist film.例文帳に追加
無機質基体上に塗布されたレジスト膜、または無機質基体上に塗布されたレジスト膜をエッチング後に残存するレジスト膜、あるいはレジスト膜をエッチング後にアッシングを行い残存するレジスト残渣物等を低温、短時間で容易に洗浄できるようにする添加剤を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist film on a wafer, or an wafer laminator, in which a thick resist film as well as a thin resist film can be formed continuously with constant thickness while suppressing generation of useless resist.例文帳に追加
無駄なレジストの発生量を抑えるとともに、薄い膜は勿論厚いものであっても膜厚一定で連続的にレジスト膜を形成することができるウエハーへのレジスト膜形成方法あるいはウエハーラミネーターを提供する。 - 特許庁
To provide a method of processing a substrate which is capable of removing a resist film hard of detachment without causing damage to the substrate or a film serving as the underlying material of the resist film.例文帳に追加
難剥離性のレジスト膜をその下地となっている基板や膜に損傷を与えずに除去する基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dry film resist roll which suppresses resist exudation and is excellent in adhesion and resolution, as a resist material such as an etching resist or a plating resist.例文帳に追加
エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として、レジストのしみ出しが抑制され、かつ密着解像性に優れたドライフィルムレジストロールの提供。 - 特許庁
Subsequently, a barrier film 103 is formed on the resist film 102, the barrier film preventing the elution of the component in the resist film into the immersion liquid or preventing the permeation of the immersion liquid into the resist film 102.例文帳に追加
続いて、レジスト膜１０２の上に、レジスト膜中の成分が液浸用の液体に溶出すること又は液浸用の液体がレジスト膜１０２中に浸透することを防止するバリア膜１０３を形成する。 - 特許庁
A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.例文帳に追加
そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。 - 特許庁
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「film resist or」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 628件
To reduce the amounts of coating of coating liquid at formation of a reflection preventing film or a resist film at formation of a resist pattern.例文帳に追加
レジストパタ−ン形成の際の、反射防止膜形成やレジスト膜形成の際に、塗布液の塗布量の低減化を図ること。 - 特許庁
At that time, the plane shape resist coating film 100 contacts to or is integrated into a line shape resist coating film 76 in a process of spreading toward the outside of the substrate G, an outer edge position of the plane shape resist coating film 100 is defined by the line shape resist coating film 76, and at the same time, the film thickness is also controlled.例文帳に追加
その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 - 特許庁
An alcohol solvent and/or an ether solvent is used as a pre-wetting agent, which is a solvent to be applied or sprayed on a resist film before applying a composition for forming a resist protective film on the resist film to form a resist protective film.例文帳に追加
レジスト膜上にレジスト保護膜形成用組成物を塗布し、レジスト保護膜を形成する前に、前記レジスト膜上に塗布又は散布される溶剤であるプリウェット剤として、アルコール系溶剤及び／又はエーテル系溶剤を用いる。 - 特許庁
The substrate with the first resist film formed thereon is heated at a temperature equal to or higher than a glass transition point of a resin contained in the first resist film in post-application heat treatment to be executed after the first resist film forming processing or post-exposure heat treatment to be executed after exposure treatment for the first resist film.例文帳に追加
ただし、第１レジスト膜形成処理後に行われる塗布後加熱処理、もしくは、第１レジスト膜に対する露光処理後に行われる露光後熱処理において、第１レジスト膜が形成された基板を第１レジスト材料に含まれる樹脂のガラス転移点以上の温度で加熱する。 - 特許庁
A diamond-like carbon(DLC) film 4 or photo-resist is used for the protective film.例文帳に追加
保護膜には、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜や、フォトレジストが使用できる。 - 特許庁
Photosensitive dry film resist or a thermocompression bonding film is used for masking the holes not to be filled.例文帳に追加
埋めない穴のマスキングに感光性ドライフィルムレジスト、または熱圧着性フィルムを用いる。 - 特許庁
To improve quality and yield by forming a resist film uniformly in a resist film forming device for forming a resist film on a surface during a processing step of a photomask or a wafer.例文帳に追加
本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関し、レジスト膜形成の均一化を図り、品質向上、歩留り向上を図ることを目的とする。 - 特許庁
To prevent contamination of a side face in forming a resist film, to reduce processes and to improve a yield, in relation to a device for forming a resist film for forming the resist film on a surface in a processing process of a photomask or a wafer.例文帳に追加
本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関し、ジスト膜形成に側面の汚染を防止し、工程の削減、歩留りの向上を図ることを目的とする。 - 特許庁
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